【特徴】 ○狭いスペースでも設置可能 ○ファインパターン対応機種 ○使いやすい機能とすっきりしたデザインを兼ね備えた設計 ○数々の安全機能を標準装備 →ヒーターの空焚き防止 →過昇温防止 →ポンプ空運転防止 →非常停止 →エッチング上フタ二重 →フタインターロック ○お客様のニーズにあった設計変更が可能 ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• エッチング装置

【特徴】 ○狭いスペースでも設置可能 ○ファインパターン対応機種 ○使いやすい機能とすっきりしたデザインを兼ね備えた設計 ○数々の安全機能を標準装備 →ヒーターの空焚き防止 →過昇温防止 →ポンプ空運転防止 →非常停止 →現像上フタ二重 →フタインターロック ○お客様のニーズにあった設計変更が可能 ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• その他半導体製造装置

【特徴】 ○狭いスペースでも設置可能 ○ファインパターン対応機種 ○使いやすい機能とすっきりしたデザインを兼ね備えた設計 ○数々の安全機能を標準装備 →ヒーターの空焚き防止 →過昇温防止 →ポンプ空運転防止 →非常停止 →剥離上フタ二重 →フタインターロック ○お客様のニーズにあった設計変更が可能 ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• その他半導体製造装置

【特徴】 ○ファイン用ノズル配列とオシレーションシステムにより均一な面精度が出せる ○上エッチングは独立圧調でさらに高精度 ○FPC搬送対応可能 ○板厚50μmのワークが安定して流せる 【仕様例】 ○装置寸法（L×W×H）　8490 × 3400 × 1300 mm ○基板サイズ（有効幅）　610mm ○処理液　塩化第二鉄等 ○搬送速度　0.4～3.5m/min ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• エッチング装置

【特徴】 ○ファイン用ノズル配列とオシレーションシステムにより均一な面精度が出せる ○上エッチングは独立圧調でさらに高精度 ○板厚50μmのワークが安定して流せる ○有効幅 ： 600mm ○搬送速度 ： 1.0～7.0m/min（常用3.5m/min） ○現像・エッチング・剥離ポンプはインバーター制御 ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• エッチング装置
• その他半導体製造装置

【特徴】 ○理想的なノズル配置により技群の面精度を実現 ○直進性の高いスリットで小径孔を洗浄 ○高精度エアーナイフにより孔内の乾燥も実施 ○板厚50μmのワークも搬送可能 【仕様例】 ○装置寸法（L×W×H） 15362 × 3000 × 1400 mm ○基板サイズ（有効幅） 600mm ○処理液 硫酸-過水系 ○搬送速度 0.06～6m/min ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• エッチング装置
• その他半導体製造装置
• その他洗浄機

【特徴】 ○薄板搬送可能な剥離装置 ○FPC搬送対応可能 ○スプレー除去中に発生するレジストの微細片を処理するカス取り機構付 ○ファイン用ノズル配列とオシレーションシステムにより均一な面精度が出せる ○上エッチングは個別圧調でさらに高精度 【仕様例】 ○装置寸法（L×W×H）　8490 × 3400 × 1300 mm ○基板サイズ（有効幅）　610mm ○処理液　水酸化ナトリウム水溶液 ○搬送速度　0.4～3.5m/min ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• エッチング装置
• その他半導体製造装置

【特徴】 ○板厚５０μｍのワークを安定して搬送可能 ○高い面精度で均一な表面処理を実現 ○FPC搬送対応も可能 【仕様例】 ○装置寸法（L×W×H）　13625 × 4050 × 1350 mm ○基板サイズ（有効幅）　500mm ○処理液　各薬液メーカー対応 ○搬送速度　1～4m/min ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• その他表面処理装置
• エッチング装置

【特長】 ○ファイン用ノズル配列とオシレーションシステムにより均一な面精度が出せます ○上エッチングは独立圧調でさらに高精度 ○板厚50μmのワークが安定して流せる ●その他機能や詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置

【特長】 ○ファイン用ノズル配列とオシレーションシステムにより均一な面精度が出せます ○上エッチングは個別圧調でさらに高精度 ○板厚50μmのワークが安定して流せる ●その他機能や詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

