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高精密光学フィルター成膜用マグネトロンスパッタ装置

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FHR Star EOSSシリーズ

最終更新日:2024年03月18日

ティー・ケイ・エス株式会社
ティー・ケイ・エス株式会社
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「FHR.Star.600-EOSS」は、精密な光学フィルター成膜用として開発された高機能マグネトロンスパッタ装置です。

今後大きな需要が期待されるLiDAR用途など、多層化と高再現性が求められる高機能光学フィルターの安定生産に力を発揮します。 ・シリンダー型カソードによる、ターゲット消耗による膜質変化の影響を廃した製膜 ・リアクティブイオンソース搭載による、酸化膜の安定成膜 ・最大4基のカソードの搭載による、幅広い多層膜の成膜 など、高品位な光学薄膜成膜に特化した装置です。 特徴 ■傑出した光学多層膜の再現性 ■優れた膜厚均一性 ■シリンダー型カソードとスパッタアップとの組み合わせによる  膜質の改善と欠陥の無い成膜 ■In-situモニタリングによる、成膜状態の連続監視 ■完全に自動化されたプロセス制御  ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

    スパッタリング装置
FHR.Star.600-EOSS.jpeg

高精密光学フィルター成膜用マグネトロンスパッタ装置

FHR.Star.600-EOSS.jpeg
FHR.Star.600-EOSS.jpeg unnamed.jpg FHR.Star.500-EOSS.jpeg unnamed (1).jpg unnamed (2).jpg
  • 光学 光学薄膜 リアクティブ 反応性 スパッタ マルチターゲット 複数ターゲット 
  • 特設サイト - 製品・サービス詳細 - https://pr.mono.ipros.com/tks-llc/product/

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基本情報

装置基本仕様 ■シリンダー型カソードとターゲットの採用  ▶ターゲット寿命は長く、その寿命末期まで成膜レートの変動は極小 ■最大4基のカソードを搭載可能  ▶各種ターゲットの組み合わせによる、幅広い光学特性フィルターの生産が可能 ■リアクティブ成膜用イオンソースを搭載  ▶成膜時のイオン照射による基板上での酸化膜・窒化膜の成膜が可能。 ■大型基板への成膜  ▶300mm もしくは 280×330×50 mm サイズの基盤(フラット、曲面)まで対応  ▶基盤加熱機構も組み込み可能

価格帯

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納期

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用途/実績例

【主要アプリケーション】 ■反射防止膜 ■バンドパスフィルター ■エッジフィルター ■ノッチフィルター ■誘電体ミラー ■ダイクロミックミラー ■ビームスプリッター ■偏光フィルター ■ウエアラブルディスプレイ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ラインアップ(2)

型番 概要
FHR.Star.600-EOSS 精密な光学フィルター成膜用として開発された高機能マグネトロンスパッタ装置
FHR.Star.500-EOSS 精密な光学フィルター成膜用として開発された高機能マグネトロンスパッタ装置

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スパッタリング装置『FHR.Star.600-EOSS』

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この製品に関するニュース(1)

大好評 高精密光学フィルター成膜用マグネトロンスパッタ装置

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今後大きな需要が期待されるLiDAR用途など、多層化と高再現性が求められる高機能光学フィルター等の光学薄膜に特化した装置です。高品質かつ安定生産に力を発揮します。 ・シリンダー型カソードによる、ターゲット消耗による膜質変化の影響を廃した製膜 ・リアクティブイオンソースの搭載による、酸化膜の安定成膜 ・最大4基のカソードの搭載による、幅広い多層膜の成膜

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半導体・電子デバイス・光学薄膜製造装置のことなら当社へ 当社は、2016年3月に真空プロセスに関連する世界の先進技術を有する 海外メーカー数社の代理店業務ならびにこれら装置に係わる保守業務を 提供する目的で設立致しました。 当社の取扱製品・装置は、スパッタリング、高密度プラズマソースおよびパルス電源、 イオンビームエッチング・ミリング、イオンビームスパッタリング、 中性クラスターイオンビームプロセス装置、有機材料昇華精製並びに成膜装置、 液体用各種フィルター、洗浄用ブラシなど多岐にわたっています。

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