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【基本構成】 ・蒸気発生装置 ・2流体ノズル 【資料の掲載内容(抜粋)】 ・キャビテーションとは ・蒸気2流体の特長 ・水のレジスト膜への浸透 ・半導体工程での処理例(白金残渣) ・太陽電池用シリコン基板の切削粉除去 ・自動車のタイヤホイール洗浄 ・新たな可能性(メーク落とし) ・水蒸気洗浄の美容・医療への応用 ・ハンディタイプのノズルも開発中! ※詳しくは資料をご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
ご興味のある方は、お問い合わせいただくか、ダウンロードからPDFカタログをご覧ください。
【その他の特長】 ■装置はキャスター付きで移動が容易 ■一度の給水で連続1時間以上使用可能 ■蒸気の圧力、純粋の流水等の条件設定が可能 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
【基本構成】 ○金属汚染のない蒸気発生装置 ○超音速蒸気噴射ノズル ○洗浄機本体との通信 【蒸気発生装置】 ○蒸気発生量:2~100kg/h ※必要な蒸気量に対応するサイズをご用意 ○用力:DIW、N2、CDA、200VACまたは100VAC ○蒸気圧力制御範囲:0.05-0.3MPa ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【基本構成】 ○金属汚染のない蒸気発生装置 ○超音速蒸気噴射ノズル ○洗浄機本体との通信 【蒸気発生装置】 ○蒸気発生量:2~100kg/h ※必要な蒸気量に対応するサイズをご用意 ○用力:DIW,N2,CDA,200VACまたは100VAC ○蒸気圧力制御範囲:0.05-0.3MPa ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【基本構成】 ■蒸気発生装置 ■多連式蒸気噴射音速ノズル ■EFEM(搬送系) ■制御系 ■ガス・水流量制御系 ■排気・排水系 【仕様】 ■ウエハ口径:50-150mmΦ ■用 力:DIW、N2、CDA ■蒸気圧力制御範囲:0.05-0.2MPa ■本体外形寸法:1200(W)× 1500(D)×2200(H) ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
【基本構成】 ■蒸気発生装置 ■多連式蒸気噴射音速ノズル ■エアーナイフ・温風乾燥 ■搬送系(マグネットローラー方式) ■制御系 ■ガス・水流量制御系 ■排気・排水系 【仕様】 ■基板サイズ:126-156mm角対応 ■用 力:DIW、N2、CDA ■蒸気圧力制御範囲:0.05-0.2MPa ■本体外形寸法:2200(W)× 850(D)× 1500(H) ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
【基本構成】 ■搬送ロボット ■プラズマ処理装置 ■オゾン水処理装置 ■高濃度オゾン水発生装置 ■加熱ユニット 【仕様】 ■チャンバ数:2チャンバ(プラズマ処理1チャンバ、オゾン水1チャンバ) ■ウエハ口径:150, 200, 300mm対応 ■カセット数:2カセット ■用 力:DIW、N2、O2、CO2、CDA ■本体外形寸法:1100(W)× 2050(D)× 2000(H) ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
【基本構成】 ■金属汚染のない蒸気発生装置 ■単式蒸気噴射音速ノズル ■アルキメデス制御方式 ■EFEM(搬送系) ■制御系 ■ガス・水流量制御系 ■排気・排水系 【仕様】 ■チャンバ数:2チャンバ ■ウエハ口径:150,200mm対応 ■カセット数:2カセット ■用 力:DIW、N2、CDA ■蒸気圧力制御範囲:0.05-0.2MPa ■本体外形寸法:1100(W)× 1800(D)× 2000(H) ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
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