リソグラフィ技術を創ってきた著者陣が、技術の生い立ちからブレークポイント、消えていった技術やその理由、最新技術まで紹介。
2017年は、半導体の量産化が始まって40年となります。それは、GCA社がステッパ(g線NA0.28)を1977年に上市し、それまでのコンタクト・プロキシミティ露光から、縮小投影露光方法に切り替わったことに由来します。ステッパの登場によりパターン寸法の微細化と、半導体の量産性が飛躍的に伸びました。まさに1977年はリソグラフィ技術の飛躍の原点と言えるでしょう。そこで、リソグラフィ技術40年の歴史を振り返り、今後のリソグラフィ技術の展望を考察する著書を、今、この時期に刊行することは意義深いことだと思います。また、リソグラフィ技術の黎明期を知っている著名な研究者の先生方も、リタイアされる年齢でもあり、貴重な経験談や資料が失われつつあります。そこで、パイオニア的な先生方にリソグラフィ技術のそれぞれのターニングポイントについて、それらをどう乗り越えて来られたのか、材料開発の歴史、往時の苦労話などを語っていただきました。歴史を振り返るだけではなく、若い研究者の方々に、研究に夢を持っていただける様な内容に仕上がったのではないかと思っております
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基本情報
第1章 半導体リソグラフィ技術の発展（40年の歴史を振り返って） 第2章 g線レジスト開発と歴史 第3章 i線レジスト開発と歴史 第4章 KrFレジストの開発と歴史 第5章 ArFレジスト開発と歴史 第6章 EUVレジスト開発と歴史 第7章 半導体黎明期～ステッパ開発の歴史とその後 第8章 リソグラフィシミュレーションの40年と計算リソグラフィ 第9章 リソグラフィ技術の進む先
価格情報
10000 別途消費税
価格帯
1万円 ~ 10万円
納期
2・3日
用途／実績例
【著 者】 岡崎信次 / ギガフォトン(株) 田中初幸 / メルクパフォーマンスマテリアルズマニュファクチャリング(同) 花畑誠 / 富山県立大学 鴨志田洋一 / 神奈川大学 野崎耕司 / 富士通(株) 渡邊健夫 / 兵庫県立大学 関口淳 / リソテックジャパン(株) Chris A. Mack / Lithoguru.com 上野巧 / 信州大学
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S&T出版は、研究者・技術者に向けた技術専門書籍を出版しています。