Webセミナー：電気泳動光散乱法を原理とする ゼータ電位測定装置を使いこなすためのノウハウ（2025年8月7日）

希薄系から濃厚系の高精度な粒子径・ゼータ電位測定　さらに固体表面、分子量の評価まで　『ELSZneo』

『ELSZneo』は、ELSZseriesの最上位機種で希薄溶液から濃厚溶液での粒子径・ゼータ電位測定に加え、 分子量測定を可能にした装置です。また、粒度分布の分離能を向上させるため多角度測定を採用し、 粒子濃度測定やマイクロレオロジー測定、ゲルの網目構造解析も可能にしました。 平板のゼータ電位測定が可能な平板セルユニットは、新開発した高塩濃度対応 コーティングにより、生理食塩水などの生体模擬環境下での測定が可能です。 【特長】 ■希薄から濃厚溶液(～40%)まで幅広い濃度範囲の 　粒子径・ゼータ電位測定が可能 ■多角度測定により、分離能の高い粒子径分布の測定が可能 ■平板状サンプルのゼータ電位を講演濃度環境下で測定が可能 ■静的光散乱法を用いて粒子濃度の測定が可能 ■動的光散乱法によりマイクロレオロジー測定が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他計測・記録・測定器

ゼータ電位・粒子径測定システムを用いてＣＭＰスラリーの非イオン性界面活性剤添加によるゼータ電位・粒子径の制御評価

半導体製造におけるCMPでは、半導体ウェハや金属面を研磨する場合に金属酸化物（シリカ粒子、アルミナ粒子）がよく利用されています。シリカ粒子,アルミナ粒子などの金属酸化物は種々の要因（pH、添加剤など）によって粒子の分散状態が異なり、粒径やゼータ電位を指標として分散状態をコントロールすることが非常に重要になっています。 今回、CMPスラリーに非イオン性界面活性剤を添加し、添加前後のゼータ電位および粒子径変化の測定をおこないました。 ＣＭＰスラリーの非イオン性界面活性剤添加によるゼータ電位・粒子径の制御評価の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。

• 分析機器・装置

粒子径とゼータ電位からCMPスラリーとウェーハの静電相互作用を評価

半導体における洗浄プロセスでは、CMPスラリーより表面に吸着するパーティクルや金属不純物、有機物の物理的もしくは、化学的洗浄が行われます。物理洗浄によってパーティクルを剥離した後に洗浄後の再付着を防止することが必要となります。これらの研磨および洗浄条件の検討では、CMPスラリーおよびウェーハのゼータ電位を測定し、スラリーとウェーハの静電相互作用を評価することが有効です。 今回は、スラリーとウェーハそれぞれのpHタイトレーションを行い、ゼータ電位測定をおこないました。 CMPスラリーとウェーハの静電相互作用の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。

• 分析機器・装置

ゼータ電位・粒子径・分子量測定システムを用いた細菌から生産される細胞外膜小胞の粒子径・粒子濃度・ゼータ電位測定

細菌から生産される細胞外膜小胞は、細菌間のコミュニケーション、遺伝子の水平伝播、病原性細菌の毒性発現、など多様な機能を担うことから注目を集めています。その膜小胞は特にワクチンとしての利用やドラッグデリバリーシステム(DDS)におけるキャリアとしての利用に期待されており、その特性評価も重要になっています。 ELSZneoでは、粒子径・粒子濃度・ゼータ電位を測定することができます。今回、親株のMV (parent)と表層タンパク質欠損株のMVの粒子径分布、粒子濃度、ゼータ電位を測定しました。その結果から、本タンパク質の存在が凝集体形成抑制に寄与していることが推察できる。 エクソソーム測定の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。

• 分析機器・装置

ゼータ電位・粒子径測定システムを用いたエクソソームの粒子径・粒子濃度・ゼータ電位測定

エクソソームは、生体メカニズムの理解、診断、DDSなどへの応用が期待されています。そのエクソソームを適切に分離し精製することは、特性の理解や臨床応用へ発展させる上で非常に重要です。精製されたエクソソームの粒子径・粒子数の確認は実験のファーストステップとなります。 ELSZneoでは、粒子径・粒子濃度・ゼータ電位を測定することができます。粒子径は動的光散乱法、粒子濃度には静的光散乱法、ゼータ電位は電気泳動光散乱法を用いて結果を得ることができます。エクソソーム表面の電荷（ゼータ電位）の違いは粒子挙動にも大きく影響するため、近年非常に注目されている指標の一つです。ELSZneoは、粒子径・粒子濃度・ゼータ電位を測定することで、エクソソームの性質を詳細に解析することが可能です。 エクソソーム測定の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。

