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株式会社エクア

設立2002年2月19日
資本金3000万
従業員数7名
住所神奈川県相模原市南区相模大野8-10-6ユタカビル5F
電話042-745-2027
  • 公式サイト
最終更新日:2020/07/07
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エクアの製品・サービス一覧

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印画紙チャート

紙ベースながら高精細。大サイズの作成も可能。パターン面の非光沢性が特徴の反射型チャートです。

印画紙チャートは写真感光材料である白黒の印画紙を用いて製作された反射型テストチャートです。 エクアの印画紙チャートは細線表現を追求したモノクロの高精細タイプと、印画紙ならではの中間色表現を生かしたグレータイプがございます。 前者は各種光学製品のキャリブレーション用途、解像度チャート、ディストーションチャート等として用いられております。 通常は最初にフィルム原版を製作して、それをもとにして印画紙チャートが製作されます。温度23度、湿度50%に管理されたクリーンルーム内で、高精度平行光光源露光機により描画されています。独自技術による露光プロセスにより最高レベルのシャープなパターンエッジを再現しています。パターンは最小線幅30umより作成が可能です。 後者はスキャナーや光学機器のカラーマネジメント用製品の作成等に用いられております。ステップタブレットやベタパッチを並べたパターンが代表的です。反射濃度、段数、配列はカスタムオーダーにお応えします。製品は反射濃度を測定することが可能です。カラー製品の作成にも対応しております。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

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グラデーション・ステップタブレット

正弦波、放物線、CZPなど、使用用途に合わせた形状・濃度に対応。

エクアでは、高度な画像技術と光学技術により、使用用途に合わせた自由な透過率・濃度曲線に対応しております。 ガラス、フィルム、印画紙など、様々な素材へのパターン形成が選択できます。透過型、反射型、半透過型など、用途に合わせたタイプのグレースケールの形成が可能です。フルカラーの透過型と反射型グラデーションの作成も行っております。 グレースケール部を精密に制御するため、濃度計、二次元測定機、レーザー顕微鏡による製品の検査体制を備えております。

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反射型テストチャート

光学デバイスの評価に最適なツールです。ガラス、PET基材の他、印画紙を用いたチャート作成にも対応しています。

『白色ガラスチャート』は白色ガラス(ネオセラムN11、ネクストリーマ)上に金属膜でパターンを形成した製品です。反射光を用いて計測・位置決め評価を行う場合に有効な製品です。基板は鏡面と非鏡面(艶消し)の二通りの選択が可能です。パターンの線幅は最小2umまで対応しています。 『白色PETチャート』は白色の柔軟性のあるPET素材の上に黒色のチャートパターンが高精度に描画されています。紙ベースの印画紙製品と比べ、耐久性に優れています。最大サイズはA3となります。 『印画紙チャート』は写真感光材料である白黒の印画紙を用いて作成された反射型テストチャートです。各種スキャナのキャリブレーション用途、カメラ撮影の解像度チャート等として用いられています。ガラスやPET基材の製品に比べ、光沢の抑えられた質感が特徴です。 他、透過型ガラス・フィルムチャートの背景を白色加工した高精細なチャートや、反射型のカラー製品もございます。パターンは測定仕様に合わせて自由にカスタムできます。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

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透過型テストチャート

光学デバイスの評価に最適なツールです。解像力、位置精度、グラデーションパターンなど測定仕様に応じてカスタムいたします。

『テストチャート』は、 光学デバイスの性能評価に最適なツールです。 透過型は透明ガラスやPETを基材としています。 『透過型ガラスチャート』は透明ガラス基板にクロム薄膜を用いて高精度、高解像度のパターンを形成した製品です。パターン形状は解像度をチェックするための各種線幅・線間を規則的に配置したものや、ドットパターンや十字をアレイ状に並べたものが代表的です。 『透過型フィルムチャート』はPET素材に黒色のパターンが描画されています。パターンのサイズは最小線幅20umより可能です。大サイズの製品作成が可能なことが特徴です。また、エクアでは精密な外径加工も行っております。 また、ガラス・PET基材によるカラーチャートも作成可能です。 【ラインアップ】 ■解像力チャート ■キャリブレーションチャート ■グラデーションチャート ■ステップタブレット ■ガラススケール ■方眼チャート ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

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【技術情報】フォトマスクとは?

