【モジュール構造真空装置】多目的真空蒸着装置HEXシリーズ【高拡張性&高メンテナンス性】

ブロックを組み立てるように自由自在に構成を変更可能な多目的真空蒸着装置｜スパッタリング・抵抗加熱蒸着・電子ビーム蒸着・有機蒸着

HEXシステムは、ユニークな『モジュール構造』が採用されています。 六角柱の形状のチャンバーの、各面を構成するパネルを交換することで 自由自在にポートの数や配置を変更することができます。 そのため、研究の方向性の変化に応じて、まるでブロックを 組み立てるような要領で、自分自身で簡単に構成変更や機能拡張を 行うことができます。 HEXシステムは、ベンチトップシステムとUHVシステムの間を補う、 コンパクトで拡張性の高い、新しいコンセプトの真空蒸着装置です。 ◆『モジュール構造』により自由自在にシステム構成を変更可能 ◆スパッタ、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着、有機蒸着に対応 ◆複数ソースによる同時成膜に対応 ◆サンプル回転、加熱、水冷に対応 ◆膜厚計を搭載可能 ◆設置面積60cm x 60cmのコンパクト設計 ◆優れた拡張性およびメンテナンス性 ◆グローブボックス対応（リチウムイオン電池など） 詳しくは＜PDFダウンロード＞よりカタログをご覧ください。 ご不明な点がございましたら、お気軽にお問い合わせください。

• スパッタリング装置

多目的真空蒸着装置HEXシステム用RF&DCスパッタリングソース

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用のスパッタリングソースです。 ターゲットが導体の場合はDCモードで、絶縁体の場合はRFモードで使用することができます。ガスフードが標準装備されているため、ターゲット表面近傍での圧力を高め、成膜中のチャンバー圧力を低く抑えることが可能です。 冷却水配管およびガス配管の接続には、クイックリリースコネクターが採用されています。そのため、工具を使用することなく、簡単に配管の取り付け／取り外しを行うことができます。Fissionソースは、蝶ナット4個でチャンバーに固定することができることから、取り付け／取り外しの際に工具を必要としません。 反応性スパッタにも対応するので、酸化物や窒化物の成膜も可能です。 HEXでは最大3台、HEX-Lでは最大6台の成膜ソースを取り付けることができるので、多層膜や化合物膜を成膜することが可能です。

• スパッタリング装置

多目的真空蒸着装置HEXシステム用抵抗加熱蒸着源

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用の抵抗加熱蒸着源です。 抵抗加熱蒸着法は、最も一般的な真空蒸着プロセスです。ボート型やルツボ型の加熱容器に材料を置き、加熱容器に電流を流すことで抵抗熱を発生させ、材料を加熱します。加熱容器の温度が充分に上昇すると、容器内の材料が蒸発し始めます。蒸着レートは電流によって制御することが可能です。 抵抗加熱蒸着装置の利点はプロセスガスを使用しないことです。そのため高い真空度中で動作し、堆積した膜にほとんど不純物が含まれません。 TESソースは蝶ナット4個でチャンバーに固定されています。また、冷却水配管はクイックリリースコネクターにより接続されています。そのため、材料の補充やボート／フィラメントの交換を素早く行うことが可能です。 HEXでは最大5台、HEX-Lでは最大6台のTESソースを取り付けることができます。また、スパッタソースFission、電子ビーム蒸着源TAUおよび有機蒸着源ORCAと組み合わせて使用することができます。

• スパッタリング装置

多目的真空蒸着装置HEXシステム用1源および4源電子ビーム蒸着源

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用の電子ビーム蒸着源です。 TAUシリーズは"ミニ"電子ビーム蒸着源です。TAUを使用することでHEXシステムを電子ビーム蒸着装置（EB蒸着装置）として使用できます。材料に高電圧が印加され、そのすぐ横にあるフィラメントから放出される熱電子を材料に加速衝突させることで加熱します。大型の電子ビーム蒸着源に見られるような、電子ビーム偏向マグネットは使用しません。 TAUソースの各ポケットには、蒸気中に含まれるわずかなイオンを検出するための、"フラックスモニタリングプレート"が標準で搭載されています。ここで検出されるイオン電流値は、蒸着レートと比例関係にあり、サブモノレイヤーの膜を精密に成長できるほど高感度です。 4源同時蒸着モデルであるTAU-4には、4つのポケットにそれぞれ独立したフラックスモニタリングプレートが備えられており、同時蒸着時には各ポケットの蒸着レートをモニターすることができます。 TAUソースは材料の材質により、ロッドまたはルツボから蒸着することができます。最適な蒸着方法をご提案いたしますので、お気軽にお問い合わせください。

• スパッタリング装置

多目的真空蒸着装置HEXシステム用有機蒸着源

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用の有機蒸着源です。 ORCAをインストールすることで、HEXシステムを有機物蒸着装置として使用できます。ORCAソースはルツボを積極的に冷却しています。加熱と冷却のバランスにより、優れた温度安定性と制御性を実現しています。 ルツボは熱伝導率の高い材質で作られていることから、蒸着レートに悪影響をおよぼすホットスポットが発生しません。アルミナ製やグラファイト製ライナーも用意されています。 ルツボの温度はKタイプ熱電対により測定されます。一般的な接触型熱電対よりも精度の高い温度測定が可能です。ORCAには電源ユニットと低温動作に最適化されたPIDコントローラーが付属します。 ORCAソースはスパッタソース、電子ビーム蒸着源および抵抗加熱蒸着源と組み合わせて使用することができます。ルツボ周囲は冷却された保護キャップに覆われており、隣接するソースからの熱干渉を最小限に抑えられています。

