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株式会社クリスタルシステム

住所山梨県北杜市小淵沢町9633-1
電話0551-36-5271
  • 公式サイト
最終更新日:2017/12/21
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ブリッジマン炉『VEF-1800-BR-VM』

遅送り機能を付加!ブリッジマン法結晶育成用としても使用可能なブリッジマン炉

『VEF-1800-BR-VM』は、試料回転昇降装置と縦型環状炉で構成された ブリッジマン炉です。 真っ直ぐで、同じ焼結密度を持った試料棒の焼結を容易かつ安定して 作製することが可能となっております。 さらに、遅送り機能を付加し、回転昇降機能の他にブリッジマン法 結晶育成用としても使用することができます。 【特長】 ■試料回転昇降装置と縦型環状炉で構成 ■真っ直ぐで、同じ焼結密度を持った試料棒の焼結を容易に作製可能 ■遅送り機能を付加し、ブリッジマン法結晶育成用としても使用できる ■設定の容易さや操作性に優れたタッチパネルを採用 ■回転昇降機付縦型電気炉と同様に原料棒の焼結も可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 工業炉

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雰囲気制御一方向凝固炉『VFK-1800-BR』

粉体焼成から結晶成長までの多目的な使用が可能な雰囲気制御一方向凝固炉

『VFK-1800-BR』は、空気中で1800℃までのニ硅化モリブデン発熱体を 用いた高温電気炉に炉芯管及び、坩堝の昇降機構を加えた縦型昇降炉です。 炉芯管及び坩堝の昇降機構により、雰囲気を制御しながら、粉体焼成から 結晶成長(ブリッジマン法)までの多目的な使用が可能です。 プログラムコントローラからのイベント出力により、遅送りモータの駆動の 自動運転、停止ができ、温度とモータ駆動のプログラムがPC上で自在に 操作できます。 【特長】 ■粉体焼成から結晶成長までの多目的な使用が可能 ■遅送りモータの駆動の自動運転、停止が可能 ■温度とモータ駆動のプログラムがPC上で自在に操作可能 ■制御温度と炉内温度はPC画面上でモニターできる ■データ取りも簡単に操作可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 工業炉

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回転昇降装置『EF-6000』

特にFZ法に適した焼結原料棒が効率よく作製可能!操作性に優れたタッチパネルを採用しています

クリスタルシステムが取り扱っている回転昇降装置『EF-6000』を ご紹介します。 昇降機に試料を吊り下げ、試料を回転、上下移動させる事により、 真っ直ぐで同じ焼結密度をもった、特にFZ法(Floating Zone Method)に 適した焼結原料棒が効率よく作製できます。 設定の容易さや操作性に優れたタッチパネルを採用。また、駆動系に遅送り 機能を付加したことにより、ブリッジマン炉としても使用が可能です。 【特長】 ■焼結炉内で回転させながら均一に焼結 ■真直ぐで均一な原料棒を作製 ■設定の容易さや操作性に優れたタッチパネルを採用 ■ブリッジマン炉としても使用が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他機械要素
  • その他生産管理システム

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丸棒試料成型器具セット『RM-001』

豊富な単結晶育成経験を反映したコンパクトでありながら高品質、高性能な原料棒作成システムを提供します!

クリスタルシステムが取り扱っている丸棒試料成型器具セット 『RM-001』をご紹介します。 当製品は、粉末試料を成形するための器具一式が取り揃えられており、 FZ法による単結晶育成用の原料棒を簡単に成形することが出来ます。 付属された器具を使用して、ゴム製のチューブに粉末試料を詰め込み、 真空ポンプでチューブ内の残存空気を排出します。 【特長】 ■粉末試料を細長いゴム風船に効率よく充墳 ■残存空気排出用真空ポンプを使用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 粉末成形機
  • 工具セット

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急冷ローラー装置『KQ-3R-03』

ガラスの板厚を制御できるよう、ローラーの間隔を変更できる機構となっています!

『KQ-3R-03』は、新しいガラス及びセラミック開発のために、 設計された急冷ローラー装置です。 ガラス化に必要な急冷部には、ステンレス製のローラーを使用し、 左右巻き込みツインローラーによるプレス形式を採用。 ガラスの板厚を制御できるよう、ローラーの間隔を変更できる 機構となっています。 【特長】 ■高温媒体を急激に冷やす事が可能 ■ガラス化実験などに好適 ■左右巻き込みツインローラーによるプレス形式を採用 ■ローラーの間隔を変更できる機構 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • ローラー
  • 冷却装置

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静水圧プレス装置『HPTS-M-200』

加圧には手動式と電動式の加圧(油圧)ポンプを選択出来ます!

