マスクレーザー描画装置×ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社 - 企業1社の製品一覧

半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ

高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』

『ULTRA』は、半導体用マスク作成に適した、高速高解像度レーザー描画装置です。 『ULTRA』高生産性、高精度性、高均一性、超高精度位置合わせ精度を備えるコスト性の良いマスク描画装置です。

• 企業：ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
• 価格：応相談

• 電子ビーム描画装置
• フォトマスク
• ステッパー