• エッチング装置

【特長】 ○ファイン化仕様ノズルパターンとオシレーションシステムにより均一な面精度が出せます ○上エッチングは個別圧調でさらに高精度 ○薄板搬送システムにより50μm厚のワークも搬送可能 ●その他機能や詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

• エッチング装置

【特長】○直進性の高いスリットで小径孔を洗浄 ○高精度エアーナイフにより孔内の乾燥も実施 ○板厚50μmのワークも搬送可能 ●その他機能や詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

• エッチング装置

【特長】 ○ファイン用ノズル配列とオシレーションシステムにより均一な面精度が出せます○上エッチングは個別圧調でさらに高精度 ○板厚50μmのワークが安定して流せる ●その他機能や詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

• エッチング装置

【特長】 ○エッチングマシン ITOエッチングマシン・Crエッチングマシン・AIエッチングマシン ○現像装置 各種レジスト・カラーフィルター ○洗浄装置 受入洗浄装置・成膜前洗浄装置・レジスト塗付前洗浄装置・配向後洗浄装置 ●その他機能や詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置

【特長】 ○均一な面精度により最高仕上がりを実現 ○薄板のロールtoロールを枚葉がどちらも流せる ●その他機能や詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

• 基板搬送装置(ローダ・アンローダ)

【特長】 ○ファイン化技術による高い面精度 ○自動建浴・液管理システムにより品質向上とコストダウンを両立 ●その他機能や詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

• エッチング装置

【特長】 ○高精度エッチングシステムによりファインピッチが可能 ○強い腐食性ガスでも本体はALL塩ビ製の為、高い耐食性を確保 ●その他機能や詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

• エッチング装置

【特長】 ○Max. 22.5MPaの超高圧マイクロジェットにより非接触で高い洗浄効果を実現します。 ●その他機能や詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置

【特長】 ○最適なノズル配列とオシレーションシステムで高輝度現像が可能 ○超大型基板にも対応。 ○太陽電池ガラスの厚板にも対応。 ●その他機能や詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置

【特長】 ○超大型基板にも対応。 ●その他機能や詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

• 基板搬送装置(ローダ・アンローダ)

【特長】 ○ガラス基板の各種洗浄に使用できるローるブラシ洗浄装置です ○コンパクトにまとめた省スペースモデルで、使い易い機能的な設計 ●その他機能や詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置

【特長】 ○小型機でありながら驚異的な面精度を実現 ○揺動速度の最適値は搬送速度に自動追従式 ●その他機能や詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

• エッチング装置

【特長】 ○2インチ角の小ワークが治具なしに枚葉で流せる ○カセットtoカセットも可能 ●その他機能や詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

• その他実装機械

【特長】 ○超高圧洗浄の洗浄評価用テスト機として使用できます ○Max.22MPaの超高圧ポンプにより高い洗浄効果が得られる ●その他機能や詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

• 高圧洗浄機

【特長】 ○水平搬送無しモデルなので超小型サイズ ○Max.100×100mmサイズのワークを処理 ●その他機能や詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置

【特長】 ○実験室の片隅にでも置ける超小型サイズ ○Max、150×150mmサイズのワークが処理できます。 ●その他機能や詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

• エッチング装置

【特長】 ○当社水平搬送式標準モデルの中で最小 ○水平揺動など必要な機能を搭載し、オプション機能をコンパクトにまとめたお手頃価格 ○お客様のニーズに合わせて仕様変更可能 ●その他機能や詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置

◆狭いスペースでも設置可能 ◆使いやすい機能とすっきりしたデザイン ◆お手頃価格のエントリーモデル ◆標準機のため短納期 ◆仕様に合わせたカスタマイズが可能

• その他表面処理装置
• 基板加工機
• その他実験器具・容器

◆小型機でありながら驚異的な面精度で現像が可能 ◆揺動速度の最適値は搬送速度に自動追従式 ◆ファインパターン対応のノズル配置により高精度な現像が可能 ◆独立圧調により高精度な現像が可能（上スプレー） ◆標準機だから短納期 ◆仕様に合わせたカスタマイズが可能 ◆各種現像液に対応可能

