優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装置
常圧CVD装置「AMAX800V」は、φ200mmウェーハ対応、モノシランガスの反応特性を応用したUSG、PSG、BPSG等の絶縁膜およびシリコン基板の裏面保護膜を形成する連続式常圧CVD装置です。 搬送機構の改良により高スループットを実現しました。 SiCトレーの採用により重金属汚染は発生しにくくなり、また熱による経年変化が少なく安定したプロセス性能が得られます。 【特徴】 ○高スループット性 ○優れた成膜特性 ○メンテナンス性 ○金属汚染低減(オプション対応) 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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基本情報
【仕様】 ○サイズ：1460mm(W)×3830mm(D)×2250mm(H) ○成膜速度：最大5000Å/min ○パーティクル：サイズ0. 22μm以上の増加量が15個以下 (8インチ、CVD成膜後) ○ガス種：SiH4-O2(SiH4-O3はオプション対応） ○オンライン通信：自動化オンライン通信はパソコンを追加し オプション対応が可能 ○膜厚均一性(NSG)：2ヘッド仕様、3ヘッド仕様ともに 面内:≦±3.5%、面間:≦±2.5% ○不純物濃度均一性：面内、面間ともに±3.0%以下 ○温度：350℃ ～430℃(オゾンプロセスでは150℃～350℃ ) ○対応ウェーハサイズ：8インチ (8インチ・6インチウェーハサイズの兼用化はオプション対応) ○スループット：～100枚/hour(＠5000Å) ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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企業情報
株式会社天谷製作所は、1970年に横型バッチ式常圧CVD装置を開発・販売して以来、半導体製造用の成膜装置として使用される常圧CVD装置を中心に事業を展開してまいりました。 近年では、新しい分野への挑戦として、太陽電池製造用の高生産性常圧CVD装置を開発・販売しました。 今後も、新技術の開拓に取り組み、常圧ＣＶＤ装置のオンリーワン企業を目指します。