クリーン・テクノロジーの製品・サービス一覧

FOPLP・FCBGAなどのプロセスで基板を加熱する時に「加熱時の反り」の問題に悩まされます。 その「加熱時の反り」を解決した装置が「クランプ式HP装置」です。 【特徴】 ■クランプの時間・力・タイミングを調整可能 ■プレート温度：±１℃ ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい

• その他半導体

高機能の膜をコーティングする装置「FILM装置」。クリーン・テクノロジー株式会社のFILM装置は、スロット・ダイによる高精度膜厚分布 ±2％以下を実現。車載用リチウムイオン電池の正･負極、3Dテレビ用フィルムに最適です。その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。 【特徴】 ■スロット・ダイによる高精度膜厚分布 ±2％以下を実現 ■乾燥炉内温度の高精度コントロール (炉内分布 ±2℃、Film TD方向分布 ±1℃) ■アーチレス乾燥炉によるALLフラット搬送の実現 ■GX(グリーントランスフォーメーション)への貢献 ■弊社にて、トータル・ライン・コーディネート可能 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい

• その他加工機械

UV装置は、紫外線(UV)を用い、基板表面の有機物を除去する為の装置です。 【特長】 ■自社製低圧水銀ランプにより発生する185nm、254nm波長の紫外線効果により 　基板表面の有機性汚れを除去します。 ■ランプ寿命は6000時間保証。低ランニングコストを実現。 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい。

• アッシング装置

【特徴】 ■ホットプレート、コールドプレートによる各種基板の均一加熱、冷却を行います。 ■ホットプレートは基板最高温度150±3.0℃、ゴールドプレートは23±1.0℃の制御が可能です。 ■プロキシミリティピン（近接ピン）は取り外しや、交換が可能です。 ■ホットプレート、コールドプレートは弊社独自の表面処理により、静電除去が可能です。

• その他半導体製造装置

UV照射、高濃度オゾン、温度加熱の相乗効果が期待できる乾式洗浄装置です。UVランプは長寿命と低価格のため、ランニングコストが安く経済的です。 【特長】 ■UV照射、高濃度オゾン、温度加熱の相乗効果が期待できる乾式洗浄装置 ■UVランプは長寿命と低価格のため、ランニングコストが安く経済的 ■オゾン濃度制御が可能 ■ｌＲヒーターによる基板加熱のため、洗浄反応効率をアップ ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい

• その他工作機械