低温ＣＶＤは、１００℃以下での成膜や、異形サイズの基板へも、樹脂、フィルムなどの材質へも成膜可能。
PE=CVDのSiO2、SiNを中心に成膜の受託加工を行っております。 厚膜の熱酸化膜への対応、小数枚の熱酸化膜へのご要求にも 在庫品で対応できる場合がありますので、お気軽にお問い合わせください。 その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問い合わせ下さい。
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基本情報
【特長】 ○１枚からの成膜が可能です。 ○低温ＣＶＤは、１００℃以下での成膜が可能です。 ○異形サイズの基板への成膜も対応可能です。 ○樹脂、フィルムなどの材質への成膜も可能です。 ○パターニング後の基板も投入可能です。 ○温度条件を変えての成膜対応可能です。 ○薄膜成膜にて、±4％以下での成膜加工も可能です。 ●その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問い合わせ下さい。
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企業情報
大村技研株式会社は機械加工・高圧／特殊ガス配管・溶接・組立・設計、中古半導体製造装置再生・付帯工事・設計をおこなっている企業です。 当社の研かれた技術は半導体業界、液晶、燃料電池、エコ関連、食品工場、各種製造プラント、薬品研究所、研究機関等、精密性・緻密性・安全性を厳格に求められる多くの業界で採用されています。 当社では“困ったときには大村技研”を合言葉に活動しております。常により柔軟・迅速・高度であること意識し、お客様に100％ご満足いただくことを追求しております。