ティー・ケイ・エスの製品・サービス一覧

今後大きな需要が期待されるLiDAR用途など、多層化と高再現性が求められる高機能光学フィルターの安定生産に力を発揮します。 ・シリンダー型カソードによる、ターゲット消耗による膜質変化の影響を廃した製膜 ・リアクティブイオンソース搭載による、酸化膜の安定成膜 ・最大４基のカソードの搭載による、幅広い多層膜の成膜 など、高品位な光学薄膜成膜に特化した装置です。 特徴 ■傑出した光学多層膜の再現性 ■優れた膜厚均一性 ■シリンダー型カソードとスパッタアップとの組み合わせによる 　膜質の改善と欠陥の無い成膜 ■In-situモニタリングによる、成膜状態の連続監視 ■完全に自動化されたプロセス制御　 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

原子層堆積（ALD）はCVDの中でも特別なコーティング方法になります。 ALDプロセスにおける補完的で自己制限的な表面反応は、ナノメートル スケールまで制御された厚さの均一なフィルムと、複雑な3D表面形状への 優れたステップカバレッジを備えたコンフォーマルフィルムを提供。 ALD処理のために、FHR AnlagenbauGmbHは、R＆D活動および工業規模での 量産用に設計されたカスタムメイドのリアクターツールを提供しています。 【コーティング方法】 ■少なくとも2つの化学反応物（前駆体）の交互の基板露光によって実行 ■最初の1つの前駆体が基板上にフラッシュ ■前駆体は、未反応の表面部位がなくなるまで（飽和）、反応性の表面部位と反応 ■最初の前駆体のガス状反応残留物が不活性ガスでパージ ■2番目の前駆体がフラッシュされ再び表面反応が起こり、飽和に達するまで置く ■反応をパージした後、2番目の前駆体の残留物の場合、最初の前駆体を 　フラッシュすることでサイクルを再開 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

FHR Anlagenbau GmbHは、真空プロセスおよび薄膜技術の分野における 革新的な企業です。 1991年にドイツのドレスデンにおいて薄膜の複数アプリケーション向けに 新しいコンセプトとソリューションの開発と販売を目的として開発と設計に 優れた技術力を持ったエンジニアのグループによって設立されました。 FHRは薄膜技術を提供し、世界中の顧客に幅広い用途向けにカスタマイズ された機器を提供しています。 【FHRテクノロジーポートフォリオに含まれるもの】 ■マグネトロンスパッタリングとCVDによる高度なメタライゼーション技術 ■酸化物および窒化物の堆積のための反応性スパッタリング技術 ■高密度プラズマ源のサポートによる高度なエッチング技術 ■半導体、金属、セラミック、ナノ構造、フォトニック材料の処理と改質の 　ためのフラッシュランプアニーリング（FLA） ■複雑な3D形状において高度な成膜制御により優れた均一性を持った 　単層結合のための原子層堆積（ALD）技術 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

安定した成膜とコストダウンの両立を実現します。 アメリカオングストローム・サイエンス社製の高機能・高品質な「マグネトロンスパッタカソード」です。 特許技術のShaped Magnet採用により、ターゲットの広い面積を利用するため、エロージョンの進行によるスパッタ状態の変化が起こりにくく、安定した成膜とターゲット交換のためのコスト低減を実現しています。 【特長】 ■Shaped Magnet高効率テクノロジーカソード: 高い成膜効率と安定性を実現 ■継続使用可能なターゲット: お手持ちのターゲットを再利用可能で、コスト減 ■安定した成膜とコストダウンの両立: エロージョンによるスパッタ状態の変化が少なく、ターゲット交換のコストを低減 ■既存各社のスパッタ装置での使用可能: 他社の装置にも適応可能 ■高真空対応: 幅広い用途に対応する高真空環境で使用可能 ■φ1インチからφ12インチ迄の対応: ターゲットサイズの柔軟な選択可能 ■豊富なオプション機構: シャッターやチルトアングルなど、多彩なオプション有 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

PlasmaQuest社 ヘリコン型 高密度イオンソースの開発販売、及び 応用製品の開発販売で25年の歴史を持つ優良企業です。 グリッドレスで高密度なプラズマを発生させるヘリコンプラズマソースは、多くの装置メーカーにOEM供給を続けていおります。 その高品位なプラズマソースをイオン源として、ターゲットにバイアス印加を行う画期的な手法「HiTUS」システムにより、様々な条件やターゲットを用いてのスパッタを実現しています。 従来のマグネトロンスパッタ装置では困難とされる高磁性ターゲットや高誘電ターゲットのスパッタ、金属とセラミックなどの異種ターゲットを同時に用いるCo-スパッタなど、多用途での運用を可能としています。 研究用途から生産規模の装置まで柔軟に対応できる多性を整えています。