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【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

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最終更新日:2026年01月07日

テルモセラ・ジャパン株式会社 本社
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モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式コンポーネント・制御機器設計によりバリエーションが豊富、様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。 MiniLabシリーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。 【スモールフットプリント・省スペース】 ・シングルラックタイプ(MiniLab-026/090):590(W) x 590(D)mm ・デュアルラックタイプ(MiniLab-070/080):1200(W) x 590(D)mm ・トリプルラックタイプ(MiniLab-125):1770(W) x 755(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または7”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。

    スパッタリング装置
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【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

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iPROS_2023.9.jpg MiniLab-026_iPROS.jpg MiniLab-026-GB.jpg ML-Etch_Anneal-Station.jpg MiniLab-060_iPROS.jpg MiniLab-PECVD_iPROS.jpg MiniLab-080_iPROS.jpg MiniLab-090_iPROS.jpg MiniLab-125_iPROS.jpg
  • テルモセラ・ジャパン_MiniLabシリーズフレキシブル薄膜実験装置掲載ページ
  • 特設サイト - 製品・サービス詳細 - https://pr.mono.ipros.com/thermocera/product/

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基本情報

【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置 構成モジュール】 ◉ 製作範囲 抵抗加熱蒸着(TE)、有機膜蒸着(LTE)、電子ビーム蒸着(EB)、RF/DCスパッタリング(SP)、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング(RIE) ◉ チャンバー ・026(26Litter)-TE/LTE/SP/CVD/Etch/*Globe Box option:MaxΦ6inch ・070(60Litter)-TE/LTE/EB/SP/Etch/:MaxΦ11inch ・080(80Litter)-TE/LTE/EB/SP/Etch/:MaxΦ11inch ・090(90Litter)*Globe Box option -TE/LTE/EB/SP/Etch/:MaxΦ11inch ・125(125Litter)-TE/LTE/EB/SP/Etch/CVD:MaxΦ12inch ※ その他仕様は当社ホームページ参照下さい。

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納期

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※お気軽にお問い合わせください。

用途/実績例

主な用途 ・新素材/新材料の開発 ・先端技術開発 ・小規模試作生産 など

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  • MiniLab-026_iPROS.jpg

    MiniLab-026-TE/LTE/SP MiniLabシリーズ最小の、19inchシングルラックフレームスタンドアロン型薄膜実験装置。幅600 奥行き600の最小設置スペースの小型サイズに、TE(抵抗加熱蒸着)、 LTE(有機薄膜蒸着)、 SP(スパッタリング)実験が可能。小型ながらPID自動ループ成膜コントロール(手動も可)、同時成膜も可能。

  • MiniLab-026-GB.jpg

    MiniLab-026-GB(グローブボックス収納型) MiniLab-026チャンバーを作業ベンチ内に設置、制御ユニットをベンチ下に収納したグローブボックスモデル。

  • ML-Etch_Anneal-Station.jpg

    MiniLab-026-Etch/Anneal Station MiniLab-026チャンバーに、RFドライエッチングステージ・基板加熱ステージを搭載した装置。全てをMiniLabシリーズ19inchラックフレームに収納したスタンドアロン、グローブボックス収納したMiniLab-026-GBの応用型の2機種。マンチェスタ大学グラフェンGrとの共同開発品。独自の30W以下での低ダメージ・制御精度に優れたRIEシステムとの組合せでTMDC・2D開発に寄与します。

  • MiniLab-060_iPROS.jpg

    MiniLab-070-TE/LTE/EB/Sputtering装置 『MiniLab-070』シリーズは、豊富なコンポーネントをモジュラー式に組み込むことにより、TE(抵抗加熱蒸着)、LTE(低温有機膜蒸着)、EB蒸着、RF/DCマグネトロンスパッタなどの幅広い目的に構成することができるR&D用装置です。上下昇降/基板回転/加熱・冷却ステージ・ロードロックなどのオプションも豊富。( 写真は6 pockets蒸着源を搭載したEBモデル)

  • MiniLab-PECVD_iPROS.jpg

    MiniLab-070 PECVD装置 『MiniLab-070-PECVD』は、4系統までのガスライン、 RF/DC電源ユニット, 基板加熱・回転ステージ(Max1200℃)を搭載したセミオート式プラズマCVD専用機。60L容積チャンバーに、RP(DP)+TMP搭載した高真空仕様に対応、安定したPLC/MFCによる真空・ガス圧力自動制御が行えます。ウエハーサイズ1~11inchまでの成膜実験が可能です。

  • MiniLab-080_iPROS.jpg

    MiniLab-080-TE/LTE/SP ボックス型チャンバー:チャンバー高さ570mm、80リットル大型チャンバーにロードロック機構を追加できるMiniLab-060の上位機種。T/S距離調整幅が長く膜均一性の向上に寄与。

