光・レーザー技術展　Photonix東京2024

Ｘ線に代わる溶接後の内部欠陥検査用エリアセンサ、実績15,000台以上の溶接中のモニタリングシステム

1. 溶接内部欠陥検査用のエリアセンサ - Field sensor 　11万点同時測定で画像で出力可能。 　X線、CTスキャン、ワークカットが必要な電子顕微鏡を代替します。 2. 不透明体の非接触厚み測定センサ - Enovasense 　樹脂、塗膜、金属コーティングなどの厚み測定が可能です。 　測定範囲は、10nm ~ 1mm, 測定スピード 1秒～で、 　測定ばらつきは0.5~3%程度です。 3. バッテリーホイル切断後のバリ検査用ラインカメラ - CVC 　最大100kHzのラインカメラで、インラインでのバリ検知が可能です。 4. 絶縁層厚み測定センサ - FSS 　数nmの分解能で、インラインでバッテリー絶縁層の厚み 　プロファイルが測定できます。 5. 電極厚み測定用デュアルポイントセンサ - DPS 　数nm分解能の距離センサによる高精度厚み測定が可能です。 ■その他 6. バッテリ缶溶接部の3D形状測定用ラインセンサ - CLS 　 7. - LWM

• 欠陥検査装置

高速な不透明膜の厚みマッピング、内部欠陥のエリア検出が可能なレーザーフォトサーマル式センサ

フランスのEnovasense社のセンサは、レーザフォトサーマル技術を使用した 高性能なセンサで、非接触で不透明体の厚みを測定できます。 本新製品は、従来のシングルポイントセンサと異なり、約１１万点を同時に測定できるエリアセンサです。 不透明体の厚みマッピングだけでなく、表面層下の欠陥、欠け、剥がれの有無を検知できます。 ■特長 　・非接触で下記が測定できます。 　　　☆不透明体の厚みマッピング 　　　☆不透明な表面材料層下の欠陥検知 　　破壊試験が不要になります。 　・エリアセンサのため、１秒で約１１万点の同時測定が可能。 　・溶接部など、従来Ｘ線、ＣＴスキャンが必要な箇所の欠陥検知にも適用可能。 　・母材に依らず様々な材料の組み合わせで測定可能。 ■アプリケーション 　自動車業界、航空業界、日用品、産業品、医療業界、半導体分野。 　コーティング厚み、金属メッキ厚み、塗装膜、溶接部など様々なアプリケーションで使用可能です。 ※詳しくはPDFダウンロード、またはお問い合わせよりご確認ください。

• 欠陥検査装置

レーザ溶接終了と同時に製品の良否判定結果を得る事が可能。データの紐づけ、見直し、解析などが容易な操作性の良いＧＵＩを搭載。

■　レーザ溶接中のプラズマ光、放射温度、レーザ反射光をモニタリングし、製品の良否判定 ■　判定や解析を行うためのソフトウエアは、20年以上の販売実績と、お客様からのフィードバックにより、良否判定能力、性能、機能が向上。 ■　新規設備への搭載だけではなく、既存設備への追加も容易。 ■　自動車業界、EV、家電など、多種多様なレーザ溶接用の検査装置として実績有り。 デモ機を取り揃え、お客様からのお問い合わせをお待ちしております。 以前のLWMをご存じの方も、初めての方も、ぜひ最新のLWMをお試しください。

• 溶接機械

各センサーの測定原理や対応センサー、製品情報、使いやすさなどをご紹介！

当資料では、プレシテック・ジャパン株式会社で取り扱う、さまざまな コンポーネント検査向けセンサーの性能についてをご紹介しております。 「色収差共焦点シングルポイントセンサー」や「光学ポイントセンサー」 などの各センサーの測定原理や対応センサー、使いやすさなどを掲載。 当社では、レーザー材料加工や光学測定技術のためのインテリジェントで 信頼性の高いソリューションを提供しております。 【掲載概要】 ■色収差共焦点シングルポイントセンサーでの測定 ■色収差ラインセンサーでの形状及び厚み測定検査 ■溶接の品質管理 ■指定エリアの厚み、平坦度、形状のエリアスキャン測定 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• センサ
• 溶接機械

