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『ナノインプリントファウンドリ』は、光学設計・シュミレーションから モールド作製、エッチングなど、ナノインプリントに関わるサービスを トータルでご提供しています。 実用化に必要となる周辺技術との融合を進め、独自の超微細加工ファウンドリ プラットフォームを構築。本サービスをご活用いただくことにより、新製品 の開発期間を大幅に短縮することが可能になります。 また、各サービス個別でのご提供も可能ですので、お気軽にお尋ねください。 【特長】 ■ナノインプリントに関わるサービスをトータルで提供 ■個別での提供も可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『X-300』は、熱式・UV式両用のR&Dパイロット生産対応可能なナノ インプリント装置です。 R&Dから量産まで、すべてのステージで高品質・低コスト・高い設備 生産性を追及し、実現します。 当社では、R&Dと量産に向けてのナノインプリント・トータルソリュー ションを提供しています。 【特長】 ■R&Dからパイロット生産まで対応可能 ■熱式・UV式両用 ■高品質 ■低コスト ■高い設備生産性 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『4インチ前面ナノサイズパターンモールド』は、最先端の半導体プロセス を用いて作成したSi基板モールドです。 当製品は、量産化に向けて、高性能・高品質・低コストを目指して設計 されました。 4インチサイズのホールとピラーの全面モールドの2種類から、用途に 応じてお選びください。 【特長】 ■高性能 ■高品質 ■低コスト ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ナノインプリント技術のみでは、量産を実現することは出来ません。当社では、実用化に必要となる周辺技術との融合を進め、 独自の超微細加工ファウンドリプラットフォームを構築しました。本ファウンドリサービスをご活用いただくことにより新製品 の開発期間を大幅に短縮することが可能になります。
サファイア基板やシリコン基板は勿論、様々な基板に対し、レジストを塗布、レジスト表面へナノインプリントによる成型を受託しています。 ナノインプリントは勿論、レジストに関するアドバイス、レジスト塗布技術、エッチングに関するアドバイス、エッチング受託なども行っております。 SCIVAX(サイヴァクス)微細加工事業本部(電話:044-599-5051、メール:nil-contact@scivax.com)までお問合せください。
大面積全面ナノパターン金型(4インチから12インチ)やナノパターン成型サンプルを低コストでご提供します。ホームページに記載の既製品に加え、カスタム品の金型若しくは成型サンプルの受託加工に対応します。 詳細は、SCIVAX(サイヴァクス)微細加工事業本部(電話:044-599-5051、メール:nil-contact@scivax.com)までお問合せください。
お客様のご要件に合わせた各種フィルム、レジストへのナノインプリント成型を行います。ハニカム、モスアイ、レンズアレーを始めとして様々な形状に対応いたします。ナノインプリント技術導入の可否検討等にご活用ください。 SCIVAX(サイヴァクス)微細加工事業本部(電話:044-599-5051、メール:nil-contact@scivax.com)までお問合せください。
複雑なR&Dの課題に応えるため、RubiQ Type RD-100は、熱・UV両方に対応可能な樹脂硬化方式、および成型のための加圧方式等を柔軟性の高いモジュール構成で実現します。またパイロット生産で要求される高いタクトと同時に、クリーン対策も提供しています。 お客様個々の開発ステージにあったご提案をさせて頂きます。 SCIVAX(サイヴァクス)微細加工事業本部(電話:044-599-5051、メール:nil-contact@scivax.com)までお問合せください。
SCIVAXは今後益々、その高性能化が期待される LEDや有機EL、太陽電池等に有用な光透過性向上に向けて、 シミュレーションとデバイスによる 技術評価をベースに金型を製作しております。 今回、高性能・高品質・低コストを満たす 4〜12インチサイズ(φ4”〜12”)の ホールとピラーの全面モールド、2種類をリリースしました。 ≪仕様≫ 【外形寸法】4〜12インチφ(4インチ以下もご相談ください) 【パターン】220nm(1/2H)(±約10.0%) 【材料】Si 【深さ】200nm(±約5.0%) 【外壁角度】85度 【配列】3角格子 【ビッチ】460nm SCIVAX(サイヴァクス)微細加工事業本部(電話:044-599-5051、メール:nil-contact@scivax.com)までお問合せください。
R&Dからパイロット生産まで対応。すべてのステージで、高品質、低コスト、高い設備生産性を追及しました。 本格的な技術開発に最適なナノインプリント装置X-300です。 ■□■特徴■□■ ■加工方式:熱式、UV式 ■加工サイズ:口100mm(熱式φ150mm) ■変位の最小分解能:50nm ■加圧力:常用最大:50kN ■金型平行度調整機構:標準搭載 ■レジスト加工 ・残膜5nm以下でコントロールが可能 ・モールド技術開発により15万ショット耐久性を確認 ■フィルム加工 ・実用化ラインによる製品製造(細胞培養プレート) ・ナノからミクロンまで様々なパターン加工が可能 ■SCIVAX社では、フィルム加工及びレジストによる基板加工への各種ご提案を行っております。 LED、各種光学素子(光学フィルム)、各種電子デバイスに関しまして、 用途に応じた量産プロセスのご提案をさせて頂きます。 その他機能や詳細については、SCIVAX(サイヴァクス)微細加工事業本部(電話:044-599-5051、メール:nil-contact@scivax.com)までお問合せください。
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