輝度の高い紫外光源（真空紫外光源）のご紹介です。 【詳細】※英文 The Scienta VUV5000 is a high intensity, narrow bandwidth extreme UV source. It provides radiation con-centrated to He I (21 eV and 23 eV) and He II (41eV). The flux density per unit wavelength interval is comparable to that obtainable from the best undulator beam lines. The photon flux emitted through a 2 mm aperture is about 500 times higher than that from conventional discharge VUV sources. ※詳細はお問い合わせいただくか、PDF資料をダウンロードしてください。

XPS/UPS/ARPES分析アナライザーのご紹介です。 【詳細】※英文 With its 135 mm mean radius and mu-metal analyzer vacuum tank the Scienta R3000 is a compact and powerful analysis tool. It features the proven electronics and detector system as well as a wide angle lens giving impressive acquisition speeds. The different models allow everything from ESCA and ambient pressure to ARPES and XPS. ※詳細はお問い合わせいただくか、PDF資料をダウンロードしてください。

ARPES分析アナライザーのご紹介です。 【特長】※英文 ●30° degrees full cone acceptance without sample rotation ●Spin-resolved MDC without sample rotation ●Patented (WO2013/133739) ●Improved ky accuracy (resolution better than 0.1º) ●Time saving (electronic deflection is faster than rotation) ●Matrix element effects are avoided by keeping sample fixed ●Manipulator requirements are reduced ●Ensures same spot for all k// ※詳細はお問い合わせいただくか、PDF資料をダウンロードしてください。

ARPES-Lab　（ARPES光電子分光分析システム）、XPS観察・測定に使用される装置です。 【用途】 ARPESでのXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 The ARPES-Lab brings together the world leading instrumentation for ARPES: ●Outstanding performance ARPES system with unchallenged energy and angular resolution ●Intelligent integration and automation ●Revolutionary DA30 deflection mode operation: - Improved ky accuracy - Matrix element effects are avoided by keeping sample fixed - Ensures same sample point for all k// ※詳細はお問い合わせいただくか、PDF資料をダウンロードしてください。

今までの汎用XPSでは到達できなかった深さを分析できる次世代のXPS装置です。 これまで放射光施設でのみ使用可能だった硬X線の使用が可能になりました。 Ga ka単色化線源により９．２５keV励起による高分解能硬X線光電子分光を実現いたしました。 【用途】 表面より深い領域での試料のXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 HAXPES-Lab is designed to allow hard X-ray photoelectron spectroscopy (HAXPES) measurements in standard lab environments. The instrument offers the unique possibility to investigate bulk properties of various materials, analyse buried interfaces and access deep core levels. ※詳細はお問い合わせください。

HiPP-Labは、大気圧レベルの圧力での測定を可能にしたXPS分析装置をさします。 差動排気システムを用いて大気圧に近いレベルでの測定環境下で試料の測定が可能となり 今まで測定出来なかった環境制御下における次世代のXPS装置です。 【用途】 環境制御下での試料のXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 The HiPP-Lab brings together the world leading instrumentation for APPES: ●Outstanding performance APPES system with unchallenged energy, spatial and angular resolution ●Intelligent integration and automation ●State of the art HiPP-3 analyser: - Line mode imaging mode - Angular mode - Swift acceleration mode for increased intensity

光電子分光(PES)の黎明期からその重要性に着目し、世界のトップブランドとして、多くの関連装置を開発し、市場に導入してきました。 その他、超高真空技術を駆使した走査型トンネル顕微鏡(STM)、原子間力顕微鏡(AFM)など、卓越した製品群を通じて市場に提供し続けています。 【紹介製品※一部抜粋】 １) HAXPES Lab ラボ型硬X線光電子分光分析システム（放射光施設でのみ可能であった硬X線光電子分光がラボでも使用可能に！） ２) HiPP Lab 環境制御型X線光電子分光分析システム（大気圧レベルの圧力での測定を可能にしたXPS分析装置） ３) ARPES XPS観察・測定に使用される装置 ４) MBE Systems 真空蒸着装置 ５) STM/AFM 冷却加熱系を備えた走査トンネル顕微鏡 ※その他詳細はお問い合わせいただくか、PDFをダウンロードしてください。