サンバックの製品ラインアップ

『SP-3400』は、3インチ用カソードを3源搭載したRFスパッタ装置です。 電源は500Wの高周波電源を1台搭載しており、金属・酸化物・絶縁物等の 成膜が可能となっています。 整合器は自動整合器を2台搭載することにより切替にて逆スパッタもでき、 成膜時の膜厚分布を良くする為に基板回転の機構も標準で搭載。 オペレートタッチ画面を採用しており、初心者でも簡単に排気系の自動操作を 行うことが可能で、誤作動防止のための安全回路を搭載しています。 【特長】 ■3インチ用カソードを3源搭載 ■電源は500Wの高周波電源を1台搭載 ■金属・酸化物・絶縁物等の成膜が可能 ■整合器は自動整合器を2台搭載することにより切替にて逆スパッタも可能 ■成膜時の膜厚分布を良くする為に基板回転の機構も標準で搭載 ■オペレートタッチ画面を採用、初心者でも簡単に排気系の自動操作が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• スパッタリング装置

『セラミックコーティング装置』は、高真空状態において基材に セラミックをコーティングする装置です。 チャンバー内温度を1200℃近くまで昇温可能。また、大きな特長として、 基材駆動機構を備えており、基材を回転・旋回・水平進をすることができます。 蒸発源として電子銃（JEOL製16KW電子銃）を採用、インゴット状の 蒸発材料に対応する為にルツボ部が昇降・回転制御可能となっています。 成膜制御として、シャッター機構を有していますが、開閉時間の設定や 反復運動の回数設定も行えます。 【特長】 ■高真空状態において基材にセラミックをコーティング ■チャンバー内温度を1200℃近くまで昇温可能 ■基材駆動機構を備えており、基材を回転・旋回・水平進をすることが可能 ■蒸発源として電子銃（JEOL製16KW電子銃）を採用 ■インゴット状の蒸発材料に対応する為にルツボ部が昇降・回転制御可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他表面処理装置

高真空蒸着装置『RD-1230』は、ぺロブスカイト太陽電池電極作成用 小型蒸着装置です。 抵抗加熱機構を2対装備しており、サイリスタ制御により蒸着電圧及び、 電流値の調整が可能です。 排気系はターボ分子ポンプによる排気で、排気操作は全自動。 水晶振動式膜厚計もオプションで付けることができ、卓上型タイプとしては 高性能な成膜制御が可能です。 【特長】 ■ロブスカイト太陽電池電極作成用小型蒸着装置 ■抵抗加熱機構を2対装備、サイリスタ制御により蒸着電圧及び、電流値の 　調整が可能 ■排気系はターボ分子ポンプによる排気で、排気操作は全自動 ■水晶振動式膜厚計もオプションで付けることが可能 ■卓上型タイプとしては高性能な成膜制御が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 蒸着装置

『SVM－1000』は、誘導加熱式溶解炉で、金属を高周波誘導加熱により 溶解する装置です。 ルツボのサイズや材質、溶解したい材料等によりカスタマイズが可能。 研究開発用として多くのお客様にご利用頂いています。 また、鋳型の形状はご要望の形状に合わせて製作いたします。 【特長】 ■金属を高周波誘導加熱により溶解する ■研究開発用として利用されている ■ルツボのサイズや材質、溶解したい材料等によりカスタマイズが可能 ■鋳型の形状はご要望の形状に合わせて製作できる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加熱装置

『E069』は、部品を減圧下において加熱し、乾燥処理を おこなうことを目的とした真空乾燥装置です。 各ヒーターゾーン6面を独立したPID方式にて制御。 温度指示値の信頼性も非常に高くなっております。 また、プログラムコントローラにより19パターンのプログラムを 記憶することが可能です。 【特長】 ■部品を減圧下において加熱し、乾燥処理をおこなう ■各ヒーターゾーン6面を独立したPID方式にて制御 ■温度指示値の信頼性も非常に高い ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 乾燥機器