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シグマ光機株式会社

設立1977年4月
従業員数338名
住所東京都墨田区緑1-19-9
電話03-5638-6551
  • 公式サイト
最終更新日:2025/05/12
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サブミクロンフィードバックステージ FS-3200X/XY

【精密位置決め装置】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ!

光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 50nm 』または『 100nm 』分解能(*1)でストロークは『 200mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 スローダウンセンサを搭載しており、ストロークエンドでの停止時の衝撃を小さくできます。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-414またはFC-114との組み合わせ

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真空対応サブミクロンフィードバックステージ 昇降タイプ

真空中で使用可能!リニアエンコーダ内蔵でサブミクロン分解能のZ軸用位置決めステージ!

光学式リニアスケールを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 『 50nm 』(*1)又は『 100nm 』(*2)分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-411との組み合わせ (*2)フィードバックステージコントローラFC-111との組み合わせ

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真空対応5nmフィードバックステージ 50mm動作

真空中で使える 5nm分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置決めステージ

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、薄型で軽量な設計、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 50mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。

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真空対応5nmフィードバックステージ 40mm動作

真空中で使える 5nm分解能で40mm動作の高性能位置決めステージ

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 40mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。

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真空対応5nmフィードバックステージ 20mm動作

真空中で使える リニアエンコーダによる5nm分解能の高性能位置決めステージ

位置決めステージにアウトガス対策を施してあるため、真空チャンバーにそのまま導入可能です。 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダの位置情報によるフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 20mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。

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真空対応10nmフィードバックステージ 50mm動作

【真空対応】リニアエンコーダの位置情報で再現性が取れる10nm分解能で50mm動作の高性能位置決めステージ

真空中で使用するためにアウトガスを出さない部品でステージを作りました。 そのため、真空チャンバー内にステージを導入可能です。 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダの位置情報によるフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 50mmストロークを10nm分解能で動作させることができます。

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真空対応10nmフィードバックステージ 40mm動作

【真空対応】40mmの範囲を10nm分解能で動作する高性能位置決めステージ

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダの位置情報によるフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 40mmストロークを10nm分解能で動作させることができます。

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真空対応10nmフィードバックステージ 20mm動作

【真空中で使用可能】10nm分解能で動作するリニアエンコーダ内蔵の高性能位置決めステージ

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 光学式リニアエンコーダを内蔵しており、エンコーダで検出した位置情報をもとにフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 20mmストロークを10nm分解能で位置決めができます。

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真空対応10nmフィードバックステージ 100mm動作

【10nm分解能】真空中で使用可能なリニアエンコーダ内蔵のロングステージ

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 光学式リニアエンコーダを内蔵しており、エンコーダで検出した位置情報をもとにフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 移動範囲100mmと長いため試料の移動と精密位置決めが1台で可能だったり、広範囲のデータ(スペクトル等)が必要な場合に有効です。

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真空対応10nmフィードバックステージ 昇降タイプ

【真空対応】リニアエンコーダ内蔵で10nm分解能のZ軸用位置決めステージ

光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 10nm分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を用意。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 テーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。

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真空対応10nmフィードバックステージ 微小回転タイプ

【真空対応】最小分解能0.00001°で±4°動作できるエンコーダ内蔵の微小回転ステージ

光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能微小回転ステージです。 0.00001°分解能でストロークは±4° アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 回転方向の調整用に適しています。

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真空対応サブミクロンフィードバックステージ 100mm動作

真空中で使用可能!リニアエンコーダ内蔵でサブミクロン分解能の位置決めステージ

内蔵の光学式リニアエンコーダでステージの位置を検出してフルクローズドループ制御を行っているため高分解能、位置再現性に優れています。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 100mmの範囲を動作可能でその分解能はコントローラによって 「50nm」または「100nm」になります。

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真空対応サブミクロンフィードバックステージ 50mm動作

