HUGパワーの製品・サービス一覧

『コアモジュール』は、ノズルから蒸気・液体の流体を超音速噴射し 対象物の表面にキャビテーションを発生させる2流体洗浄モジュールです。 水滴の衝突時、キャビテーションが弾ける際に生じる2つの衝撃波により ナノレベルの微細な異物も剥がし取るように除去できます。 蒸気発生装置とノズルは、用途に合わせて選択可能。 現在、特長や試験結果をまとめた資料をプレゼント中です。 ※ハンディタイプが誕生しました。 ガンタイプですので、どこにでも持ち運びOK 狭い場所での作業や、パーツを動かすことなく作業する事が可能になります！ 【半導体業界から生まれた新技術】 ■蒸気を超音速で噴射することで発生する衝撃波 （キャビテーション）と、せんだん力により汚れ、微小異物も除去 ■薬品を使わないので、廃液処理が簡単、低コストを実現 ■水のみで洗浄するので環境に優しく、安全 ■非接触なので消耗品が少ない ■油性マジック、油脂等も除去可能 ※詳しくは資料をご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• その他洗浄機

＝半導体業界から生まれた新技術＝ 蒸気を超音速で噴射することにより発生する衝撃波（キャビテーション）と、せん断力により異物、よごれを除去できます。 実験試作用に作られた小型で移動式の蒸気2流体洗浄装置です。 工場内で色々な対象物を試すには最適です。電気・純水・圧縮空気（または、窒素）だけで動作可能です。 《新製品の特徴》 ■ガンタイプですので、どこにでも持ち運びOK 　狭い場所での作業や、パーツを動かすことなく作業する事が可能になります！ ■水のみを使うので環境にも優しく、安心・安全！ ■薬品を使わないので、廃液処理が簡単、低コストを実現 　薬液との併用（微量）も可 ■消耗品レスでメンテナンスコストも削減可能 ■油落としに効果（動画公開中　油性マジックも落とせます！！） ※詳しくはカタログをダウンロードまたはお問合せ下さい。

• その他洗浄機

『蒸気2流体洗浄装置 ハンディガンタイプ』は、水滴と蒸気を超音速で 噴射することで発生する衝撃波（キャビテーション）と せん断力により異物、汚れを除去する装置です。 電気、純水、圧縮空気（or窒素）で動作が可能。 ハンディガンタイプのため汚れを的確に除去できるほか、 装置はキャスター付きで容易に移動できます。 【特長】 ■キャビテーションの効果を利用して汚れを除去 ■薬品を使わない環境配慮型製品で、廃液処理も簡単 ■大気圧下での温度は80℃以下 ■低圧でも油性マジックをしっかり除去可能 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• その他半導体製造装置

超音速蒸気2流体洗浄装置は、 超音速噴射ノズルから蒸気（気体）と水（液体）の2相流を超音速で噴射することで、 対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させその衝撃波で洗浄を行います。 応用用途として、以下のようなお引き合いを多くいただいております。 ＜応用例＞ ・塗装の前洗浄工程の簡素化 ・食品製造機器の洗浄における自動化、省人化 ・食器類の洗浄作業における工数削減 ・美容機器、健康機器への応用 ・半導体洗浄への応用 ※人体への応用（医療用途等）については論文を発表しています。 　詳しくはお問合せいただくか、添付PDFを参照してください。

• その他洗浄機

蒸気2流体洗浄ユニットは超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させ洗浄を行います。蒸気に液体を混合することで2流体を作り、洗浄力を大幅に向上。金属汚染や微小異物の発生を抑えるために特殊な材料に表面コートを施し、高純度蒸気を発生させます。 【特長】 ■ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減 ■使用するのは「純水」のみ ■化学薬品の使用量を大幅に削減 ■洗浄力を大幅に向上 ■半導体用洗浄にも使用 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい

• その他洗浄機

蒸気2流体洗浄ユニット「SSCシリーズ」は超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させ洗浄を行います。蒸気に液体を混合することで2流体を作り、洗浄力を大幅に向上。金属汚染や微小異物の発生を抑えるために特殊な材料に表面コートを施し、高純度蒸気を発生させます。 本ページでは、有機ELを対象に、当社製品と超音波＋高圧洗浄の異物除去率の比較のグラフデータを公開しています。 【特長】 ■ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減 ■使用するのは「純水」のみ ■化学薬品の使用量を大幅に削減 ■洗浄力を大幅に向上 ■半導体用洗浄にも使用 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい

• その他洗浄機

蒸気2流体洗浄ユニット「SSCシリーズ」は超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させ洗浄を行います。蒸気に液体を混合することで2流体を作り、洗浄力を大幅に向上。金属汚染や微小異物の発生を抑えるために特殊な材料に表面コートを施し、高純度蒸気を発生させます。 本ページでは、半導体工程（白金残渣）での洗浄前と洗浄後の比較資料を掲載しております。 【特長】 ■ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減 ■使用するのは「純水」のみ ■化学薬品の使用量を大幅に削減 ■洗浄力を大幅に向上 ■半導体用洗浄にも使用 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい

