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電子線描画装置用パターン発生装置 SPG‐724は、半導体を製造するためのものではなく微細回路・微小光学部品・ナノマシンの研究開発を行うためのものです。 電子線発生と偏向は、SEMそのもので行っています。SPC‐724をSEMに取付けることで、観察用のSEMが描画装置になるわけです。 SEM本体の他に必要なものは、ビームのオンオフを行うブランキング装置、露光量を測定するための電流計、描画パターンをブランキング装置や偏向器におくるパターン発生器とそれらを制御するコンピュータとなります。 【特徴】 ○アドオンスタイルのEBリソグラフィ用パターン発生装置 →様々なタイプのSEMに取付けることが可能 ○市販CADの採用により浮かんだアイデアをすぐ形にできる使いやすさ ○電子線描画専用機を扱うときのような専門知識/熟練技術が不要 →どなたでも気軽にパターンをつくることができる ○広域エリア(最大5mm)の一括露光を実現 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。