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2025/04/09

MEMS Engineer フォーラム 2025 出展いたします

ティー・ケイ・エス株式会社 ティー・ケイ・エス株式会社
MEMS Engineerフォーラムは、21世紀のキーテクノロジーとされるMEMS技術のキープレイヤーの中でもエンジニアを中心に運営されるユニークなフォーラムです。 世界中のMEMS研究者、開発者、技術者が一堂に集うこのフォーラムの技術展示会にて、Plasma Quest Ltd.社製 リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置のご紹介と技術展示をいたします。 弊社展示のみならず、MEMSに関する最先端の技術をご覧いただける絶好の機会でございます。ぜひ足をお運びいただきたくご案内申し上げます。 会場: 国際ファッションセンター ホール 〒130-0015 東京都墨田区横網1-6-1 国際ファッションセンタービル アクセス https://www.tokyo-kfc.co.jp/access/ 展示製品: Plasma Quest Ltd. 社製  リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 https://mono.ipros.com/product/detail/2001148974 https://www.plasmaquest.com/
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Plasma Quest Limited 企業紹介

リモートソース型イオンビームスパッタ装置 リモートプラズマソースの開発メーカー

PlasmaQuest社 ヘリコン型 高密度イオンソースの開発販売、及び 応用製品の開発販売で25年の歴史を持つ優良企業です。 グリッドレスで高密度なプラズマを発生させるヘリコンプラズマソースは、多くの装置メーカーにOEM供給を続けていおります。 その高品位なプラズマソースをイオン源として、ターゲットにバイアス印加を行う画期的な手法「HiTUS」システムにより、様々な条件やターゲットを用いてのスパッタを実現しています。 従来のマグネトロンスパッタ装置では困難とされる高磁性ターゲットや高誘電ターゲットのスパッタ、金属とセラミックなどの異種ターゲットを同時に用いるCo-スパッタなど、多用途での運用を可能としています。 研究用途から生産規模の装置まで柔軟に対応できる多性を整えています。

  • スパッタリング装置

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リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

リアクティブスパッタ、合金スパッタを自在にコントロールしての成膜を実現します

イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 独立した制御により、スパッタレートは勿論、酸化膜・窒化膜などの様々な反応性スパッタも自在にコントロールが可能になります。 これまでのスパッタ装置で成膜が難しいとされる強磁性体成膜、金属ターゲットとセラミックターゲットなどのCo-スパッタ、メタルターゲットからの誘電体・絶縁体成膜など、先端材料研究やプロセス構築研究を強力にサポートする装置です。 イオン供給量とスパッタレートの独立コントロール  →スパッタレート、膜質、結晶構造の制御  →ターゲット材のイオン化率の制御 直進性の高い成膜  →イオンビームスパッタの特徴である直進性の高い成膜 多連装ターゲット機構  →幅広い多層膜成膜 複数ターゲットの独立制御  →各ターゲットのスパッタレートを制御してのCo-スパッタ合金成膜  →ターゲットを切り替えての多層成膜 基盤へのバイアス印加制御によるコンフォーマル成膜  →ディープトレンチ、回り込みなどの悪条件下でもコンフォーマルな成膜

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  • プラズマ発生装置
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高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置(HR-PVD)

誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜

従前のマグネトロンスパッタでは成膜レートが低くなるAl2O3、SiO2などの誘電体、 Feなどの強磁性体の成膜で力を発揮する高速イオンビームスパッタ(IBD)装置です。  ヘリコンプラズマソースをイオン源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的な方法により、高レートかつ直進性の高い成膜を実現します。 ターゲット面全体を高効率で利用するため、貴重・希少なターゲットを用いる成膜工程でのコスト削減にも貢献します。 <特長> ■高速・高効率イオンビームスパッタリング  誘電体・強磁性ターゲットへの最適解 ■ヘリコンプラズマイオンソースとターゲット印加  高速スパッタリングと低コンタミの両立  ターゲット利用効率の向上によるランニングコスト削減  グリッドレス構造によるメンテナンス低減  リモートプラズマ構成による、基盤を低温に保ってのスパッタリング ■枚葉処理  ステップカバレージの向上  クラスターツールによる複合成膜 ■優れた直進性  直進性の高いイオンビームにより、均一な膜厚での成膜が可能。 ステップカバレッジの優れた成膜

  • スパッタリング装置

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リモートプラズマ イオンビームスパッタ「PlasmaQuest HiTUS」

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リモートプラズマ 成膜装置 HiTUSシステム

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ハイレートイオンビーム成膜装置  HR-PVD 日本語

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【資料無料配布中】駐車場管理に適した車両検知センサーのお役立ち情報をご紹介!

