低分子シロキサンの確認手法!どの程度の発生量であるかなども分析可能
シリコーン製品から発生する低分子シロキサンが電子部品の接点周囲に 存在すると、電気火花の熱により絶縁物である二酸化ケイ素を生じ、 接点障害を引き起こす事が知られています。 こちらでは、低分子シロキサンの確認手法としてHS-GCMSによる アウトガス定量分析をご紹介。 HS-GCMS分析は、使用している電子部品の周辺に低分子シロキサンを 発生させるような部材が無いか、またどの程度の発生量であるかの分析が 可能です。サンプルサイズや条件など、お気軽にお問い合わせください。 【シリコーン系粘着テープのHS-GCMS分析】 ■シリコーン系粘着剤を使用しているテープをバイアル瓶に封入 ■130℃で30分加温した後、発生したアウトガスをヘッドスペースGCMSにて分析 ■検出された低分子シロキサンについては、環状シロキサンD5換算にて 定量を行った ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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【用途】 ■低分子シロキサン定量分析 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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アイテスは、日本アイ・ビー・エム野洲事業所の品質保証部門を母体として1993年に設立されました。 日本アイ・ビー・エム野洲事業所での最先端電子部品の不良解析・信頼性保証で培った技術力を基盤にして、半導体、ディスプレイ、有機EL、太陽電池、電子部品の開発・製造を支える様々な商品、サービスを国内、海外のお客様へ提供してまいりました。