週間タイマー付きヒーターコントローラーは、設定された時間にヒーター制御を開始(または停止)させることのできるコントローラーです。 プロセス原料やワークなど、作業開始時には適温に温まっていて欲しい。 そんなときには目覚まし時計感覚で加熱が始まる株式会社メープルのヒーターコントローラーをご検討ください。 曜日ごとに開始時刻/停止時刻を設定できるので、柔軟な運用計画を立てられます。 手動操作スイッチを備えているので、タイマーに依らない適時操作も可能です。 過昇温/過電流への安全回路ももちろん実装。無人運転時でも安心してご利用ください。時間とエネルギーの有効活用に一助となれば幸いです。 【特徴】 ○目覚まし時計感覚で加熱開始 ○1週間に渡ってスタート･ストップスケジュールを組める ○曜日ごとの時間が異なる状況にも対応可能 ○過昇温/過電流への安全回路も実装 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• コントローラ

株式会社メープルのヒーターコントローラーは、真空チャンバー製造や成膜装置製作の経験を基に、現場での作業性・使い勝手を第一に考えた「真空屋のヒーターコントローラー」です。 真空チャンバーに必要不可欠な焼き出し作業にとどまらず、温度管理を必要とするあらゆる場面でお役立ていただける利便性をお届けします。 【特徴】 ○見やすい温度表示 ○加熱監視で安心 ○ヒーターを一括起動 ○コネクター式で簡単接続 ○タイマーでヒーター停止が可能 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• コントローラ

「MDC8540L」は、パワーデバイスや青色レーザーダイオード、青色LED等の化合物半導体製造用MOCVD装置の治具に、成膜時に堆積するGaN、AlN等のドライエッチング方式で洗浄するMDCシリーズのフラッグシップモデルです。 量産時の製品歩留まりの向上、ランニングコスト削減に最適です。 【特徴】 ■GaN、AlN成膜装置に使用する各種治具のドライ洗浄に最適 ■洗浄可能治具は、SiCコートカーボンサセプター、石英治具等 ■ダミーウエハのサファイア基板も洗浄可能 ■ウエット洗浄や、大量の予備部品不要 ■本装置導入による、メンテナンス費用の削減 ■作業者に負担のかからない、安全設計 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。

• その他洗浄機

「MDP2015」は、樹脂基板に抵抗加熱蒸着法によるアルミニウムなどのメタル膜を成膜後、腐食を防止するポリマー保護膜をプラズマ重合によりせい膜する装置です。 扉を左右に二つ設けることにより、プロセス中にワークの交換と蒸発物の装着を効率的に行えます。 装置構成の最適化により、高生産性・低ランニングコストを実現します。 【工程概要】 ■ワークを取り付け、扉を閉じて排気 ■プラズマ放電による基板表面の前処理 ■基板表面に、抵抗加熱蒸着法によるアルミの成膜 ■HMDSOのプラズマ重合による成膜で、アルミ膜を保護 ■成膜時間を利用し、待機中の扉のワークを交換 ■大気解放後に扉を開き、待機中の扉を閉じて処理開始 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。

• その他

精密部品、光学ガラス部品をはじめとして電子部品や自動車関係、衛生関係部品に至るまで幅広い分野で使用する事が可能。 真空装置で問題となる「出ガス」を大幅に取り除く事も可能とした蒸気洗浄機です。

• その他洗浄機

GaN成膜装置冶具用ドライ洗浄装置はMO-CVD装置の冶具などの成膜時に堆積するGaNやAlN等をドライエッチング方式で洗浄する装置です。 パワーデバイス、レーザーダイオード等の化合物・半導体や青色LEDの製造に最適。製造時の製品歩留まりの向上、ランニングコストの削減に効果を発揮します。 　　　★☆★【無料デモ】実施中！！★☆★ 【特徴】 ●ＧａＮ成膜装置に使用する各種冶具のドライ洗浄に最適 ●洗浄可能な冶具は、ＳｉＣコートカーボン、石英等。 ●ダミーウエハのサファイア基板も洗浄可能 。 ●ウェット洗浄に必要な高価な大量の予備部品は不要 ●本装置導入でメンテナンス費用の削減に貢献可能！ ●作業者に負担のかからない安全設計。 ★【無料デモ】ご希望の方は≪お問い合わせ≫よりご連絡ください★

• その他洗浄機
• 高圧洗浄機
• 超音波洗浄機

急速加熱、高精度温度分布を実現した ランプアールユニット 【特徴】 ○サークル形状の高出力赤外線ランプヒーターを用いて 　基板の上下から加熱することで、急速加熱・高精度温度分布を実現 ○チャンバー内面に特殊表面処理の冷却反射プレートを採用 　優れたプロセス再現性と、急速冷却が可能 ○処理基板：φ300mm ○最高使用温度：1000±10℃ ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