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駐車場の建設・設計や運営管理で車両検知センサーの導入をお考えのお客様へ 現在抱えている課題や駐車場管理に適したセンサー選びについてお困りの点はありませんか? ホトロンでは車両検知センサーの活用方法や導入メリットがわかる資料を無料で提供しています! ▽資料ラインナップはこちら ◉車両検知センサー 基本ガイド 駐車場運営における課題や解決策にフォーカスし、車両検知センサーの概要からご紹介しています。 ◉車両検知センサー 導入のポイント 設置場所や課題ごとの導入メリットについてご紹介しています。 ◉車両検知センサー 導入事例 導入前の課題や導入後の成果についてご紹介する資料です。 詳しくは弊社WEBサイトからダウンロードしてぜひご確認ください。 https://www.hotron.co.jp/download/

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【専門家解説】電帳法「事務処理規定」運用に潜む3つのリスク

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2024年1月1日以降、すべての企業に電子取引データの保存が義務付けられました。これまでの紙中心の業務からデジタルへの移行は、多くの企業にとって大きな課題です。「うちは事務処理規定を整備したから、これで電帳法対応は完璧だ」と安心している方もいるでしょう。 一方で、その手軽さの裏には気づきにくく、致命的なリスクが潜んでいます。 ◆事務処理規定の落とし穴:3つのリスク ・リスク1:人的ミスによる規定違反と形骸化 ・リスク2:内部不正のリスクと防ぎきれない証拠隠滅 ・リスク3:税務調査での説明義務と客観的証拠の不在 「真実性の確保」には【paperlogic】でのシステム管理が最適! ●認定タイムスタンプの自動付与 システムに電子取引データをアップロードするだけで、認定タイムスタンプが自動的に付与。人の手を介さずに真実性を確保でき、誤って削除しても、タイムスタンプが付与された元のデータはシステム上に残るので、証拠が保全されます。 ●訂正・削除の履歴管理機能 訂正や削除が行われた際に、いつ、誰が、何を行ったかの情報が自動的に記録されるため、人的ミスや意図的な不正を防ぎます。

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セラミックスピンゲージの優位性を解説したページを公開しました!超硬との違いや用途等

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セラミックスピンゲージは超硬製や鋼製にはない優位性があります。セラミックスピンゲージの優位性を解説したページをとなります

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SPT Labtech と Agilent、ゲノムワークフロー向けに自動化されたターゲットエンリッチメントプロトコルを発表

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SPT LabtechとAgilentは、firefly+向け自動ターゲットエンリッチメントプロトコルを発表。AgilentのSureSelect Max DNAライブラリ調製キットに対応し、ライブラリ作製を完全自動化。再現性向上、エラー低減、時間短縮を実現し、ゲノム解析の効率化を支援する。

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「メッセナゴヤ 20周年記念式典」にご招待頂きました

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この度、パイオニア風力機は、「メッセナゴヤ20周年記念式典」に出席させて頂きました。 「メッセナゴヤ」とは、愛知万博の理念(環境、科学技術、国際交流)を継承する事業として2006年にスタートした「異業種交流の祭典」です。業種や業態の枠を超え、幅広い分野・地域からの出展を募り、出展者と来場者相互の取引拡大、情報発信、異業種交流を図る日本最大級のビジネス展示会です。 パイオニア風力機は、メッセナゴヤ第一回目の開催から20年にわたり、一度も欠くことなく出展させて頂き、この度、メッセナゴヤ実行委員会様より、20周年記念式典にご招待いただき、記念楯を賜りました。 パイオニア風力機は、これからも、展示会を通じてお客様のご要望に耳を傾け、そのご要望に応えられるオンリーワンなモノづくり、丁寧なモノづくりで、お客様のクリーン環境づくりに貢献していきます。

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