低コストで高解像性を持つ製品をご提供致します！
当製品は、自動モード離型機能搭載の実験用簡易UVナノインプリント装置 です。プレスしながらUV照射を行ないます。 モールドサイズは、25mm～40mmで、UV照度は0.5mW/cm2になっています。 また、オプションにてHP機能・脱気ユニットを選択頂けます。 当製品以外にも、用途によって選んでいただけるようラインアップも 多数ご用意しております。 【特長】 ■自動モード離型機能搭載 ■低コストで高解像性 ■プレス圧10MPa ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【仕様】 ■モールドサイズ：25～40mm ■ウェハサイズ：4インチ～6インチ Si ■UV照度：0.5mW/cm2 ■オプション ・HP機能 ・脱気ユニット 【ラインアップ】 ■LTNIP-5000 ■LTNIP-7000 ■WEX-200 ■WMA-600 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
企業情報
リソテックジャパンは、創設以来リソグラフィのスペシャリストとして、レジスト露光/現像解析装置、レジストコータ/デベロッパ、リソグラフィシミュレータに加え、最先端リソグラフィプロセス向けに露光/現像材料評価等もご提供しております。 特にレジスト処理装置では、スピン塗布コータ、デベロッパ、ベーク（PEB)装置、膜厚測定等を様々な分野に適応させて、開発用実験装置から生産用全自動システムまでご要望に応じた最適な仕様をご提案しています。 例えば、極薄シリコンウェーハ / 各種化合物半導体 / 石英 / サファイヤ / 圧電基板(SAW)等の各種基板に対しての、ArFレジスト / EBレジスト / 高粘度厚膜レジスト / ポリイミド / 絶縁膜 / ワックス等の塗布装置やアルカリ / 無機/有機等の現像装置をラインナップしています。 その他に、HMDS処理 / 真空減圧ベーク / UV照射 / 高温ベーク処理等各種プロセスユニットを用意しています。