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成膜 ・PBII（Plasma Based Ion Implantation) 　カーボン成膜が可能 ・スパッタ 　電極膜の成膜が可能 熱処理 ・RTA（Rapid thermal annealing） 　縦型高周波誘導加熱方式により、～1800度までの熱処理が可能 ・酸化炉 　酸化、熱処理

Film formation ・ PBII (Plasma Based Ion Implantation) Carbon deposition ・ Sputter Possible to form electrode film Heat treatment ・ RTA (Rapid thermal annealing) Heat treatment up to 1800 degrees is possible by vertical high-frequency induction heating ・ Oxidation furnace Oxidation, heat treatment