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最終更新日:2022年01月18日

つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー
つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー
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可視光から紫外線領域まで透明、イオンアシスト蒸着によるアモルファスアルミナ膜は非常に緻密でバリア膜として使えます。

イオンアシスト蒸着によるアモルファスアルミナ膜が結晶の粒子が50nm以下で均一な微細構造の超緻密な酸素バリア膜です。可視光から紫外線領域まで透明ですので様々な用途に使うことができます。

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アモルファスアルミナ膜.jpg

【強力な酸素バリア膜】透明で緻密なアモルファスアルミナ膜

アモルファスアルミナ膜.jpg
アモルファスアルミナ膜.jpg
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基本情報

石英ガラス上に2μmのアモルファスアルミナ膜をイオンアシスト蒸着で成膜すると可視光から紫外線領域での透過率は90%、50nm以下の均一な微細構造をもった膜質が得られます。強力な酸素バリア膜として期待されます。

価格帯

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用途/実績例

強力な酸素バリア膜として、加飾保護膜としてお使いいただけます。

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イオンアシスト蒸着法を用いたアモルファスアルミナ膜

イオンアシスト蒸着法を用いたアモルファスアルミナ膜

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電話番号・住所

つばさ真空理研株式会社は、長年の半導体業界における経験を活かし、 半導体製造装置部品の保護膜関連の顧問会社として2019年に創業しました。 2021年、これまで蓄積したノウハウを具現化し導入を加速化するべく、 日本で使用される製造装置については耐食性保護膜も供給する 「受託コーティングベンチャー企業」として生まれ変わりました。 高融点金属酸化膜を級密な膜として捉えると、半導体以外にも多くの 応用が広がってきます。 当社は、ニッチ産業の頂点を目指すことで多くの産業に貢献し、 しいては未来の持続的な発展に尽くしてまいります。

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