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高濃度状態でインクのゼータ電位・粒子径測定が可能

一般に、市販されているプリンター用インクは、分散安定性を向上させるために、少量の分散剤が添加されています。これらインクの分散性を評価するために、ゼータ電位や粒子径測定が行なわれています。しかし、今までは溶媒のみで希釈して測定されていました。このような処理では添加剤濃度が薄まり、本来の特性から異なる評価がされてしまうことが考えられます。この問題を解決するために、超遠心分離機で分離させた上澄み液を希釈溶媒として使用し添加剤濃度が変わらない状態でゼータ電位および粒子径測定を試みました。

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ゼータ電位測定でCMPスラリーの分散・安定性を評価

半導体ウェーハの研磨工程におけるCMPスラリーは、粒子径を均一に制御することで、安定した加工性能が得ることができます。また、凝集物などの粗大粒子が含まれると、研磨レートの変化やスクラッチなどの表面欠陥の要因となるため、粒子径の管理が重要です。そこで、CMPスラリーでは、高い分散性が求められており、ゼータ電位測定から最適な添加剤などの分散条件を検討することができます。 今回は、SiO2スラリーに10～300mMのNaClを添加し、そのゼータ電位および粒子径測定を行いました。 CMPスラリーの塩濃度によるゼータ電位の制御の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。

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CMPスラリーの等電点測定から分散性を評価

CMPスラリーは、研磨対象の材料や研磨条件によって、研磨に用いる砥粒を選択する必要があります。CMPの加工特性では、CMPスラリーの粒子径やpH、砥粒の純度などが影響します。そこで、CMPスラリーの分散性やスラリーと研磨材料との相互作用を評価する上で、ゼータ電位の測定が重要です。 今回は、砥粒の異なるスラリーをpHタイトレータを用いてpHタイトレーションを行い、各砥粒の等電点測定を行いました。 砥粒の異なるCMPスラリーの等電点測定の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。

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ゼータ電位・粒子径・分子量測定システムを用いて研磨パッドの表面ゼータ電位測定

半導体ウェーハの研磨工程におけるCMPスラリーは、ウェーハ、スラリー、研磨パッドの組み合わせとして使用されパッド表面の粗さによってスラリーを保持し、ウェーハ表面の被膜が研磨されます。パッド表面の目詰まりは、スクラッチなどの欠陥に寄与し、パッド表面の特性は、研磨性能に寄与すると考えられています。そこで研磨パッドおよびスラリーのゼータ電位を測定し、静電相互作用や吸着特性を検討することは有効であると考えられます。 　今回、発泡ポリウレタンの研磨パッドを測定サンプルとし、各pHにおける表面ゼータ電位を行いました。 研磨パッドの表面ゼータ電位測定の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。

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ゼータ電位・粒子径・分子量測定システムを用いてDDSナノ材料リポソームの粒子径とゼータ電位評価

リポソームは、脂質2分子膜で構成される閉鎖小胞であり、化学療法などの薬剤のキャリアとして注目されています。脂質組成、粒子径、表面荷電などを容易に調整でき、抗腫瘍ペプチドや抗体などを表面に修飾することが可能であり、標的化が比較的簡単におこなえるなど、薬物キャリアとして有用な性質を有しています。このように、リポソームの体内動態を理解する上で、物性評価（粒子径、表面電位測定など）は非常に重要です。 　 今回はリポソームの粒子径とゼータ電位を測定しました。 DDSナノ材料リポソームの粒子径とゼータ電位評価の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。

• 分析機器・装置

トルンプ株式会社は2025年7月に開催される第8回プレス・板⾦・フォーミング展「MF-TOKYO 2025」に出展いたします。 ブースでは、最新の板⾦加⼯機の実機デモ展⽰のほか、最新加⼯サンプルの展⽰、最新ソリューションをご紹介するプレゼンテーションをおこない、様々なご相談を承ります。 ご来場を心よりお待ちしております。 【トルンプ出展のみどころ】 ■デモあり︕最新板⾦加⼯機、スマートファクトリーソリューション ・NEW︕パンチ・レーザ複合加工機「TruMatic5000」+「SheetMaster」 ・NEW︕曲げ加工機「TruBend 7050」+自動化コンポーネント「FlexCell」 ・NEW︕⼯場管理ソリューションソフトウエア「Oseon」 ■プレゼンテーション＆実機デモ 10:30より30分毎にプレゼンテーション＆実機デモ（約15分）を実施します。最新情報収集にお役⽴てください。タイトル、タイムテーブルは会場でご確認ください。 ■最新加工サンプル展示 ■出展者テクニカルセミナーにも登壇

