お客様の手書きによるイメージ図やCAD図等をマスク図に変換！フォトマスク作製を行います
当社では、『マスク作成』を承っております。 基板サイズ470×370まで対応可能。お客様の手書きによるイメージ図や CAD図等をマスク図に変換しフォトマスク作製を行います。 種類は「Crマスク」をはじめ、「Emマスク」や「Filmマスク」を ラインアップしております。 【特長】 ■お客様の手書きによるイメージ図やCAD図等をマスク図に変換 ■基板サイズ470×370まで対応可能 ※最小は4”×4”サイズ程 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【マスク種類】 ■Crマスク ・基板：石英ガラス/ソーダガラス ■Emマスク ・基板：ソーダガラス ■Filmマスク ・基板：フィルム ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
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用途／実績例
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企業情報
具体的には、各企業様や公的研究所機関、大学等の研究開発部門からフォトリソ・エッチング技術でACF・有機EL・材料評価・MEMS・太陽電池・装置評価用基板へのパターニング加工のご依頼を戴いております。 主に薄膜の金属膜のファインピッチのパターン加工を得意としておりますが、厚膜の場合もその仕様により加工方法含め検討致しますのでご相談下さい。 またスパッタ成膜加工のみもお受けしております。 基材はガラスのみならず、PC、PET、PI等各種フイルム基材等への加工もお受けしております。 また基材及び成膜手配からもお受け致します。