現状のウエハサイズと将来的に使用したいウエハサイズを兼用した装置を作製できます（例、2・4インチ、6・8インチなど）
2種類以上のウエハサイズを兼用した装置製作が「段取り替えなし」で可能です。 実績例 ■2・3・4インチ兼用装置 ■4・5インチ兼用装置 ■4・6インチ兼用装置 ■6・8インチ兼用装置 ■8・12インチ兼用装置 ウエハ重量、ウエハ材質によっても変わりますので、 まずはお気軽にご相談ください。 2種類のウエハサイズの専用装置を1台ずつ設置することを考えれば、設置面積は実質半分になります！ もちろんスピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を標準搭載しています。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 【特長】 ■複数インチサイズウエハの兼用（段取り替えなし） ■自動ウエハサイズ認識での自動運転 ■低価格を実現 ■多彩な薬液に実績あり ■フットプリントの低減 ■レジスト削減で多数のオプション ■生産量に合わせたラインアップ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 1600×2500×1800(Φ12"本体) ■ウェハ搬送ロボット：1組（ダブルアームクリーンロボット） その他オプション多数！ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
※4～5ヶ月（通常）、状況によって変動しますので、お気軽にお問い合わせください。
用途／実績例
パワーデバイス、LED、LD、SAWフィルターなど各種分野での実績があります。 ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
フォトレジストの塗布・露光・現像装置をメインとし、両面露光装置等、フォトリソグラフィープロセス全般および関連プロセス装置の設計・製造・販売を行っております。 特に、凹凸やＶ溝のある基板または、角基板や不定形基板への均一性の高い塗布技術を有しております。さらに、高圧ジェットＮＭＰによるバリ、メタルの再付着の発生の無い剥離・リフトオフ装置を開発し、販売しております。 その他、ポリイミド・ＰＢＦ・ＯＣＤ・ＷＡＸ等各種塗布装置、高温ベーキング装置、スピンドライヤー装置等取り扱っております。 お客様の仕様・予算により装置をカスタマイズしてお作りしております。 また、各種ウェハ、基板等の販売も行っております。