• 油圧機器

センターチャンバーの周辺にロードロック室を含め、全6室を搭載可能な クラスター型複合プロセス装置 【特徴】 ○センターチャンバーと各室間にゲートバルブを配置しコンタミを防止 ○ゲートバルブをセンターチャンバー内に組み込み、省スペースを実現 ○メインポンプをチャンバー上部に取り付け高メンテナンス性を実現 ○独自開発の真空運搬ロボットを搭載 ○各室独立の真空排気系を装備 ○±3％の膜厚分布のスパッタ成膜ユニットを搭載 ○最高1000℃まで昇温可能なランプアニールユニットを搭載 ○φ300Siウエハーを13枚搭載可能なカセットロードロック室を装備 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

• 油圧機器

大型基板の処理にも対応。試料にダメージを与えず 高度な洗浄を可能にした、卓上型UV照射装置 【特徴】 ○最大φ300mmのシリコンウエハ、ガラスなどの基板（試料）にUV照射を行い 　表面の有機物を除去し、濡れ性を向上させることが可能 ○基板（試料）ホルダーの上下、または取替えが容易なため 　厚みのある基板（試料)を処理することが可能 ○オゾン発生型装置は、オゾンによる処理を併用することにより 　高いクリーニング効果を得られる ○基板（試料）セット後の処理は自動運転が可能です ○卓上型ながら大型基板の処理が出来、表面改質やウエ 　ハ洗浄等の処理プロセスの開発に最適 ○ウエット洗浄とは異なり廃液を出さず、試料に物理 　的ダメージを与える事なく高度な洗浄効果が得られる ○有機汚染物質はガス化して排気される為 　有機汚染物質の再付着が起こらない ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

• ウエハ加工/研磨装置
• その他半導体製造装置

マグネトロンスパッタ源と基板回転機構を装備した スパッタ成膜ユニット 【特徴】 ○優れた膜厚分布を実現 ○DCスパッタリング、RFスパッタリングを切り替えて 　使用する事が可能 ○2種類のスパッタ源を搭載することにより、異なった膜種を成膜可能 ○逆スパッタ機能搭載により、基板のクリーニング・エッチングが可能 ○ツーモーションシャッター採用によりコンタミおよび発塵を防止 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

• 真空成形機
• 油圧機器
• その他半導体製造装置

6角形のセンターチャンバーを採用 マルチ真空プロセス用、真空運搬ユニット 【特徴】 ○ゲートバルブをセンターチャンバー内に組み込み、省スペース化を実現 ○センターチャンバーのメインポンプ（ターボ分子ポンプ）を 　上部蓋に取り付け、高メンテナンス性を実現 ○独自開発の真空搬送ロボットを搭載 ○各室独立の真空排気系を装備 　（但し、センターチャンバーと、ロードロック室は共用） ○φ300Siウエハーを13枚搭載可能なセットロードロック室を装備 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

• 油圧機器

【特長】 ●塩素系溶剤（ＴＣＥ等）に匹敵する洗浄性能を持つアブゾール（ＡＢＺＯＬＴＭＪＧ）を使用 ●アブゾール蒸気を利用した蒸気洗浄方式を採用 ●最大７００*７００*５００の部品まで洗浄可能 ●洗浄機上部よりクレーン（別途）にて吊り下げて作業 ※詳細は【資料請求】まで

• その他洗浄機

【特長】 ●汎用性の高い洗浄槽+リンス槽（２槽）の組み合わせ ●超音波発振器は洗浄槽とリンス槽（１槽）に装備（38ｋＨｚ/600Ｗ） ●洗浄槽にはフィルター循環方式を採用 ●リンス槽は２槽のフロー方式でヒーター（ＭＡＸ５０℃）が付属 ※詳細は【資料請求】まで

• その他洗浄機
• 超音波洗浄機

ガラス基板を回転させながら基板上に塗布されたレジスト膜の 現像から純水によるリンスまで自動で処理を行います。 【特長】 ●現像液パージ機構を設けており、現像液の品種替えが、容易に行えます。 ●ノズル左右移動にロボットを採用。0〜400?oの広範囲に対して 　ノズルの移動が任意に設定可能。 ●ノズル上下位置が0〜500?oの広範囲に任意に設定可能。 ※詳細は【資料請求】まで

• 分析機器・装置

ＧａＮ成膜装置に使用する各種治具のドライ洗浄に最適

• その他洗浄機