分析講座「RBS，D-SIMS」
株式会社東レリサーチセンター
RBS（ラザフォード後方散乱分光法）は、固体表面の薄膜組成分析法で、非破壊かつ定量用の標準試料が不要という大きな特徴を有している。本講座では、分析法、注意点等を、分かり易く解説します。さらには、RBSと同じく高エネルギーイオンを用いた、水素分析法（HFS）や、核反応分析法（NRA）など周辺の技術についても応用を含め紹介します。測定原理や、解析法まで踏み込んで説明することで、内容を統一的に理解できるようにし、現場での実践的な知識を習得していただけるようにしました。
SIMS（二次イオン質量分析法）は、表面分析の中で最も感度に優れており、半導体をはじめとした各種固体材料の不純物の深さ方向分析に最適であり、産業用途および研究用途に用いられてきた歴史の長いものです。しかし、データの品質が測定条件の設定等で大きく変わってしまうことから、熟練を必要とする手法でもあります。本講座では、Dynamic-SIMSの原理、特徴、有効性、装置の仕組み等の基礎的な事柄の解説と共に、感度変化への対処方法、深さ分解能の最適化、バックグラウンド（装置内残留成分）の低減など、高品質のデータを取得する具体的方法についても触れます。
| 開催日時 | 2025年10月23日（木） 13:00 ～ 16:00 |
|---|---|
| 参加費 | 有料 44,000円 |
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