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ファインパターンのパターン間のパーティクルの除去に効果的！ブラシユニット脱着が簡単！
基板・フィルムブラシ洗浄機 「VSC-727」は、特殊ブラシにより、パターン間の形状にフレキシブルに対応可能です。 粘着ローラーと違いファインパターンのパターン間のパーティクルの除去に効果的。 吸着コンベアを採用し薄物基板も安定して搬送します。 【特徴】 ○ブラシユニットの脱着が工具無しで簡単に行えます ○ギャップアジャスタを搭載し60μ～3.2mmの基板に対応 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
フットプリント・購入コストの大幅低減とスループットUp・基板品質大幅向上
■エッチング、RCA洗浄、現像といった各種WETプロセスに好適 ■超音波を使わない有機剥離/リフトオフ処理に好適 ◎高圧Jetやスプレー処理に対応 ◎リフトオフ時のDry-Etch残差やバリ除去に有効な超音波使用時には、 「Spin Dipプロセッサー」をリコメンド。 ■1-チャンバーで薬液⇒リンス⇒乾燥のフルプロセスを、Dry-In/Dry-Outで対応 ◎従来方式：2-チャンバー構成（チャンバー間移送時に基板は薬液付着状態） ◎新方式：UDS式では1-チャンバー構成。 ■基板の基本動作 ◎「上段部…基板のLD」⇒「下段部…ケミカル処理」⇒ ⇒「中段部…リンス乾燥」⇒「上段部…基板のULD」 ■特許の遮断分離板で再利用時の薬液濃度を担保できます。 ◎リンス水混入希釈が無いため、薬液の温調循環再利用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ウエハ、枚葉式洗浄装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、レジスト剥離装置、レジスト塗布装置、洗浄装置、メガソニック、フォトレジスト、フォトリソ工程
基板洗浄と代替フロン「洗浄液アサヒクリンAK-225」についてご紹介
「Ky技報」は、ケイワイ電子工業で行う製造業務全般の技術情報や 特殊対応などを掲載している技術資料です。 。 第030号では『基板洗浄について（１）』をご紹介しています。 はんだ付け実装後に共晶製品及び洗浄指定製品は 「フラックス洗浄」という精密洗浄を行っています。 フラックス洗浄に使用されている、 代替フロンHCFC-225『アサヒクリンAK-225』は 2019年末に販売中止が法律によって定められています。 当資料では、代替フロン洗浄に替わる洗浄液・洗浄装置について、 データや表などを用いた思案などを掲載しています。 【掲載内容】 ■基板洗浄について・洗浄液アサヒクリンAK-225 ■参照図1「フロンガスの種類と用途」 ■参照図2「我が国におけるHCFC削減目標」 ■フロン・代替フロンのまとめ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
産業機器製品に対応した生産工程！実績と定評が高いグリコールエーテル系洗浄剤を使用
当社では『基板洗浄』を承っております。 実装基板の洗浄において実績と定評が高いグリコールエーテル系の 洗浄剤を使用。 サイズ500×400で大型基板への対応も可能です。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【保有設備】 ■真空洗浄乾燥機（HEARVY-4252／クリンビー） ・従来のフロン系、準水系洗浄機に変わる洗浄機 ・フラックス洗浄に欠かせないグリコールエーテル系洗浄液を使用 ・大型基板に対応 最大：500×450 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
小型洗浄から自動洗浄まで！培われた洗浄技術を駆使し、環境負荷低減を実現
『基板洗浄装置』は、島田テクノロジー株式会社が取り扱っている製品です。 半導体・フラットパネル分野で培われた洗浄・乾燥技術を駆使し、高品質・ 低ダメージなどさまざまな洗浄ニーズにお応えします。 また、被洗浄物に合わせた装置設計により、省スペース・省ユーティリティーを 実現し、環境負荷低減に貢献する各種精密洗浄装置群を提供します。 【特長】 ■培われた洗浄技術 ■環境負荷低減を実現 ■さまざまな洗浄ニーズにお応え ■小型洗浄から自動洗浄まで幅広く対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
