ナノパルスレーザー照射分析機
多様なエリア状態で、材料の相変化条件・物性評価を目的とした超精密レーザー分析装置
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基本情報
相変化材料表面を高速精密スキャンニング制御を行いながら、レーザーの出力とパルス時間を変化させ、多様なエリア状態での材料の相変化条件と物性の評価することを目的とした超精密レーザー分析装置
価格情報
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納期
用途／実績例
■Static Test ・結晶化 ・スポット照射＆結晶化前後の反射率測定 ・ライン/エリア（プログラマブル）上での反射率測定 ■Advance Test ・スポット/エリア上で結晶化/非結晶化のサイクリング試験（耐久試験） 【主な特長】 ■高性能ナノパルスレーザーと高精度アライメントステージ搭載 パルス出力制御（出力レンジ：0〜50mW, パルス時間：5ns〜1ms） レーザービーム スポットサイズ (0.5〜1μm） XYＺアライメントステージ（0.2μm分解能） ■GUI操作による多様なモード機能設定及び条件選択 パルス出力＆時間条件設定＆エリア設定機能 相変化イメージ確認＆保存機能 反射率（結晶化/非結晶化）変化によるエリア内反射率マッピング機能 ■リアルタイム自動焦点機能によりSNR向上・ワークのチルト補正解像度向上 【お問い合わせ先】 電話 ：03-5715-3501 E-Mail ：info@welljp.co.jp 会社案内 http://www.welljp.co.jp/
企業情報
ウェルは、先端実装評価用テストチップをコアとした、ベアチップ実装設備の開発・実装受託・信頼性評価までの実装ソリューションビジネスを展開 〜 企業理念 〜 ■「Profitable Relationship」を経営理念の機軸として、お客様と共に繁栄し、グローバルに拡大するエレクトロニクスコンポーネンツ産業の発展に貢献できる会社を目指します ■次世代半導体実装開発を支援する製品提供を通して、お客様の開発促進と利益向上に貢献します ■「独創的な製品」と「革新的なサービス」を提供し、価値ある市場創造を目指します