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金属雰囲気を活かしたクリーンな加熱環境で、金属粉・薄膜材料の特性を最大限に引き出す
当社で取り扱う「メタル炉」は、小型・密閉構造のため、研究室・ 分析室レベルでも安全に設置可能です。 触媒担体や導電材料の還元処理、スパッタターゲット材・焼結体前処理の 高純度熱処理、高温での酸化・拡散・析出挙動の基礎研究などの用途に好適。 テスト機もご用意いたしております。 また、小型機以外にも量産スケールの炉も製作可能です。 【特長】 ■炉材に金属(Mo/W/ステンレス等)を採用し、カーボン由来の汚染を抑制 ■真空雰囲気～還元雰囲気(H₂/N₂/Ar)まで対応し、高純度環境での熱処理が可能 ■高精度な温度制御(～1800℃)により、薄膜や微粒子のアニール条件を正確に再現 ■小型・密閉構造のため、研究室・分析室レベルでも安全に設置可能 ■量産機へのスケールアップ実績あり (サーモニックENGでは大型メタル炉の製造実績もあり) ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
真の高純度酸化物・窒化物材料へ。真空～還元雰囲気まで自在制御、脱ガス・脱炭・高純度化プロセスを一台で実現
当社で取り扱う「メタル炉」は、高精度温度制御(～1800℃)×自動排気制御で 脱ガス挙動を安定再現します。 高温処理時に試料内部から発生する吸着水・CO2・残留有機物を効率的に 除去できない、高純度プロセスを再現性良く実施できるラボスケール装置が 少ないなどの課題を解決。 小型ながら大型炉へのスケールアップ可能構造を採用しております。 【特長】 ■金属製ヒーター・金属製チャンバー構造により、カーボン源の混入を排除 ■高真空(10^-3～10^-5Pa)運転＋還元雰囲気(H₂/Ar/N₂)切替に対応 ■高精度温度制御(～1800℃)×自動排気制御で脱ガス挙動を安定再現 ■酸化物・窒化物の高純度化、残留C・O低減に最適化されたヒートプロファイル ■小型ながら大型炉へのスケールアップ可能構造を採用(Thermonik ENG製) ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
セラミックスと金属の熱膨張差を制御しながら、クリーン雰囲気で強固に封着
当社では、全金属ホットゾーンの「メタル炉」を取り扱っております。 接合(封着・ろう付け・拡散接合)では、微量O2/H2O/炭化水素が 濡れ性・界面反応・気密に直結。メタル炉は真空10^-5Pa級＋(Mo/W) ホットゾーンで、炭素・有機由来の汚染源を排除します。 薄膜・電極・光学部材の高純度アニール/封止などに応用可能です。 【特長】 ■高真空(10^-5Pa級)～還元雰囲気運転対応 ■金属炉構造(Mo/W)で清浄雰囲気を維持 ■±1℃以内の温度均一性と長期安定制御 ■金属治具や荷重加圧機構との組合せが容易 ■試料の小型化・局所加熱試験にも対応 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
材料本来の反応をそのまま観る！黒鉛部材を一切使わないチャンバーで、炭素由来の副反応や汚染を抑制
当社で取り扱う「メタル炉」は、評価したいのは材料そのものの表面反応・ 相変化だが、黒鉛部材や有機材のアウトガス/炭素源が系を乱すことがある などといった課題を解決します。 ハロゲン・窒化・還元など化学雰囲気が敏感なプロセスは、カーボンフリー の方が再現性が高く、だからこそ、内壁・ヒータ・治具まで金属で統一した メタル炉が有効です。 当社では、テスト機もご用意いたしております。 また、小型機以外にも量産スケールの炉も製作実績があります。 【特長】 ■カーボンフリー ・全金属(Mo/W)ホットゾーン/金属チャンバー、黒鉛・有機材不使用で 炭素由来の副反応を抑制 ■クリーンな雰囲気切替 ・真空→Ar/N2の切替がスムーズ、置換後のブランクが低い ■反応の再現性 ・小型チャンバーで同一条件を短サイクルに再現 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