『HPTS-M-200』は、FZ 法による単結晶製造装置を用いた結晶育成に際し、 均質かつ真っ直ぐな原料棒を効率よく成形する為の静水圧プレス装置です。 ゴム・チューブに入れられた粉末原料を水で満たした圧力容器に入れて、 静水圧プレスで、加圧、成形。 加圧には、手動式と電動式の加圧(油圧)ポンプを選択出来ます。 【特長】 ■原料粉末を静水圧プレス法で成型 ■細長い成型棒を容易に作製 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 水圧機器

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回転昇降機付縦型電気炉『VEF-1800-BR-AT』

真っ直ぐで、同じ焼結密度を持った試料棒の焼結を容易かつ安定に、作製することが可能!

光学式浮遊帯域溶融装置による単結晶育成は、融体を試料棒自身に 保持させながら試料の融解、凝固を継続させる方法である為、試料棒の 作製が第一の重要な作業になっております。 当製品は、試料回転昇降装置と縦型環状炉で構成され、真っ直ぐで、同じ 焼結密度を持った試料棒の焼結を容易かつ安定に、作製することが可能です。 さらに、遅送り機能を付加し、上記回転昇降機能の他にブリッジマン法 結晶育成用としても使用することが出来ます。 【特長】 ■真っ直ぐで同じ焼結密度をもった、特にFZ法に適した  焼結原料棒が効率よく作製できる ■設定の容易さや操作性に優れたタッチパネルを採用 ■駆動系に遅送り機能を付加したことにより、ブリッジマン炉  としても使用が可能 ■発熱体には、MoSi2を使用しており最高温度は1800℃ ■炉内には1系統の雰囲気ガスをフローすることが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 電気炉

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高温モリシリ電気炉(MoSi2ヒーター炉)

高圧雰囲気電気炉、特殊用途向け電気炉等、設計、製作いたします!

当製品は、二硅化モリブデン発熱体(MoSi2)を使った高温電気炉です。 空気中で、最高1800℃の超高温領域まで、手軽に使用することが可能。 ご使用目的に合わせて、縦型管状炉、横型管状炉、マッフル炉、坩堝昇降機構付き 電気炉など豊富なバリエーションの中からお選びいただけます。 ヒータ自体の価格も格安となっており、ランニングコストが大幅に低減できます。 【特長】 ■二硅化モリブデン発熱体(MoSi2)を使った高温電気炉 ■空気中で、最高1800℃の超高温領域まで、手軽に使用可能 ■豊富なバリエーション ■ランニングコストが大幅に低減できる ■お客様の用途に合わせ、炉内サイズや雰囲気制御など  各種カスタマイズに対応可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 電気炉

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精密卓上研磨機『TP-02』【試料の正確な研磨が可能!】

試料の張り付け、面出し、粗研磨、仕上げ研磨までに対応する精密卓上研磨機!高い面精度を要求される試料の正確な研磨が可能!

『TP-02』は、小型で、研磨しながら同時に高い面精度を維持できる機構が採用された卓上研磨機です。簡便に正確な研磨を行うことが可能。試料の張り付け、面出し、仕上げ研磨まで、全ての作業が簡便に出来ます。 【特長】 ■小型・卓上型 ■研磨しながら同時に高い面精度を維持 ■正確な研磨を行うことが可能 ■試料の張り付け、面出し、仕上げ研磨まで、全ての作業が簡便 ※詳細は資料請求して頂くか、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。

  • ウエハ加工/研磨装置
  • その他研磨材

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結晶方位切断機『CU-02』

X-線ラウエ法で方位を特定!そのままの方位で切断できる装置

『CU-02』は、試料を3軸ゴニオメーターステージに搭載した 結晶方位切断機です。 X-線ラウエ法で結晶方位を特定し、その結晶方位を維持したまま 切断装置に装着し、切断できる構造となっております。 外周式ダイヤモンドブレードを用いており、切断に必要な荷重量は 可変できるため大事な試料を安全に、かつ正確に切断できます。 【特長】 ■X-線ラウエ法で結晶方位を特定 ■結晶方位を維持したまま切断装置に装着、切断が可能 ■切断に必要な荷重量は可変できる構造 ■試料を安全、かつ正確に切断 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他加工機械
  • その他

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溶融装置『FZ-T-10000-H-VII-VPO-PC』

四個の楕円鏡を用いた均質な加熱を実現!

『FZ-T-10000-H-VII-VPO-PC』は、パソコンを用いた遠隔操作が可能で 再現性にも優れ、複雑な組成の単結晶育成において圧倒的な優位性を 発揮する四楕円鏡型浮遊帯域溶融装置です。 四個の楕円鏡を用いている為、均質に原料を融解。 長時間の安定した条件下で単結晶育成を継続する事により、 高品質単結晶を容易に作成可能にしました。 【特長】 ■四個の楕円鏡を用いた均質な加熱を実現 ■材料に合わせた最適なランプの選択 ■高真空に排気後、最高0.95MPaまでの高圧雰囲気下でのスムーズな育成 ■パソコンを用いた遠隔操作とスムースな操作環境を実現 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 加熱装置
  • その他理化学機器

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