• その他洗浄機

蒸気2流体洗浄ユニット「SSCシリーズ」は超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させ洗浄を行います。蒸気に液体を混合することで2流体を作り、洗浄力を大幅に向上。金属汚染や微小異物の発生を抑えるために特殊な材料に表面コートを施し、高純度蒸気を発生させます。 本ページでは、水のレジストへの浸透を処理前と処理後の比較資料を掲載しております。 【特長】 ■ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減 ■使用するのは「純水」のみ ■化学薬品の使用量を大幅に削減 ■洗浄力を大幅に向上 ■半導体用洗浄にも使用 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい

• その他洗浄機

蒸気2流体洗浄ユニット「SSCシリーズ」は超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させ洗浄を行います。蒸気に液体を混合することで2流体を作り、洗浄力を大幅に向上。金属汚染や微小異物の発生を抑えるために特殊な材料に表面コートを施し、高純度蒸気を発生させます。 本ページでは、ビアホールの洗浄処理前と処理後の比較資料を掲載しております。 【特長】 ■ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減 ■使用するのは「純水」のみ ■化学薬品の使用量を大幅に削減 ■洗浄力を大幅に向上 ■半導体用洗浄にも使用 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい

• その他洗浄機

蒸気2流体洗浄ユニット「SSCシリーズ」は超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させ洗浄を行います。蒸気に液体を混合することで2流体を作り、洗浄力を大幅に向上。金属汚染や微小異物の発生を抑えるために特殊な材料に表面コートを施し、高純度蒸気を発生させます。 本ページでは、ガラス表面の接触角測定を洗浄した際のデータ資料を掲載しております。 【特長】 ■ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減 ■使用するのは「純水」のみ ■化学薬品の使用量を大幅に削減 ■洗浄力を大幅に向上 ■半導体用洗浄にも使用 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい

• その他洗浄機

蒸気2流体洗浄ユニット「SSCシリーズ」は超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させ洗浄を行います。蒸気に液体を混合することで2流体を作り、洗浄力を大幅に向上。金属汚染や微小異物の発生を抑えるために特殊な材料に表面コートを施し、高純度蒸気を発生させます。 本ページでは、太陽電池用シリコン基板の切削粉を除去処理した際のデータ資料を掲載しております。 【特長】 ■ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減 ■使用するのは「純水」のみ ■化学薬品の使用量を大幅に削減 ■洗浄力を大幅に向上 ■半導体用洗浄にも使用 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい

• その他洗浄機

『BEUGA（ビューガ）』は、金リフトオフ、レジスト剥離ができる、 多連式超音速ノズル搭載の蒸気2流体洗浄装置です。 高価な薬液を必要としないため、コスト低減に繋がるほか、 金リフトオフ工程では95％以上の金回収率が可能です。 原料は「水」なので、化学薬品を削減できるため、 コスト低減、環境付加の軽減にも貢献します。 【特長】 ■コスト低減 ■金回収率向上 ■環境負荷低減 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他洗浄機

『VALIUS（バリウス）』は、レジスト・ペースト除去が出来る、 多連式超音速ノズル搭載の蒸気2流体洗浄装置です。 高価な薬液を必要としないため、コスト低減に繋がるほか、 コンパクトな設置面積（本体）を実現しています。 連続処理で500枚／時以上の超高速処理が可能。 原料は「水」なので、化学薬品の使用量を大幅に低減することが できる環境にやさしい装置です。 【特長】 ■コスト低減 ■コンパクト設計 ■超高速処理能力 ■環境負荷低減 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他洗浄機

『AURORA（オーロラ）』は、イオン注入後のレジスト剥離が出来る 低温レジスト剥離装置です。 プラズマ処理とオゾン水処理を組み合わせることで残渣なしで剥離できるほか、 下地膜（Si、SiO2など）を膜べりなしでの剥離にも対応します。 また、硫酸過水、アンモニア過水等の薬液洗浄工程をなくすことで、 ランニングコストおよび工程数を削除可能。 速い除去レート(2～4μm/min)により高いスループットが達成できます。 【特長】 ■剥離性能 ■コスト低減 ■工程数削減 ■設置面積削減 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他洗浄機

『ASTE（アステ）』は、エッチング後のポリマ除去や、 ウエハ上の異物除去 （ブラシスクラバの置換え）が出来る、 金属汚染のない蒸気2流体洗浄装置です。 高価なアミン系剥離剤等の薬液を使わずにポリマと レジストを同時に除去できるので大幅なコスト低減が期待できます。 原料は「水」なので、環境にやさしい洗浄装置です。 【特長】 ■コスト低減 ■工程数削減 ■環境負荷低減 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他洗浄機