イー・スクエアの製品・サービス一覧

大気圧プラズマ装置での粒子の分散性、粒子への親水化、 金属粒子への表面還元を高効率に処理ができる方法を開発しました。 ダウンストリーム型で幅広、長尺ワークへの有利な処理方法を生かした構造を 利用し、ラジカルをキャビティ内部に閉じ込め、ワークと撹拌することで、 より効率的な表面処理を可能にしました。 ワークに対して電気的・電磁波ダメージや、UVダメージを完全に排除しているため、 金属粒子への表面改質はもちろん、ワーク表面へのダメージは皆無。 このため、処理後ワークへの帯電は生じません。 【特長】 ■ダウンストリーム型で幅広 ■長尺ワークへの有利な処理方法を生かした構造 ■ワークに対して電気的・電磁波ダメージや、UVダメージを完全に排除 ■プラズマ照射幅（100mm～2000mm）の幅で製作可能 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

当ページでは、コロナ処理や、アーク等を用いた装置ではなく、 完全なるバルクプラズマを発生させた大気圧プラズマ装置を主体に置き、説明しております。 ワーク（被処理物）の性格や、次工程への状況を踏まえ、 大気圧プラズマ装置選定時の最適化のご参考になれば幸いです。 酸素ラジカルやOHラジカルなどでのドライ洗浄や、官能基等の親水処理化など、接着材を用いない接着剤レス接着に関して、銅箔、基材間との分子結合を主体とし、エッジ効果を排除した接着が可能で、今後の5G、6G向けのFCCL等プリント基板や実装工程に寄与できるものと考えます。 また、リチュウームイオン電池への電解液含浸プロセスの時短、電極形成時の異種材接着へのダメージレスダイレクト接着工程への応用。 詳しくは、下記の関連リンクよりご覧ください。 【掲載内容】 ■使用目的（大気圧プラズマ装置で可能な処理） ■大気圧プラズマ装置の処理形態を大きく分類すると3種に大別される ■被処理物とプラズマ形態 ■当社独自の装置特長（ダウンストリーム型） ■誘電体バリア（DBD）放電の内部模式図 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。

大気圧プラズマ装置を用いたミリ波に対応するFCCL製造関連に適した伝送ロスを排除した接着技術であり、分子結合を利用した接着剤レス接着であるため信頼性が高く、ワーク表面のフラットな状態をキープしながら、フッ素樹脂やその他フィルムとの異種材接着を実現している。 使用ガス種の変更により選択的に共有結合分子を選択でき、接着相手側との最適化を実現。 また、既存接着強度の向上にも適用可能です。 本資料では、「ダウンストリーム型大気圧プラズマ装置」を使った、 接合・接着の概要や必要な前処理、活用メリットについて紹介しています。 【掲載内容】 ■基本的概念 ■メリット ■プラズマ処理のイメージ図 ※PDFダウンロードよりご覧いただけます。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

株式会社イー・スクエアは2001年に大気圧プラズマ装置をリリース以降、1200台以上（2021年時点　国内外表示デバイス市場・その他）の販売実績を誇る大気圧プラズマ装置専門メーカーです。　 今回「ワーク表面」や「電子デバイス」にダメージを与えない表面への機能性付与の新提案です。　 【掲載内容】 ■はじめに～背景 ■プラズマ処理形態 ■大気圧プラズマ装置から発生する種々のダメージ ■現在の開発テーマ ■最後に 本資料では、大気圧プラズマ使用時の各種ダメージとその原因、電極構造の関係とダメージレス表面機能化やナノレベルの詳細について記載しております。 ※詳細はPDFをダウンロードいただくか直接お問い合わせ下さい。

弊社ダウンストリーム型プラズマ装置は処理時に生ずる種々のダメージ等を排除し、 クリーン処理、かつ、スムース表面での接着が可能で、５G,６G向けFCCL製造関連等や、 2次電池市場でのカーボンフィルム等、電極製造関連の異種材接着、接合時のドライ前処理に適しています。 また、接合界面材質に見合った結合分子を、添加ガスの変更やプラズマパラメータの最適化により、 界面に対し、選択的に機能性分子（共有結合分子等）付与できます。 困難なPFAやPTFE表面親水化に於いても、接触角を10度以下にすることも可能です。 ※弊社ラボにてサンプルワークも実施しております。 【掲載内容】 ■基本的概念 ■メリット ■処理イメージ（R to R） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。