不透明体の厚み高精度測定なら、Enovasenseの レーザフォトサーマルセンサ。材料に依らず、最小10nmから厚み測定可能。

フランスのEnovasense社のセンサは、レーザフォトサーマル技術を使用した 高性能なセンサで、非接触で不透明体の厚みを測定できます。 ■特長 　・非接触で、不透明体の厚み測定が可能。 　　破壊試験が不要に。 　・最小10nm～最大1mmまでの広範囲な測定範囲。 　・0.5~3%以下の高精度測定が可能。 　　精度が不足している方にお勧め。 　・母材に依らず様々な材料の組み合わせで測定可能。 ■アプリケーション 　自動車業界、航空業界、日用品、産業品、医療業界、半導体など多岐にわたる分野にて、 　コーティング厚み、金属メッキ厚み、塗装膜など様々なアプリケーションで使用されています。 ＊現在、Enovasense社は、ドイツの光学センサメーカーのPrecitecのグループ会社となっています。 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• 膜厚計

非接触ラインセンサCLS。高精度・高速・広範囲の３次元形状測定。エッジや斜面に適した高許容角度性。ウエハエッジ測定実績多数

『CHROCODILE CLS2』『CHROCODILE CLS2 PRO』は、最大4800万ポイント/秒(標準は、1680万ポイント/秒)で非接触高速３次元形状測定を実現できます。分解能も最大Y1um, Z 0.025umと、非常に高精度な測定が可能。全世代品より、測定時間大幅短縮、ウエハエッジ、ワイヤボンダ、マイクロバンプ測定に適した高NA、光量アップなど大幅に改善。形状、表面粗さ、ステップハイト（厚み）、平坦度、ＴＴＶなど使い道は多数。卓上機だけでなく、In-Situ/モニタリング/インラインでの装置組込み用センサとしての使用にも適しています。 【特長】 　■広範囲エリアの３次元形状測定 　　　最大20mmのライン幅 　■広い許容角度 　　　反射面で±53° エッジや急斜面に対応可能 　■開発コスト低減、開発納期短縮に貢献できる、 　　　コンパクトなユニット、装置組込み用のソフト開発キット 　　（DLLなど)も用意 　■多業界で豊富な実績 　　　半導体業界、コンシューマー家電、ガラス製造、メディカル分野 ※詳しくは資料をご覧ください。

• 三次元測定器

振動の影響を受けずに高速エリアスキャン。オンライン、オフライン、品質管理、ウエハ検査用途に。

『Flying Spot Scanner』は、XY2軸のガルバノミラーにより広範囲（～φ80)のエリアスキャンができる光学式測定器です。ステージ走査が不要なため、ステージからの振動の影響もありません。分光干渉原理により、厚み測定、寸法形状測定、表面の欠陥検査ができます。また、入射・反射が同軸光学系のため、光沢面でも良好な結果を得ることが可能です。 【特長】 　■広範囲のエリアスキャン ~φ80mm 　■高分解能　XY6.5um~, Z 1nm~ 　　　最小ビームスポット径13um, 分光干渉方式による高Z分解能 　■XYステージ不要でステージ振動無し 　　　ガルバノミラーによるエリアスキャン 　■開発コスト低減、開発納期短縮 　　　装置組込み用のソフト開発キット（DLLなど)あり 　■用途 　　　FPD,LCD用ガラス基板の厚み測定、ウエハのワープ（歪み）測定、レンズ形状検査、 　　　PCBボード形状検査、小型精密部品の高さ測定など ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• その他検査機器・装置
• 光学測定器

インライン向けの高速で、高精度な外観検査用のラインカメラです。ウエハ検査用途にも。

『CHRomatic Vision Camera』は、高速な外観検査用のラインカメラです。 　色収差共焦点原理を利用しているため、焦点深度が最大3mmと広いタイプです。 焦点合わせが不要となり、フラットでない凹凸面でも高コントラストな画像が取得できます。２次元画像が得られます。また、最大140kHzの高速スキャンにより、インラインでの外観検査（クラック、スクラッチなどの形状欠陥、異物検査）が可能です。 【特長】 　■高分解能 　　　XY 0.9um~2.9um(焦点深度3mmタイプは、2.9um) 　■多種の材料に対して高いコントラスト 　■高速で振動に強い 　■開発コスト低減、開発納期短縮に貢献できる、 　　　装置組込み用のソフト開発キット（DLLなど)も用意。 　　　インターフェースとして、CameraLink、GigE使用可能。 　■半導体、コンシューマー家電、ガラス向け外観検査で実績 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• センサ
• 光学測定器