FCLコンポーネントが会員として参画する（一社）日本電気制御技術工業会（NECA）が、7月16日から19日、インテックス大阪で開催される大阪・関西万博連携イベント「未来モノづくり国際EXPO 2025」内「ウェルビーイング・テクノロジー展」に出展します。 「未来への贈り物　80億人の安全、健康、ウェルビーイング」GISHW※と称した本展示会は、万博史上初めて「安全、健康、ウェルビーイング」をテーマとし、労働安全・衛生の専門家、企業リーダーから、未来社会・次世代を担う若者たちまで幅広い方に参加いただけるエキサイティングなプログラムが盛りだくさんのビッグイベントです。 国際フォーラムやシンポジウムなどEXPOホールで開催されるだけでなく、インテックス大阪でもワークショップや展示会が開催されます。 当社も会員企業としてNECAブース内で製品の展示をいたします。 安全に貢献するリレーとウェルビーイングに役立つセンサーをご紹介いたします。 ※GISHW：Global Initiative for Safety, Health & Well-being at EXPO2025 and beyond

[講　師] 日本政策投資銀行 産業調査部ソリューション室 副調査役 村松 周平 氏 [重点講義内容] 先進国においてもデジタル化による電力需要の増加が見込まれる中で、世界的に原子力発電の重要性が再認識されており、従来の課題を克服し得る次世代革新炉に期待が集まっております。特に、技術成熟度の観点から実現可能性が高く、大型軽水炉におけるさまざまな課題を克服し得る特徴を有するSMRに注目が集まっており、各国で様々なプレイヤーが開発・社会実装を進めております。 本セミナーでは、SMRの技術的特徴、国内外の開発・社会実装の動向、そして導入における多岐にわたる課題と解決の方向性について解説致します。 [講演項目] １．はじめに ２．電力需要の増加と原子力への注目 ３．SMRに対する期待と懸念 ４．DCに対する電力供給策 ５．SMRの開発動向 ６．日本の産業競争力強化に向けて ７．質疑応答／名刺交換

[講　師] 株式会社NTTドコモ 経営企画部 サステナビリティ推進室長 涌井 道子 氏 [重点講義内容] ドコモでは、環境分野の取組みとして気候変動・資源循環・生物多様性の3本柱を掲げ対応を実施中。ネイチャーポジティブ実現への貢献の実効性を高めるべく、2025年5月に「生物多様性中期ロードマップ」を発表。 本講演では、ドコモの環境分野の取組み・ロードマップ・具体アクションに加え、策定までの道のり、社内巻き込み、苦労話等について紹介する。 [講演項目] １．ドコモの環境に対する取り組み 　・全体像（方針、目標等） 　・取り組み詳細（気候変動対策、資源循環、生物多様性保全関連） ２．生物多様性中期ロードマップの策定 　・ロードマップ策定に至った経緯（外部動向、ドコモのこれまでの取り組み、意義） 　・ロードマップ概要（ロードマップおよび具体アクション紹介） 　・策定までの道のり、検討体制／社内巻き込み、苦労話 　・今後の課題　他 ３．質疑応答／名刺交換

[講　師] 株式会社Que 代表取締役 コピーライター／コミュニケーションデザイナー [重点講義内容] 世の中を動かすのは、正しさよりも「アイデア」です。けれど「自分にはアイデア力がない」と思っていませんか？ 実はアイデアは、センスではなくスキルなのです。本講演では、仁藤安久氏の著書『言葉でアイデアをつくる』をもとに、「アイデアとは何か」「なぜ今、アイデア力が求められるのか」といった本質的な視点から、実践的な発想法・企画化技術をお届けします。ビジネスの現場で課題を解決するための「アイデアの見つけ方・伝え方」を体験的に学び、AI時代におけるアイデア創造法までお伝えします。　 [講演項目] １．「伝える」と「伝わる」の違いを体感するアイスブレイク　 ２．アイデアを“量産”するための拡散と選択の技術　 ３．問題発見 → 課題化 → アイデア化のステップ　 ４．人を動かすアイデアの条件 〜正しさよりも楽しさ〜 ５．インサイト（洞察）を軸にした言葉と企画のつくり方 ６．質疑応答