薬液を使用せず純水のみでレジスト剥離やリフトオフが可能
純水を用いたスピン式スチーム剥離（洗浄）装置です。 薬液を使用せず純水のみでレジスト剥離やリフトオフが可能です。（膜付け条件によって異なります） 生産コストと環境負荷の大幅減少が期待出来ます。
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基本情報
◆接液部は高純度石英ガラスを仕様することで金属汚染がありません。 ◆純水又は温水に比べスチームによる洗浄効果の増大。 ◆スチーム洗浄への転換による純水使用量の削減と洗浄時間の短縮。 ◆環境負荷の低減を考量した薬液レス洗浄への転換。 ◆ハロゲンランプ使用で、効率的なスチーム発生が得られます。 ◆スチーム+特殊ノズルによる効果的なレジスト剥離及びリフトオフ。 ◆スピン式装置ですのでスピンリンスやＨｏｔＮ２による乾燥が可能です。 ※仕様については別途お問合せ下さい。
価格帯
納期
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用途／実績例
半導体・マスク・液晶基板等のレジスト剥離、リフトオフ及び洗浄
企業情報
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