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セラミックス成分のみで構成する蛍光体プレート。 耐熱、耐光、高演色、高効率、形状/寸法自由。 ご要望にピッタリの仕様で納品します。
【特徴】 ○高強度 ○耐摩耗性 ○耐熱性 ○大型形状可能 ○比較的安価 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
【特徴】 ○高精度:平面度0.2μm,L/F0.1μm以下 ○材質選択性:結晶化ガラス、SiC、導電性セラミックス ○形状制御:ウエハーの形状に応じたチャック形状 ○低パーティクル性:ポアフリー、Double-Polishing ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
【特徴】 ○Zero thermal expansion type ESC ・高精度 平面度<100nm(8インチ) ・ポアフリー化対応 ・高比剛性 ・非磁性 ○Built in Heater type ESC ・ジョンセン・ラーベック型 ・8・12インチ対応 ・電極パターン 単極、双極選択可 ・面状発熱体内蔵により優れた面内温度均一性 ○Spray coat type ESC ・低インピーダンス 高熱伝達(熱通過)モジュールの実現 ・MMC基材による大型化の実現 溶射膜との熱膨張マッチングにより、信頼性の高い静電チャックが製作可 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
【特徴】 ○ポーラスと基台が一体構造 独自の技術により、基台とポーラス体の界面は、一体構造を有しています。 これにより、非常に優れた吸着面の平面度を得ることが可能になります。 ○豊富なポーラス体ラインナップ お客様の用途に合わせて材質を選択でき、気孔径及び気孔率は、以下の範囲で制御可能です。 ・材質:アルミナ、炭化ケイ素 ・気孔径:5、10、30、70μm ・気孔率:30~60% ○形状は自由自在 丸型でも角型でもお客様のニーズにお応えします。 通気溝パターンも任意に形成可能です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
【特徴】 ○低熱膨張 ○高剛性 ○非磁性 ○再結晶化ガラスに代わり、ナノレベルの制御が求められる半導体製造装置(ウエハ露光、レチクル描画等)に対応 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
【特徴】 ○超緻密 ○高耐圧性 ○低コスト ○高付加価値テクノロジー ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
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