スパッタターゲットの真空乾燥や真空部品の真空乾燥、治具等の真空乾燥に利用可能！
『真空加熱乾燥炉』は、自動乾燥プロセスレシピが30通りあります。 使用温度範囲は最高450℃。スパッタターゲットの真空乾燥をはじめ、 真空部品の真空乾燥や、治具等の真空乾燥にご利用いただけます。 各種オーダーメイドも製作可能ですので、ご用命の際はお気軽に お問い合わせください。 【特長】 ■使用温度範囲：最高450℃ ■到達圧力：10Pa ■自動乾燥プロセスレシピ：30通り ■試料棚：2段 ■各種オーダーメイドも製作可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【仕様】 ■有効寸法：600W x 500D x 200H ■試料棚（1段）：2段 ■加熱温度：最高450℃ ■真空排気：DP ■チャンバ冷却：水冷 ■制御操作 ・制御：PLC ・操作：タッチパネルまたはPC ■データロギング：外部メモリまたはPC ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■スパッタターゲットの真空乾燥 ■真空部品の真空乾燥 ■治具等の真空乾燥 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
ジャパンクリエイトは、多様化する半導体産業に高精度化・省力化・微細化に対応すべく最先端技術にチャレンジして参りました。 私たちは、ハイテクノロジーに無限の可能性を求めて、ユーザーのニーズにマッチした確かなノウハウを独自性で創造します。 自らハイレベルな技術を目指して歩み続けます。