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表面分析機器『TOFLAS-3000』

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最終更新日:2018年05月21日

株式会社パスカル
株式会社パスカル
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電気的に中性な原子ビームを採用!帯電の問題を解決した表面分析機器

『TOFLAS-3000』は、入射プローブとしてイオンではなく電気的に中性な 原子ビームを用いた飛行時間型原子散乱表面分析装置です。 本製品を使用することにより、半導体,金属のみならず絶縁体表面の 組成および原子配列の解析も可能です。 また、帯電(チャージアップ)の問題も解決します。 【特長】 ■金属、半導体はもとより絶縁体の表面分析にも威力を発揮 ■試料表面の元素の同定が可能 ■表面下数層の原子構造解析が可能 ■試料表面の極性判別が可能 ■表面での動的過程のリアルタイムモニタリングに対応 ■電場・磁場中でも影響なく測定が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

    半導体検査/試験装置分析機器・装置
表面分析機器『TOFLAS-3000』.PNG

表面分析機器『TOFLAS-3000』

表面分析機器『TOFLAS-3000』.PNG
表面分析機器『TOFLAS-3000』.PNG
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基本情報

【測定モード】 ■TOFスペクトル測定 ■極角測定 ■方位角測定 ■全方位スキャン(極点図) ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

価格帯

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用途/実績例

【応用例】 ■薄膜成長の単原子層成長モニター ■薄膜成長モードの判定・評価 ■強磁場中での薄膜成長過程の“その場分析” ■電気的にフローティング状態にある試料の分析 ■極点図による試料表面の極性判別 ■表面偏析元素の同定など ■簡易SIMSによる高感度・高分解能元素分析 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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表面分析機器『TOFLAS-3000』

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株式会社パスカルでは、PLD /レーザーMBE装置をはじめとする真空装置、 原子散乱分光法などの表面分析装置、極低温冷凍機システム、アジレント (バリアン)の真空ポンプなど、研究開発に有用なさまざまな実験装置を 取り扱っております。 真空機器・装置、理化学機器・装置においてグローバルな視野を持ち、 常に時代の先を見つめ、新しい技術と商品ニーズを先取りし、ユーザー様の 役に立つ製品を提供し続けてまいります。

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