【真空対応】サブミクロン分解能で動作範囲50mmの位置決めステージ

ステッピングモーターとボールねじを使用して駆動しているため 位置の保持性に優れています。 内蔵の光学式リニアエンコーダでステージの位置を検出してフルクローズドループ制御を行っているため高分解能で位置再現性に優れています。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 50mmの範囲を動作可能で「50nm」または「100nm」分解能で 制御することが可能です。(コントローラによって変わります)

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真空対応サブミクロンフィードバックステージ 40mm動作

【真空で使える】エンコーダ内蔵の高分解能位置決めステージ

内蔵の光学式リニアエンコーダでステージの位置を検出してフルクローズドループ制御を行っているため高分解能で位置再現性に優れています。 ステッピングモーターとボールねじを使用して駆動しているため 位置の保持性に優れています。 真空チャンバー内でアウトガスが発生しづらい部品などを使用しているため、真空チャンバー内にステージを配置することができます。 40mmの範囲を動作可能で「50nm」または「100nm」分解能で 制御することが可能です。(コントローラによって変わります)

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真空対応サブミクロンフィードバックステージ 20mm動作

【真空で使える】サブミクロン分解能のフィードバックステージ

内蔵の光学式リニアエンコーダでステージのテーブルの位置を検出して、コントローラに位置情報をフィードバックしているため高分解能で位置再現性に優れています。 ステッピングモーターとボールねじを使用して駆動しているため 位置の保持性に優れています。 アウトガス対策として潤滑材、線材やモーター等を真空対応品に変更しているため、真空チャンバー内で使用可能です。 20mmの範囲を動作可能で「50nm」または「100nm」分解能で 制御することが可能です。(コントローラによって変わります)

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真空対応サブミクロンフィードバックステージ 微小回転タイプ

真空中で使用可能!回転方向調整用ステージ 

光学式リニアエンコーダを内蔵しており、ステージの可動部分の位置を検出することができるため、その位置情報をもとにコントローラが降るクローズドループ制御を行うため位置の再現性に優れています。 分解能はコントローラによって「0.00005」または「0.0001」分解能で 動作させることができます。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。

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ジョグコントローラ JC-01

手元で簡単操作 位置決め対象を見ながら操作ができる

位置決め装置のステージコントローラ(シグマテック製)を手元で操作することができます。 ジョグによるステージ動作だけでなくコントローラにプログラムされた動作(ティーチング機能)を実行することができます。

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10nmフィードバックステージ FS-1100PX/XY

【エンコーダ内蔵】10nm分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ!

光学式リニアエンコーダをステージ中央に内蔵して位置検出誤差を少なくし、コントローラへ位置情報をフィードバックすることで高い分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 100mm 』となっております。 動作範囲が長いため移動と位置決めがこのステージ1台で行えます。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-511との組み合わせ

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Z軸用10nmステージ FS-1005PZ/1010PZ

【昇降ステージ】リニアエンコーダ内蔵により10nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ

光学式リニアエンコーダを内蔵した高分解能Z軸用位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-511との組み合わせ

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サブミクロンフィードバックステージ FS-1020X/XY

【エンコーダ内蔵】高分解能かつストロークが長い位置決めステージ

光学式リニアエンコーダをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 50nm 』又は『 100nm 』分解能(*1)でストロークは『 20mm 』となっております。 自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-111又はFC-411との組み合わせ

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サブミクロンフィードバックステージ FS-1040X/XY

【エンコーダ内蔵】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ!

光学式リニアエンコーダをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 自社開発したエンコーダで位置を読み取りフィードバック制御を行うことで分解能・位置決め再現性・位置保持性に優れています。 フィードバックステージコントローラ FC-411と組み合わせることで『50nm』分解能で動作。 FC-111と組み合わせることで『100nm』分解能で動作します。 ストロークは『40mm』となっています。

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サブミクロンフィードバックステージ FS-1050X/XY

【精密位置決め装置】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ!

