50種類以上もの薄膜コーティングを1個からでも対応可能！宇宙開発技術から生まれたイオンプレーティング
イオンプレーティング法は、真空蒸着法の発展型です。 真空蒸着法と同じように、膜にしたい材料を真空中で蒸発（あるいは昇華）させ、ガラスやシリコンウエハーなどの基板上に堆積させます。 イオンプレーティング法の特徴は、蒸発粒子をプラズマ中を通過させることで、プラスの電荷を帯びさせ、 基板側にマイナスの電荷を印加することで、蒸発粒子を引き付けて基板上に堆積させて、薄膜を形成する方法です。 用途に応じて部品・素材に新たな機能を施すことが可能です。 【イオンプレーティングの特長】 ■真空蒸着より密着力が強い ■低温でのコーティングが可能（極一部の膜種除く） ■幅広い膜種に対応可能 ■成膜条件の多様性が得られる ■酸化膜・窒化膜・炭化膜など反応膜への応用が可能 ■真空蒸着より影への膜の付きまわりが良い ■合金膜が可能
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基本情報
■対応膜種 金属膜：Al、Au、Ag、Cu、Ni、Cr、Mg、B、Ti、Zr、Nb、Mo、Pd、In、Si、Ta、W、Sn、Pt など 積層膜：Au/Ni/Cr、Au/Pt/Ti、Au/Pd/Ti、Au/Cr、Cu/Cr など 酸化膜：Al2O3、SiO2、TiO2、Cr2O3、ITO、MgO、NbO、Ta2O5、WO3、ZrO2、ZnO など 窒化膜：AlN、BN、CrN、MoN、NbN、SiN、TaN、TiN など 炭化膜：SiC、TiC、BC など ■最大搭載可能サイズ：800×1000mm ※小型装置から大型装置まで幅広く保有しております。 ■対応可能基板 ・Si Wafer ・ガラス ・フィルム ・セラミックス ・金属材 他
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企業情報
弊社ではイオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる 機能性薄膜の受託加工（コーティングサービス）を行っております。 発足当初より導電性や絶縁性、耐食性など『機能性薄膜』に重点を置き、 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、 試作・開発・研究などの少量から、中小ロットの生産まで、 幅広いご要望にお応えするべく体制を整えて参りました。 現在、Φ３００mmサイズの小型機から １０００mm×９００mmの成膜エリアを持つインライン方式の量産機まで 計11台の成膜装置が稼動しております。 なお、お客様からお預かりした基板の開封から成膜品の梱包までの 全工程をクリーンル―ム内で行っております。 機能性薄膜をご検討の際は、お気軽にお声掛けください！ 柔軟な対応と35年以上の実績をもとに、お客様のご要望にお応えします！ ※HPに展示会出展情報も記載しております。 ぜひご覧ください。