レーザ剥離装置『LSL-100F／VOLCANOLB750-4』
光源に固体UVレーザを採用！小型・低価格なLLO装置からG6パネル用大型装置まで対応
『LSL-100F／VOLCANO LB750-4』は、ガラス基板に塗布された ポリイミドなどの高分子フィルムをレーザによって剥離する装置です。 ラインビーム光学系を採用することにより、高品質で高速な LLOプロセスが可能。光源に固体UVレーザを採用することで、 大幅なコストダウンを実現します。 また、小型・低価格なLLO装置からG6パネル用大型装置まで対応しています。 【特長】 ■ラインビーム光学系を採用することにより、 高品質で高速なLLOプロセスが可能 ■光源に固体UVレーザを採用 ■大幅なコストダウンを実現 ■小型・低価格なLLO装置から、G6パネル用大型装置まで対応 ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社オプトピア
- 価格：応相談