レーザーを光源とした最新の装置により描画されているフォトマスクです。

フォトマスクとは、電子回路、表示デバイス、光学部品、精密機器などのパターンをウェハ、ガラス基板、プリント基板、金属板などに露光する際に使用される原板のことです。 フォトマスクに描かれたパターンは多くの電気製品、半導体、テレビ、スマートフォン、ノイズフィルター、スケール、ネットワーク回線関連製品に使用されております。 エクアがご提供するフォトマスクは、主にレーザーを光源とした最新の装置により描画されております。 エクアは図面からデータを作成し、お客様のイメージや構想の実現をサポートします。 【特徴】 ○露光用の原板 ○レーザーを光源とした最新の装置により描画 ○多様なニーズに対応 ○回路基板や光学部品のパターンをCADを用いて設計 ○基材の種類:  ガラス基板がソーダライムと合成石英の2種類、フィルムがPET 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • フォトマスク

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SUS、Ni、Al、インバーなど多様な金属による金属加工製品

高精度フォトマスクとエッチング、精密電鋳などの技術を組み合わせて製作されています。

SUS、Ni、インバー等の素材を用いて精密金属部品を御提供しています。 これらの製品は高精度フォトマスクとエッチング、精密電鋳などの技術を組み合わせて製作されています。 製品は蒸着用マスク、エンコーダー、電子部品組立治具、精密ワッシャー等として用いられております。 又、薄物の金属単体としてだけでなく曲げ加工、張り合わせ加工、黒色メッキなどを施した製品としてもご提供しております。 【特徴】 [金属のフォトエッチング加工] ○フォトエッチング技術は金型を使わないで複雑、微細な形状を  高精度でかつ短納期、低コストで製作できる精密加工技術 ○SUS系をはじめAl、Ti、 Cu、インバーなど多様な金属に対応 ○独自の手法による高アスペクト比の金属加工 製品を提供 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • その他機械要素

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精密ガラス加工製品 ガラス加工

フォトエッチング技術などを応用した精密ガラス加工製品

株式会社エクアではフォトエッチング技術を利用して製作されるガラスエッチング加工品を御提供しております。 マイクロ流路や各種スペーサー用途など高精度な形状を得ることができます。 又、クロムなどのパターン付きガラスの製作も可能です。 【特徴】 ○溝幅、深さの厳密なコントロールが可能 ○フラットな底形状を持つ凸型凹型加工が可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • ガラス
  • ガラス器具・容器
  • 加工受託

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エレクトロニクス向け薄膜製品 電子部品

多様なプロセス技術を用いて製作されるエレクトロニクス向け薄膜製品

エクアでは各種ガラス基板やシリコンウエハ上に様々な金属膜による多層パターンを形成した製品をご提供しております。 独自の図形データ生成技術、高精度マスク描画装置や半導体用ステッパーの利用、フォトエッチング、リフトオフ、メッキ、サンドブラストなど最先端の加工技術を利用して最適のプロセスをご提案いたします。 又、フォトマスク製造装置を用いて基板上に直接パターンニングすることにより超高精度な加工を可能にしております。 クロム、アルミ、Ti、ITOなど多様な金属薄膜を用いた電子回路をガラス、セラミックス、シリコン基板などの上に形成いたします。 【加工技術】 ○フォトエッチング ○リフトオフ ○SIウエハーの配線パターン ○PIフィルム上のプローブパターン ○ガラスに貫通配線パターン 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • その他電子部品

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パターン付きガラス製品 光学部品

高精度な光学部品用パターン付きガラス製品のご紹介です。

各種ガラス基板(石英、ソーダライム、白板等)の上にクロム、酸化クロムなどの金属薄膜による高精度なパターンを形成します。 エクアではフォトマスク描画装置によりパターンを直接描画することにより最小1μからの高精度で微細なパターンを形成した製品をご提供しております。 また、フォトマスクを原版とした量産製品にも対応しております。 ガラス基板はダイシング装置により任意のサイズに高い精度で切断され製品となります。 クロスパターン、光学スリットなどの標準的なパターンだけでなく穴あけ加工、金属部品との接着、サンドブラスト加工、多層膜パターンニングなど複合的な加工技術を用いた製品に対応しています。 【グラデーションパターン】 ○放射状に透過率を変化させたパターン ○リニアな透過率の変化 ○正弦波形状に透過率を変化させたパターン ○回転方向に透過率を変化させたパターン 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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フォトマスク

高度な図形処理技術と最新の装置によるフォトマスク

エクアがご提供するフォトマスクは、主にレーザーを光源とした最新の装置により描画されております。エレクトロニクス、光学部品、スケール、ディスプレイなどの分野において、長年に渡る経験豊富な精密フォトリソグラフィー技術、またエクア独自の図形処理技術により、お客様の多様なニーズにお応えします。 エクアは図面からデータを作成し、お客様のイメージや構想の実現をサポートします。 【特徴】 ○対応データ:DXF,DWG,GBX,GDS II や画像データBMP,TIFなど ○パターン形状:直線、円、円弧の他SIN波、スパイラル、ランダムなパターン配置などに対応 ○用途:センサー、ディスプレイ、エンコーダー、半導体パッケージなどの精密フォトリソグラフィ ○図形補正:プロセスにマッチした柔軟な図形補正を行う 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • フォトマスク

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