分析講座「表面分析(XPS、TOF-SIMS)」
デバイスの微細化、異種材料の複合化などの進展に伴い、材料の表面・界面の制御が重要になりつつあります。材料の表面・界面の制御には、その性質を左右する数nm以下の領域を選択的に分析することが必要であり、試料全体を対象とする通常のバルク分析では有用な情報を得ることが困難です。表面分析はこの様な要請に応えるために開発された、深さ10nmから1nmの領域に敏感な分析手法です。
本講座では、表面の組成や化学構造、官能基の分析手法として広く用いられている、X線光電子分光法(XPS / ESCA)、飛行時間型2次イオン質量分析法(TOF-SIMS)について、両手法の原理と特徴、応用事例を紹介します。

| 開催日時 | 2026年05月21日(木) 13:00 ~ 16:00 |
|---|---|
| 参加費 | 有料 44,000円(税込) |
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