WETプロセス装置 マルチスピンプロセッサーは、基板をスプレー方式にて現像/エッチング/乾燥処理を行ないます。 株式会社電子技研の洗浄等のスピンをはじめとするWET装置技術は、ウエハ・ガラス基板等をはじめ、プリント基板、金属基板等の洗浄、その他多用途で半導体・LCD業界、医療業界、食品業界他、幅広い業界のニーズに対応できます。 【特徴】 ○スピン＆スプレー併用により高精度で均一なプロセスを実現 ○ダブルハンドロボットによる搬送 ○現像/エッチング/乾燥等のプロセスを並列処理 ○カップ洗浄機能付 ○N2ブローと高速スピン回転により短時間での乾燥を実現 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

WETプロセス装置 枚葉スピンプロセッサーは、基板をスピン回転及びスプレーにて洗浄/リンス後、高速スピン回転で乾燥を行ないます。 装置を複数台配置することにより、容易にマルチプロセスを実現することができます。（例：現像→エッチング→洗浄、乾燥） 株式会社電子技研の洗浄等のスピンをはじめとするWET装置技術は、ウエハ・ガラス基板等をはじめ、プリント基板、金属基板等の洗浄、その他多用途で半導体・LCD業界、医療業界、食品業界他、幅広い業界のニーズに対応できます。 【特徴】 ○優れたパーティクル除去性能 ○高速スピン洗浄によるタクトタイムの大幅短縮が可能 ○省スペースによるコンパクト化を実現 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

WETプロセス装置 枚葉基板洗浄装置は、基板を水平搬送にて、UV洗浄、ブラシ洗浄、シャワースプレー洗浄、超音波洗浄、乾燥処理を行います。 株式会社電子技研の洗浄等のスピンをはじめとするWET装置技術は、ウエハ・ガラス基板等をはじめ、プリント基板、金属基板等の洗浄、その他多用途で半導体・LCD業界、医療業界、食品業界他、幅広い業界のニーズに対応できます。 【特徴】 ○UV/O3によるシャワースプレー洗浄前の親水性を向上 ○UV洗浄/シャワースプレー洗浄/乾燥等のプロセスを並列処理 ○基板傾斜水洗機能による自然落下、置換の高効率化 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

WETプロセス装置 LCDマスク洗浄装置は、LCD用マスクをブラシ及びUSスプレーにて洗浄し、高速スピン回転により乾燥を行います。 株式会社電子技研の洗浄等のスピンをはじめとするWET装置技術は、ウエハ・ガラス基板等をはじめ、プリント基板、金属基板等の洗浄、その他多用途で半導体・LCD業界、医療業界、食品業界他、幅広い業界のニーズに対応できます。 【特徴】 ○インテリジェンスコントロールによるマスク基板へのソフトコンタクト ○メカニカルサイドグリップ方式を採用したマスクパターン非接触 ○自動マスク反転機構を備えた両面洗浄技術 ○マスクケースより自動取り出し収納機構 ○超音波ノズルによるスキャンスプレー洗浄 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

WETプロセス装置 LCDカセット洗浄装置は、LCD等のカセットを高圧温純水スプレーにて洗浄後、HOTエアーブロー及びトルネードスピン回転により乾燥を行います。 株式会社電子技研の洗浄等のスピンをはじめとするWET装置技術は、ウエハ・ガラス基板等をはじめ、プリント基板、金属基板等の洗浄、その他多用途で半導体・LCD業界、医療業界、食品業界他、幅広い業界のニーズに対応できます。 【特徴】 ○シンプルな機構設計で省スペース、省エネルギー化を実現 ○カセット内側の専用ノズルによりコーム洗浄を行う ○圧縮エアーとスピン回転の併用により高レベル乾燥を実現 ○HOT-FFU搭載によるチャンバー加温システムを採用 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

WETプロセス装置 LCD枚葉エッチング装置は、LCD用基板を水平搬送にて、エッチング・シャワー洗浄、乾燥処理を行います。 株式会社電子技研の洗浄等のスピンをはじめとするWET装置技術は、ウエハ・ガラス基板等をはじめ、プリント基板、金属基板等の洗浄、その他多用途で半導体・LCD業界、医療業界、食品業界他、幅広い業界のニーズに対応できます。 【特徴】 ○ディップ、スプレー及び揺動機能方式エッチングにより 　均一なプロセスを実現 ○エッチング/シャワー洗浄/乾燥等のプロセスを並列処理 ○基板傾斜水洗機能による自然落下効果及び置換の高効率化 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

廃液の砥粒を回収する設備で分離した透過液をご要望に合わせて再利用する事が可能です。 又、ヒーター等の加熱が無いことでランニングコストを低減します。 メンテナンスにつきましても楽に洗浄が出来て保全人員の苦労がありません。 ＜特長＞ ★ 半導体用のスラリーやバックグラインダーなどの研磨廃液を希釈廃液濃度により1/10から1/100まで濃縮して減容します。 ★ 膜を透過した液はご要望により中和後に廃水可能な放流水や市水、或いは一次純水相当まで処理する事が可能です。 ★ 廃液量により3種の機種を揃えています。 ★ メンテナンス回数を削減できる自動洗浄機能や遠隔監視などのオプションも豊富です。 ★ コンパクト設計なので既存工場においても設置場所を選びません。 ★ 加熱処理を行わず主にポンプ運転のみでランニングコストの削減が可能です。