• その他表面処理装置
• 基板加工機
• その他実験器具・容器

◆小型機でありながら驚異的な面精度で高精度なエッチングが可能 ◆揺動速度の最適値は搬送速度に自動追従式で均一なエッチングが可能 ◆ファインパターン対応のノズル配置により高精度なエッチングが可能 ◆独立圧調により高精度なエッチングが可能（上スプレー） ◆標準機だから短納期 ◆仕様に合わせたカスタマイズが可能 ◆各種エッチング液に対応可能

• その他表面処理装置
• エッチング装置
• その他実験器具・容器

◆独自の搬送方式により０．０３ｔのＦＰＣが治具なしで枚葉搬送が可能 ◆薄板基板でも搬送ローラーによるダメージがない ◆薄板用液切り方式によりワークの折れ、シワがない ◆２インチ角の小ワーク(セラミック基板等)でも処理可能 ◆標準機だから短納期 ◆仕様に合わせたカスタマイズが可能

• その他表面処理装置
• 基板加工機
• その他実験器具・容器

◆独自の搬送方式により0.03tのFPCが治具なしで枚葉搬送が可能 ◆極薄基板でも搬送ローラーによるダメージがない ◆薄板用液切り方式によりワークの折れ、シワがないため、高精度な現像が可能　 ◆２インチ角の小ワーク(セラミック基板等)でも処理可能 ◆標準機だから短納期 ◆仕様に合わせたカスタマイズが可能 ◆各種現像液に対応可能

• その他表面処理装置
• 基板加工機
• その他実験器具・容器

◆ファインパターン対応のノズル配置により高精度な現像が可能 ◆独立圧調により高精度な現像が可能（上スプレー） ◆狭いスペースでも設置可能 ◆ファイン対応のノズル配置により高精度な現像が可能 ◆標準機だから短納期 ◆仕様に合わせたカスタマイズが可能 ◆各種現像液に対応可能

• その他表面処理装置
• 基板加工機
• その他実験器具・容器

◆ファインパターン対応のノズル配置により高精度なエッチングが可能 ◆独立圧調（上スプレー）により均一なエッチングが可能 ◆狭いスペースでも設置可能 ◆使いやすい機能とすっきりしたデザイン ◆標準機だから短納期 ◆仕様に合わせたカスタマイズが可能 ◆各種エッチング液に対応可能

• その他表面処理装置
• エッチング装置
• その他実験器具・容器

◆水平揺動によるファインパターン対応のノズル配置により高精度な現像が可能 ◆狭いスペースでも設置可能 ◆使いやすい機能とすっきりしたデザイン ◆お手頃価格のエントリーモデル ◆標準機のため短納期が可能 ◆仕様に合わせたカスタマイズが可能 ◆各種現像液に対応可能

• その他表面処理装置
• 基板加工機
• その他実験器具・容器

◆水平揺動によるファインパターン対応の省スペースなエッチング装置 ◆狭いスペースでも設置可能 ◆使いやすい機能とすっきりしたデザイン ◆お手頃価格のエントリーモデル ◆標準機のため短納期が可能 ◆仕様にあわせたカスタマイズが可能 ◆各種エッチング液に対応可能

• その他表面処理装置
• エッチング装置
• その他実験器具・容器

◆0.2tのガラスのロールブラシによる洗浄が可能 ◆独自のエアーナイフ機構により薄板の液切りが可能 ◆超大型基板、超薄型基板にも対応

• その他洗浄機
• その他半導体製造装置

ミクロンレベル微小液滴の高速噴射により薬液処理後のリンスなどに効率良く高い洗浄効果が得られ、ライン長の短縮が図れます。その他洗浄ツールも搭載可能（超音波ディップ、メガシャワー、アルカリ、酸、機能水洗浄）

• その他洗浄機
• その他加工機械
• その他半導体製造装置

◆独自の搬送方式により０．０３ｔのＦＰＣが治具無しで枚葉搬送が可能 ◆薄板基板でも搬送ローラーによるダメージがない ◆薄板用液切り方式でワークの折れ、シワがない ◆２インチ角の小ワーク(セラミック基板等)でも処理可能 ◆標準機だから短納期 ◆仕様に合わせたカスタマイズ可能 ◆各種エッチング液に対応可能

• その他表面処理装置
• エッチング装置
• その他実験器具・容器