「知的財産を守る適切な方法とは？」 をテーマに、 証拠力・改ざん防止・運用効率を実現するための知財文書管理のポイントを解説するWebセミナーを開催します。 本セミナーでは文書の所在を明確化し、タイムスタンプによる真正性確保を自動で実現するソリューション「WWDS知財アーカイブ」も紹介します。 ■日時：2025年12月18日(木) 13:30～14:30 ■場所：オンライン ウェビナー（Zoomウェビナーでの開催を予定しています）

[講　師] 一般財団法人電力中央研究所 グリッドイノベーション研究本部 研究統括室 上席／スマートレジリエンスネットワーク アンバサダー （元ＴＮクロス株式会社 代表取締役副社長） 馬橋 義美津 氏 [講演項目] １．ワット・ビットとは何か 　（１）電力供給力の現状　　（２）電力需要の変化とその原因　　（３）通信と電力の融合（ワット・ビットの根幹） ２．電力需要の変化の影響 　（１）大きな要素としてのデータセンター　　（２）データセンターを取り巻くサプライチェーン ３．大規模需要としてのデータセンター 　（１）需要コントロールとデータセンター　　（２）データセンターを取り巻くステークホルダーの考え方 　（３）データセンターの系統への影響　　（４）データセンターを取り巻くステークホルダーへの期待 　（５）データセンターで期待される新たな技術 ４．ワット・ビットの現状と未来 　（１）ワットビット連携官民懇談会　　（２）国際的な取り組みの方向性　　（３）MESH構想との関わり 　（４）ワットビットで何ができるのか ５．質疑応答／名刺交換

[講　師] 株式会社日本総合研究所 先端技術ラボ シニアリサーチャー 西下 慧 氏 [重点講義内容] ニューロテックは、ニューロサイエンス（神経科学）の知見を活用した技術の総称であり、近年ではブレインテックとも呼ばれ、国内外で研究開発と事業化の動きが加速しています。本セミナーでは、ニューロテック分野の基盤となる技術と最新動向を体系的に整理するとともに、国内外で進む先端的な取り組みを取り上げ、その特徴と示唆を解説します。 また、ニューロテックが社会に実装されつつある現状を踏まえ、倫理・法整備・社会受容性といった周辺環境の変化についても整理します。さらに、AI分野との融合が進む中で、今後どのような展開が想定されるのか、事業開発においてどのような機会とリスクが生まれるのかについて、多面的な視点から考察します。 [講演項目] １．ニューロテックの概要と現状 ２．ニューロテックの先進事例 ３．ニューロテックを取り巻く社会動向 ４．今後の展望と事業応用に向けた戦略 ５．質疑応答

[講　師] 株式会社ナカニシ自動車産業リサーチ 代表 兼 アナリスト 『トヨタ対中国EV』著者 中西 孝樹 氏 [重点講義内容] 中国市場の最強EVメーカー群と彼らを支える強力なエコシステムが台頭著しい。それは、中国のデジタル国家戦略と有機的に結合している。SDV化、AI進化など、グローバルにおける自動車産業の競争構図が変化する中で、日本メーカーは勝ち筋を描くことができるのか。分断が進む産業覇権を視野に、今後の自動車産業の構図を論考する。 [講演項目] １．知能化を巡る戦いの構図 ２．中国最強EVメーカーの競争力 ３．日本OEMの対中国戦略 ４．日本の勝ち筋　～SDVバリューチェーン戦略 ５．SDVシフトに伴うモノづくりの進化 ６．質疑応答／名刺交換

DIC株式会社は、半導体の進化を支える最新技術を「SEMICON JAPAN 2025」でご紹介します。 ＤＩＣは、化学とエレクトロニクスを融合した高機能素材を提供し、半導体、通信、デバイス、バッテリーなど、次世代分野の発展に貢献しています。 今回の出展では、半導体の前工程、後工程、実装の各工程において、環境負荷低減・高性能化・スマート化に貢献する次世代素材を紹介し、半導体製造の効率化とスマート社会の実現を目指します。 【展示会特設サイト】 https://www.go.dic-global.com/m/semiconnepcon/m ※特設サイトをご利用いただくには、会社名・氏名・メールアドレスなどの基本情報の登録が必要です。登録後、出展製品の詳細情報や資料をご覧いただけます。