光学式リニアエンコーダをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 50nm 』又は『 100nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-411又はFC-111との組み合わせ

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サブミクロンフィードバックステージ FS-1100X/XY

【100mmストローク】ロングストロークかつ高分解能な位置決めステージ

光学式リニアエンコーダをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 エンコーダで位置を検出してフィードバック制御を行っているため分解能・位置再現性・位置保持性に優れています。 フィードバックステージコントローラFC-411と組み合わせた場合は『50nm』、FC-111と組み合わせた場合には『100nm』分解能で動作し、 ストローク範囲は『100mm』となっています。

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サブミクロンフィードバックステージ FS-3150X/XY

【ロングストローク】エンコーダを内蔵した高分解能・高い位置再現性・高い位置保持性を持った位置決めステージ

光学式リニアエンコーダをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 『 50nm 』又は『 100nm 』分解能(*1)でストロークは『 150mm 』となっております。 ストロークが長いため試料の移動と精密位置決めをこれ1台で行うことができます。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-411又はFC-111との組み合わせ

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Z軸用サブミクロンステージ FS-1005Z/1010Z

【精密位置決め装置】50nm又は100nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高いZ軸用位置決めステージ!

光学式リニアスケールを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 『 50nm 』(*1)又は『 100nm 』(*2)分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-411との組み合わせ (*2)フィードバックステージコントローラFC-111との組み合わせ

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微小回転用フィードバックステージ FS-1120θ

【精密位置決め装置】『0.00005°』又は『0.0001°』のフィードバック微少回転用位置決めステージ!

光学式エンコーダを内蔵したストローク『±4°』の微少回転用位置決めステージです。 最小ステップ送り『0.00005°』(*1)又は『0.0001°』(*2)でフィードバック制御が可能となっております。 自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-401との組み合わせ (*2)フィードバックステージコントローラFC-101との組み合わせ

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ロングスケールステージ FS-3000/2000シリーズ

【精密位置決め装置】ロングストロークで高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性も備えたステージ!

光学式リニアスケールを搭載して検出誤差を少なくした高分解能ロングストローク位置決めステージです。 『 50nm 』(*1)又は『 100nm 』(*2)分解能でストロークは『 200mm 』『 300mm 』『 400mm』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、 位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-401との組み合わせ (*2)フィードバックステージコントローラFC-101との組み合わせ

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5nmフィードバックステージ FS-1020SPX/XY

【エンコーダ内蔵】分解能・位置決め再現性・位置保持性が高い5nm分解能位置決めステージ!

光学式リニアエンコーダをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 5nm 』分解能(*1)でストロークは『 20mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、 位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-611との組み合わせ

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5nmフィードバックステージ FS-1040SPX/XY

【精密位置決め装置】リニアエンコーダを内蔵し、5nm分解能で動作する位置決めステージ

光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 5nm 』分解能(*1)でストロークは『 40mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路によりフルクローズドループ制御を行っているため、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-611との組み合わせ

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5nmフィードバックステージ FS-1050SPX/XY

【精密位置決め装置】5nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ!

光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 5nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-611との組み合わせ

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10nmフィードバックステージ FS-1020PX/XY

【10nm分解能】フィードバック制御により位置の分解能・再現性・保持性が優れた位置決めステージ

光学式リニアエンコーダをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 エンコーダの位置情報をもとにフィードバック制御を行い、高分解能・高い位置再現性・高い位置保持性を持っています。 フィードバックステージコントローラ FC-511と組み合わせて使用することでストローク『 20mm 』間を『 10nm 』分解能で動作します。

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10nmフィードバックステージ FS-1040PX/XY

【ストローク40mm】10nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置保持性が高い位置決めステージ!

光学式リニアエンコーダをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、分解能、位置決め再現性、位置保持性が優れております。 フィードバックステージコントローラ FC-511と組み合わせることでエンコーダの読み取り値の『10nm』分解能で『40mm』ストロークで動作させることができます。

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10nmフィードバックステージ FS-1050PX/XY

【精密位置決め装置】10nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ!

光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、 位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-511との組み合わせ

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