３次元・大型・低温処理が可能！独自開発技術採用プラズマイオン注入成膜装置
「プラズマイオン注入成膜装置」は、独自開発技術を採用しており、３次元・大型・低温処理が可能なDLC成膜装置です。 栗田製作所独自開発装置で特許取得済み（特許第3555928号）です。 プラズマ生成用のバルスRF電源、イオン注入用の高圧バルス電源の出力を一つの電極から供給することにより、基材形状に合わせたプラズマ生成が可能です。 DLCコーティング、ガスイオン注入処理がこの一台で行うことができます。 【特徴】 ○３次元形状成膜が可能 ○装置の大型化が可能 ○低温処理が可能 ○完全自動運転 ○安心のログ機能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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基本情報
【ラインナップ】 ○PBll-C600（R&D中型機） →サイズがコンパクト →真空排気時間も非常に短く成膜時間の短縮にも繋がる ○PBll-R1000（標準機） →生産機としても使用できる ○PBll-R1500（標準大型機） →R1000の5倍の容積を持つ大型機 →R1000と同様の使い易さで大型・長尺ワークへの成膜も可能 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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長年培ってきたパルス電源技術を応用し、 新開発の各種プラズマ制御用電源や 表面処理装置の開発で、必ず御社のニーズに お答えします。
