高発生力&高精度ピエゾリニアステージ N-332
ピエゾWalk駆動による、ストローク25mm以上のリニアステージ
・トラベルレンジ:25mmと50mmタイプ ・75 N のアクティブフォース ・3 nm ミニマムインクリメンタルモーション ・電源オフ時のセルフロッキング ・多軸セットアップ対応:XY、XZ、XYZ ・真空対応
- 企業:ピーアイ・ジャパン株式会社
- 価格:応相談
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ピエゾWalk駆動による、ストローク25mm以上のリニアステージ
・トラベルレンジ:25mmと50mmタイプ ・75 N のアクティブフォース ・3 nm ミニマムインクリメンタルモーション ・電源オフ時のセルフロッキング ・多軸セットアップ対応:XY、XZ、XYZ ・真空対応
光学顕微鏡の高精度走査に。サブナノ分解能と高発生力を両立するPICMAWalkドライブ
光学顕微鏡における高倍率観察や広範囲走査では、ナノ~サブナノメートルレベルの位置決め精度と高い安定性が求められます。特に、長時間観察や高解像度イメージングでは、振動やドリフトの影響を最小限に抑える高剛性ステージが不可欠です。N-332は、PICMAWalkドライブにより、これらの課題を解決します。 高発生力・長ストローク・サブナノメートル分解能を高次元で両立したピエゾリニアステージです。顕微鏡観察時の安定性を向上させます。高精度な試料位置決めや自動走査を必要とする光学顕微鏡システムに最適です。 【活用シーン】 ・光学顕微鏡での高精度走査 ・高倍率観察における試料位置決め ・共焦点顕微鏡システム ・生体試料の精密アライメント 【導入の効果】 ・真空用途に対応 ・サブナノメートル分解能による高精度位置決め ・高発生力による安定した試料保持 ・長ストローク走査と高精度の両立 ・電源オフ時の自己ロック ・高い再現性と長期安定性
ナノテクノロジー分野に最適。高発生力とサブナノ精度を両立するリニアステージ。
ナノテクノロジー分野では、原子・分子レベルの操作や微細構造の加工において、サブナノメートルレベルの高精度位置決めが求められます。同時に、測定プローブやワークを安定して保持するための高い発生力と剛性も不可欠です。N-332 Linear Stage は、Piezowalk駆動方式により、高発生力・長ストローク・サブナノメートル分解能を高次元で両立したピエゾリニアステージです。従来のステージで課題となる熱影響や振動による誤差を最小限に抑え、安定した高精度位置決めを実現します。 ナノテクノロジー研究を始め、極限の精度が求められるアプリケーションに最適です。 【活用シーン】 ・走査型プローブ顕微鏡(SPM) ・ナノインプリント ・光学系の調整 【導入の効果】 ・ナノメーターレベルの高精度な位置決め ・安定した動作と高い信頼性 ・多様なアプリケーションへの対応 ・作業効率の向上
細胞観察における高精度位置決めを実現するリニアステージ
バイオテクノロジー分野、特に細胞観察においては、高精度な位置決めが不可欠です。細胞の微細な構造を観察するためには、ナノメートルレベルの正確な位置制御が求められます。従来のステージでは、振動やドリフトにより、正確な観察が妨げられることがありました。N-332ピエゾリニアステージは、PICMAWalkドライブにより、滑り摩擦の影響を受けない高精度な位置決めを実現し、細胞観察の質を向上させます。 【活用シーン】 ・細胞培養 ・顕微鏡観察 ・細胞操作 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による正確な位置決め ・セルフロッキング機構による安定性向上 ・多軸セットアップによる柔軟な対応