微細加工技術を匠の技に深化！
当社では、名城大学上山研究室との共同研究契約に基づく、 モスアイ製造技術の向上とサンプル作製、及び各種半導体基板作製と 評価の実施を行っております。 ナノインプリント技術とドライエッチングにより、様々な材料・基板に 適用可能です。 【加工実績】 ■Sapphire ■SiC ■GaN ■InP ■AlGaInP など ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社は、大学における研究成果（シーズ）とビジネス（ニーズ）の橋渡しを 行い、研究成果を事業化するための様々なサポートを行っております。 また、窒化物半導体結晶成長や金属成膜・エッチング、モスアイ加工技術の 応用なども手がけております。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。