【主な仕様】 ○型式：MX-1201／MX-1201E／MX-1205 ○最小線幅：5μm／3μm／1μm ○データ分解能：0.5μm／0.25μm／0.05μm ○最大基板サイズ（mm）：　200x200／200x200／100x100　 ○有効露光エリア（mm）：　200x200／200x200／100x100 ○レーザ主波長（nm）：　405±5／375±5／405+375±5 ○露光スキャン速度（ｍｍ/s）：　43.9／22.5／4.5 ○光学エンジン搭載数(灯)　：　1／1／1 ●サイズはご相談に応じます。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• その他半導体製造装置

【主な仕様】 ・サイズ：Ø2～Ø8” ・マスクサイズ：□4～□9” 【対応基板】 ・シリコン、セラミック、サファイア、ガラス、水晶、他 ※各種カスタマイズご相談承ります。

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【主な仕様】 ・サイズ：Ø2～Ø6” ・マスクサイズ：□4～□7” 【対応基板】 ・シリコン、セラミック、サファイア、ガラス、水晶、他 ※各種カスタマイズご相談承ります。

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【主な仕様】 ・サイズ：Ø８～Ø１２” ・マスクサイズ：□１４” ※各種カスタマイズご相談承ります。

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