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応用露光装置
応用露光装置です
用途：半導体後工程、RFフィルター、パワー半導体、電子部品、パッケージ、研究、MEMS 対応基板：ウエハ（特殊ウエハ含む）各種サイズ、ガラス、有機基板など 当社では、カスタム設計やレンズ設計・製造・販売、LED光源の販売も行っています。 詳しくはお気軽にお問い合わせください。
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