高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置
高機能 多目的 RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 タッチパネル簡単操作 熟練度を問わずどなたでも簡単に操作が可能です。 【nanoPVD-S10A標準構成仕様】 ● 基板ステージ：Φ4inch、基板シャッター付 ● 最高到達圧力：5 x 10-5 Pa（10-3paまで10分、10-4paまで20分以内） ● 2"マグネトロンカソード x 最大3：自動連続多層膜, 2源同時成膜（RF/DC, DC/DCのみ） ● RF150W、DC780電源搭載（最大2電源まで） ● MFC x 3：プロセスガス3系統（Ar, O2, N2） ● 主排気TMP、粗挽RP（*ドライポンプ オプション） ● Windows PCリモートソフトウエア"IntelliLink"付属：システムライブモニター、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング ● 水晶振動子膜厚センサ 【主な用途】 ・酸化膜、絶縁膜 ・金属・合金、導電性膜 ・化合物、反応性膜、他 【オプション】 ◉ 基板加熱ヒーター500℃、磁性材用カソード、ドライスクロールポンプ、など
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基本情報
◉ 酸化膜・絶縁膜・導電性膜・化合物、反応性膜も可能な高機能多目的スパッタリング装置 ◉ 装置運転・レシピ管理などの全てを7"タッチパネルで一元管理。 ◉ オペレータが登録したフィルムレシピ、プロセス制御（真空引/ベント、成膜レート、カソード切替、シャッター開閉、加熱・昇降回転調整など）を全自動運転（手動も可能） Windows PC用付属ソフト（IntelliLink）で装置のライブモニター、データロギング、レシピダウン&アップロードができます。 【主な仕様】 ・RF/DCマグネトロン方式 ・2inchマグネトロンカソードx 標準2（最大3） ・RF電源：150W ・DC電源：850W ・対応基板サイズ：〜4" ・上下昇降 ・プロセスガス制御：MFC x 3（Ar, N2, O2） ・水晶振動子膜厚センサ ・基板シャッター ・寸法：804(W) x 570(D) x 600(H)mm ・重量：約70kg ・電源：200VAC 50.60Hz 15A ・チャンバーサイズ：Φ225（内径）x 250mm ・真空系：TMP + RP（*ドライポンプ オプション）
価格帯
納期
※仕様により納期変動します、当社までお問い合わせ下さい。
用途／実績例
各種電子デバイス薄膜実験 金属薄膜、絶縁膜、化合物薄膜、他多数アプリケーションに対応
詳細情報
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nanoPVD system front チャンバー: Φ259(H) x Φ225(i.d)mm フロントビューポート 7inchタッチスクリーン
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nanoPVD system back ターボ分子ポンプ + ロータリーポンプ Windows PC USB接続 専用ソフトウエアにてデータロギング
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nanoPVD front view port フロントビューポート
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2inch Magnetron Cathode 2inchマグネトロンカソード（DC/RF/PulseDC兼用） x 最大3源
ラインアップ（2）
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| nanoPVD-S10A | |
| nanoPVD-S10A-WA | Φ6inch、Φ8inch基板対応ステージ搭載 |
カタログ（37）
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この製品に関するニュース（4）
企業情報
【Endless possibility_thermal engineering...】 当社は半導体・電子機器基礎研究用真空薄膜装置、CVD基板加熱用超高温ヒーター、実験炉、温度計測機器などを販売しております。 いつの時代でも欠かす事のできない「熱」に対する尽きぬ需要、基礎技術開発分野での様々なご要求にお応えすべく、最新の機器を紹介し、日本の研究開発に貢献してまいりたいと考えます。
