栗田製作所の製品・サービス一覧

株式会社栗田製作所の『液中プラズマ技術』は、従来の真空中・大気中ではなく、液中にてコロナ放電やグロー放電を発生させる技術です。 プラズマより発生する活性種(Hラジカル、OHラジカル)や紫外線等を利用し、気液界面にて対象を高速処理します。 CNTを処理して親水基を表面修飾することにより、水中での分散性を向上できます。 塩化金酸水溶液を処理すると、還元作用により金ナノ粒子が合成できます。 【液中プラズマ技術の内容】 ■CNT分散 ■ナノ粒子合成 ■脱色 ■多チャンネル化の開発 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 放電加工機
• プラズマ発生装置
• プラズマ表面処理装置

「プラズマイオン注入成膜装置」は、独自開発技術を採用しており、３次元・大型・低温処理が可能なDLC成膜装置です。 栗田製作所独自開発装置で特許取得済み（特許第3555928号）です。 プラズマ生成用のバルスRF電源、イオン注入用の高圧バルス電源の出力を一つの電極から供給することにより、基材形状に合わせたプラズマ生成が可能です。 DLCコーティング、ガスイオン注入処理がこの一台で行うことができます。 【特徴】 ○３次元形状成膜が可能 ○装置の大型化が可能 ○低温処理が可能 ○完全自動運転 ○安心のログ機能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• プラズマ表面処理装置

PEKURIS COATは栗田製作所のDLCコーティングの総称です。幅広いラインナップの中から、最適なコーティング皮膜をご提供致します。PEKURIS COATは用途に応じて、ワーク（基材）へ最適な条件でコーティングを行うことが可能です。処理可能な基材は、鉄系金属はもちろん、ステンレス・アルミニウム等の低融点金属、チタン等幅広い材質へ可能で、樹脂やゴム・ガラス･セラミックス等の絶縁物でも処理が可能です。またこれら以外の用途開発用の試作加工も承っております。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• 表面処理受託サービス

プラズマイオン注入・成膜装置（Plasma Based Ion Implantation & Deposition:PBII&D）とは株式会社栗田製作所と産業技術総合総合研究所関西センター殿と共同で開発し、特許を取得特許第3555928号）した全く新しいプラズマイオン注入技術です。DLCコーティングも可能です。取扱いが容易な為、生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• プラズマ表面処理装置
• イオン注入装置

液中プラズマ発生装置は卓上サイズで簡単にソリューションプラズマの実験を行うことが可能です。液中プラズマを発生させ、新しい材料合成や 加工場を作り出せる、新たなプラズマ 応用技術です。ナノ粒子の生成や、カーボンナノチューブへの水溶性の付与など様々な効果が発揮されています。液体からの二次電子やプラズマと液体との連成反応により放電が持続します。また液体中での放電の為、使用する液体の 化学反応性を利用することも可能です。パルスグロー放電なので、低温で処理が可能です。アーク放電に比べ、電極の損傷が大幅に低減できるため、長時間運転を実現しました。 ソリューションプラズマの発生にはパルス電源を使用し、 液体の導電率と電極間距離を調整する事により、極めて少ないエネルギー（数百W）からソリューションンプラズマを発生させることができます。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• プラズマ発生装置
• 電源装置

高圧パルス電源は、負荷短絡時にも丈夫な真空管を採用している為、耐久性に優れています。高速立上り・マイクロパルスが可能です。パルス幅、繰返し周波数と可変でき、用途に応じて容易に設定可能です。大気圧･真空･液中、あらゆる負荷条件下で使用可能な電源を取り揃えています。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• 電源装置
• 電源

PEKURIS COATは、株式会社栗田製作所独自開発のプラズマイオン注入成膜装置で成膜します。真空中にガスを導入し、処理基材自身にパルスRFと高圧パルスを印加することにより、ワーク（基材）に沿った形でプラズマの生成が可能です。またパルス電源を利用しているため、低温40℃～での処理も可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• 表面処理受託サービス

・広い表面積を有し、高周波特性が良い。 ・出力ケーブルの代用で、インダクタンスを最小に抑えることができます。 ・EMC用の簡易シールドとして使用できます。 ・厚さ0.2mmなので、容易に折り曲げられます。また、金きり鋏でも切ることもできます。

• CVD装置
• イオン注入装置
• 電源

・負荷短絡時、高速で出力を停止させる内部保護機能付 ・高速立上がり、短パルス幅を実現

• その他電源
• その他プロセス制御
• CVD装置

DC10kV〜200kV、更に13.56MHz計測専用モデルも新たにラインナップ

• プラズマ発生装置
• 電気計器・電位計(メータ)
• 電源

・真空装置部の大型が容易に可能で最大長さ4m、直径1.2mの大型装置の納入実績もあります ・完全自動運転のためコスト低減が可能です ・DLC成膜のほかに簡易なイオン注入も可能で新しい材料の開発も可能です ・自転公転機構やヒーターが必要ないため真空装置内のパーティクルの発生を最小限に抑えることが可能です

• プラズマ発生装置
• CVD装置
• プラズマ表面処理装置

耐久性が高い真空管使用のため、過電流になっても電源損傷の恐れがありません。 安定放電が可能な真空管を用いたパルス電源です。

• プラズマ発生装置
• イオン注入装置
• 電源

『PEKURIS COAT』は、当社独自のプラズマイオン注入成膜装置を使用し、 潤滑性に優れたDLC膜をワークに形成するコーティング加工です。 イオン注入効果により、高密着成膜が容易で、ステンレス鋼や工具鋼、 アルミ合金等にも成膜可能。また、低温での処理が可能で、 融点の低い樹脂やゴム、アルミなどにも対応しております。 DLCコーティングでお困りの方は、ぜひお問い合わせください。 【特長】 ■低摩擦係数で潤滑性に優れたDLC膜 ■超低応力DLC膜のため、厚膜もOK ■ワーク形状不問 ■治具・金型・シール材など幅広く活躍 ※詳しくは資料をご覧ください。

• その他
• 表面処理受託サービス
• その他金属材料

栗田製作所の独自技術による安定した水中放電を実現しました。 アーク機構が必要ないため、シンプルな構造です。 CNT（カーボンナノチューブ）の水溶液への溶解も可能になり、新たな材料の創出が可能です。 本電源は、愛知ナノテクものづくりクラスター成果活用促進事業にも採用された実績があります。

• プラズマ発生装置
• 廃液/排水処理装置
• その他金属材料

バイアス電源のパルス化に最適なパルス電源です。

• プラズマ発生装置
• CVD装置
• 電源

両極とも真空管を採用している為、安定したプラズマ生成が可能になりました。

• プラズマ発生装置
• イオン注入装置
• 電源

・各方面の大学と共同開発を行なっており、多くの成果が出ています。 ・用途に応じて特注品の製作も承ります。

• プラズマ発生装置
• その他半導体製造装置
• その他金属材料