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半導体モールド金型用セルテスXコーティング

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セルテスX,セルテスN

最終更新日:2022年12月16日

ナノコート・ティーエス株式会社 石川事業所
ナノコート・ティーエス株式会社 石川事業所
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先進の真空プラズマ技術による低温PVDコーティングです。

半導体モールド金型用セルテスXコーティングは、先進の真空プラズマ技術による低温PVDコーティングです。PBS(プラズマブースタースパッタリング)プロセスにより成膜された2~5μmの窒化クロム被膜(CrxNy)はビッカース硬さ1800以上で、シリカ粒子によるアブレシブ摩耗に対してすぐれた耐摩耗性を示します。また鋼母材では、放電加工面上の被膜の脱膜再コーティング加工も可能です。詳しくはカタログをダウンロードしてください。

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半導体モールド金型用セルテスXコーティング

Semicon_mold.jpg
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  • 関連リンク - http://www.nanocoat-ts.com/

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基本情報

【特長】 ○SiC ボールとの摩擦摩耗試験ではTiN コーティングの約10倍、DLCコーティングと同等の耐摩耗性を示す ○良好なトライボロジー特性を有する →SiCとの摩擦係数は0.29と低い摩擦係数を示す ○純水液滴の接触角は100度以上で、他の硬質薄膜より高い撥水性 ○エポキシ樹脂に対して良好な離型性を有する →純水とヨウ化メチレンの接触角測定から計算された表面自由エネルギーは25mN/mで表面での反応が起こりにくい ○環境負荷低減(RoHS 適合) ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードしてください。

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型番 概要
セルテスX CrxNy 硬さ 20GPa
セルテスN CrN 硬さ 20GPa

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特殊スパッタリングおよびプラズマCVDプロセスの採用により、180度以下の低温処理でも密着力にすぐれ、なおかつ高膜厚精度で、耐摩耗・耐焼付性・低摩擦係数などすぐれたトライボロジー特性を持つコーティングを豊富な実績と経験に基づいて高品質、短納期にて請け負います。特にCrめっき代替のCrN系コーティング(セルテスX,N)、高面圧下でも優れた密着性を有するセルテスDLCなどセルテスブランドのコーティングがプラスチック成型金型・プレス金型・自動車部品・高精度摺動部品で高い評価を受けています。また表面清浄度測定器コロナサーフなど各種金属表面や薄膜の特性評価・不良解析もおこなっています。

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