  • MiniLab-090_iPROS.jpg

    MiniLab-090(*グローブBox収納型) 400x400x570の大型80L大容積チャンバーを作業ベンチ内に収納したMini-Lab-080のグローブボックスモデル。スライドドア開閉フロントローディング式、チャンバー背面からアクセスできるメンテナンス用ドア、大チャンバーながら作業ベンチを最大限活用した省スペース・ハイスペックモデル。真空蒸着・スパッタ・RFエッチなど多目的に使用いただけます。プロセス処理後のサンプルを大気・水分に露出せずクリーンな薄膜実験が可能です。

  • MiniLab-125_iPROS.jpg

    MiniLab-125 大型大容積チャンバー(500x500x600mm)にMiniLabシリーズ全てのオプション搭載可能。研究開発から小規模生産用途までカバーするMiniLabシリーズの最上位フラッグシップモデル。ロードロックシステム・オートマスクチェンジャー・プラネタリードームなどのオプションが豊富。

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【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

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薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2025」

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【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置

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★【MiniLab-070】フレキシブル薄膜実験装置★

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★【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置★

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★【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置★

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【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置

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多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-S125A】Φ4〜12"対応

多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-S125A】Φ4〜12"対応

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ソフトエッチング装置【nanoETCH】<30W低出力制御によるダメージレスエッチング

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スパッタ・蒸着ソース混在 複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

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多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S070】

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【MiniLab】 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム

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グローブボックス薄膜実験装置【MiniLab-026/090-GB】

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ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

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【nanoPVD-S10A】RF/DCマグネトロンスパッタリング装置

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◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置

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◆HTEヒーター/OLED有機蒸着・高温金属蒸着セル◆ Max1500℃

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【マグネトロンスパッタリングカソード】

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★nano BenchTopシリーズ 薄膜実験装置★

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【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

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【Nanofurnace】Model. BWS-NANO 熱CVD装置

【Nanofurnace】Model. BWS-NANO 熱CVD装置

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◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置

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BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃

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【SH 高温 基板加熱ヒーター】(Inc/BNプレート Max1100℃)PVD CVD 真空薄膜用 高温 プレートヒーター

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ホットステージ【基板加熱機構】超高温基板加熱ヒーター

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実験炉・ヒーター_「PRODUCTS GUIDE_2025」

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Products Guide_【超高温実験炉 製品ガイド」

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【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃

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Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃

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【MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉】Max2000℃

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【TCF-C500】超高温小型実験炉 Max2900℃

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【PyroUSB】USB接続式 高精度赤外線温度センサー

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【PyroMini USB】USB接続式小型赤外線温度センサー

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【PyroMini】小型高性能赤外線温度センサー

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【PyroNFC】スマートホン設定式赤外線放射温度センサー

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【PyroCouple】 (パイロカップル)赤外線温度センサー

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【ExTemp】本質安全防爆型赤外線放射温度センサー

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高温アニール炉 ◉Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃

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◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空/パージサイクル」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉 ◉有効加熱範囲(るつぼ寸法) ・面状ヒーター加熱範囲:Φ2inch〜Φ6inch ・円筒状ヒーター加熱範囲:Φ30〜Φ80 x 深さMax100(H)mm ◉MFC最大3系統 自動流量制御(又は手動調整) ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm(*ロータリーポンプ筐体内設置) 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。

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◉超高温実験炉 【Mini-BENCH-prism】 セミオート式 Max2000℃

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◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空/パージサイクル」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉 ◉有効加熱範囲(るつぼ寸法) ・面状ヒーター加熱範囲:Φ2inch〜Φ6inch ・円筒状ヒーター加熱範囲:Φ30〜Φ80 x 深さMax100(H)mm ◉MFC最大3系統 自動流量制御(又は手動調整) ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm(*ロータリーポンプ筐体内設置) 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。

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MiniLab-S070A薄膜実験装置

4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】

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Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF150W or DC780W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇降(ステッピングモーター自動制御) APC自動制御:アップストリーム(MFC流量調整)又はダウンストリーム(排気側バルブ自動開度調整) デポレート・膜厚レート制御 寸法:1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。

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MiniLab-LT26A 小型真空蒸着装置

★☆★☆【MiniLab-026】R&D開発用 小型薄膜実験装置★☆★☆

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モジュラー式コンポーネント・制御機器設計による豊富なバリエーション。様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3元)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大2、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、RFエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます(*要仕様協議)。 フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ Φ2inchマグネトロンカソード(最大3元) ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式(最大4極 コントローラで自動切替) ◉ 有機蒸着セル:1cc or 5cc ◉ グローブボックス搭載可能(オプション 要仕様協議) ◉ その他オプション: 同時成膜、HiPIMS、自動成膜コントローラ、特注基板ホルダ、ロードロック、基板回転/加熱・冷却などオプション豊富。 ※ まずはご要求の仕様をご連絡下さい、ご要望に合わせシステム構成致します。

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【Endless possibility_thermal engineering...】 当社は半導体・電子機器基礎研究用真空薄膜装置、CVD基板加熱用超高温ヒーター、実験炉、温度計測機器などを販売しております。 いつの時代でも欠かす事のできない「熱」に対する尽きぬ需要、基礎技術開発分野での様々なご要求にお応えすべく、最新の機器を紹介し、日本の研究開発に貢献してまいりたいと考えます。

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