光源に固体UVレーザを採用！小型・低価格なLLO装置からG6パネル用大型装置まで対応
『LSL-100F／VOLCANO LB750-4』は、ガラス基板に塗布された ポリイミドなどの高分子フィルムをレーザによって剥離する装置です。 ラインビーム光学系を採用することにより、高品質で高速な LLOプロセスが可能。光源に固体UVレーザを採用することで、 大幅なコストダウンを実現します。 また、小型・低価格なLLO装置からG6パネル用大型装置まで対応しています。 【特長】 ■ラインビーム光学系を採用することにより、 高品質で高速なLLOプロセスが可能 ■光源に固体UVレーザを採用 ■大幅なコストダウンを実現 ■小型・低価格なLLO装置から、G6パネル用大型装置まで対応 ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【その他特長】 ■ラインビームサイズは100mm～750mmの広いラインアップの装置を揃えている ■ワークサイズは100mmからG6サイズ（1500mm×1800mm）まで対応 ■マニュアル機からロボット搭載の自動システムまで、お客様のご要望と予算に応じてご提案 ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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用途／実績例
【用途】 ■フレキシブルディスプレイ、フレキシブルセンサー、有機半導体、薄デバイス製造などの 製造工程でサポートガラスから薄デバイスを剥がすプロセス ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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