• スパッタリング装置

多目的真空蒸着装置HEXシステム用サンプルステージ | 固定、回転、回転加熱、回転水冷

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用のサンプルステージです。 正しいサンプルステージを選択することは、正しい成膜方法を選択することと同じくらい重要です。サンプルステージの特性は均一性やモルフォロジー、膜組成に影響を与えます。 HEXでは最大直径4インチのサンプル、HEX-Lでは最大直径6インチのサンプルに対応します。標準の固定サンプルステージの他に、回転、回転加熱、回転水冷サンプルステージが用意されています。

• スパッタリング装置

　コンテックは、NVIDIA(R) Jetson Orin Nano(TM)搭載 産業用エッジAIコンピュータDX-U2100シリーズについて、Super Modeに対応するファームウェア(JetPack6.2.0 インストールイメージファイル)のダウンロード提供を、2025年7月17日より開始いたしました。 Super Modeに対応するファームウェアを適用いただくことで、NVIDIA(R) Jetson Orin Nano(TM) 8GB搭載モデルではAI性能が40TOPSから最大67TOPSに、4GB搭載モデルでは20TOPSから最大34TOPSに向上します。 【対象製品】 ●産業用エッジAIコンピュータ DX-U2100シリーズ 　新しく購入されたDX-U2100シリーズおよび、既にお持ちのDX-U2100シリーズのハードウェアで、ファームウェアを更新することでSuper Modeを利用できます。 　Super Modeをご使用の際には、温度ディレーティングや消費電力に違いがございます。詳細につきましては、マニュアルをご参照くださいますようお願い致します。

ABBは、メカトロニクス、エレクトロニクスにおけるアジア最大級の展示会である、TECHNO-FRONTIER 2025のモータ技術展に出展します。TECHNO-FRONTIER 2025は2025年7月23日(水)~25日(金)に東京ビッグサイトで開催されます。ブースでは、エネルギー効率のベンチマークであるIE5規格を上回る同期リラクタンス (SynRM) モータおよびEC Titaniumモータを中心に、最先端のエネルギー効率化ソリューションと革新的なモータ技術を紹介します。 【開催概要】 日時：2025年7月23日(水) ~ 25日(金) 10:00 ~ 17:00 会場：東京ビッグサイト ABBブース：西1ホール 1-T17 ※詳細は関連リンクよりご確認ください

エンボススイッチ付きタッチパネルは、クリック感を持たせたエンボススイッチとタッチパネルを一体化した製品で、しっかりとした押し感を実現します。メカスイッチをクリック感のあるエンボスタッチパネルに取り込むことで更にクリック感を強調することも可能です。 エンボススイッチとタッチパネルが一体化するためフルフラットになり、デザイン性アップ、隙間から水やゴミの侵入の恐れがない、清掃がしやすい、部品点数の削減や組み込み工数の削減が可能などのメリットがあります。パネル全体として防水構造もご提案可能です。 エンボススイッチの配置・デザイン・サイズ・カラーは自由に指定できます。 また、ボリュームボタン設置のためのガラス穴あけやLEDの透過部のスモーク印刷なども各種対応可能です。

からだにやさしい食品への関心が高まる中、香料や甘味料を加えず果汁そのものを輸入し、国内で製品化する動きが広がっています。 こうした背景から、輸入・国産を問わず濃縮果汁の品質保持がこれまで以上に重視されています。 ▼解凍における課題 ・凍結状態で納品されるため自然解凍に長時間が必要 ・褐変や風味の劣化、衛生面でのリスクが高い ・作業者の負担やスケジュール調整が難しい ▼プロトン解凍機で解決！ ・低温蒸気と湿度100％の制御技術でムラなく計画解凍 ・ドラム缶：約48時間／一斗缶：約12時間で高品質な解凍 ・香り・色味を保持し、ドリップも抑制 容器のまま解凍でき、省スペース・省人化にも対応 濃縮果汁の品質管理と業務効率を両立したい食品工場に最適な解決策です。 テストルーム完備：テスト機器 【解凍機】 　　プロトン解凍機 [DENG-160]　 　　プロトン解凍機 [RENG-40]　 【凍結機】 　　プロトン凍結機 [PF-15A] お問合せ：info@proton-eng.co.jp 03-6423-0478　平日9：00~18：00

～ 立命館アジア太平洋大、半導体ビジネス人材育成へ　特別プログラム ～ 日本経済新聞社の電子版に弊社が紹介されました 大分県別府市にあり、留学生が約半分を占める立命館アジア太平洋大学（APU） 理系学部はなく、文系学部のみ なぜ半導体？どんなスキームで？、シリコンアイランド九州、産学官・・・等が記事になっています 会員限定記事になっておりますが、ご覧いただければ幸いです